公开(公告)号：KR100997415B1

公开(公告)日：2010-11-30

申请号：KR1020087015911

申请日：2007-05-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토준야

IPC: G01R31/28 ,  H01L21/66 ,  G06T5/00 ,  H04N1/403

CPC classification number: G06T7/11 ,  G06T7/136 ,  G06T2207/30141 ,  G06T2207/30148

Abstract: 기판 상의 전극 패드를 촬상한 원화상을 이치화하는 이치화 방법이다. 이 방법은, 원화상을 제1 문턱값으로 이치화하여 전극의 이치화상을 생성하는 전극 화상 처리 스텝과, 전극의 이치화상으로부터, 전극에 물체가 접촉한 흔적으로 상정되는 부분을 포함하는 접촉 흔적 영역을 산출하는 접촉 흔적 영역 산출 스텝과, 접촉 흔적 영역에 해당하는 영역의 원화상을, 제1 문턱값과는 다른 제2 문턱값으로 이치화하여 접촉 흔적 영역 이치화상을 생성하는 접촉 흔적 화상 처리 스텝과, 전극의 이치화상과 접촉 흔적 영역 이치화상을, 대응하는 화소마다의 논리합을 취하여 합성하는 화상 합성 스텝을 구비한다.
접촉 흔적, 이치화, 논리합, 화상 합성

Abstract translation: 一种用于将基板上的电极焊盘的原始图像二值化的二值化方法。 该方法包括以下步骤：通过用第一阈值二值化原始图像来处理电极图像以产生电极的二值图像;计算接触迹线区域以计算接触迹线区域，包括预测为迹线的部分 从所述电极的二值图像接触所述电极的物体，通过将由所述接触迹线区域提取单元提取的区域的原始图像二值化为具有不同的第二阈值的值来处理接触迹线图像以生成所述接触迹线区域二值图像 并且通过以相应的像素为基础获取逻辑和来合成图像以合成电极和接触迹线区二进制图像的二值图像。

公开(公告)号：KR1020160078901A

公开(公告)日：2016-07-05

申请号：KR1020150183716

申请日：2015-12-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 누마쿠라마사히로 ,  이시카와요시카즈 ,  하마다도시히코 ,  사토준야 ,  고바야시도시유키 ,  오타케쇼우이치

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/68 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01J37/32009 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67742

Abstract: [과제] 위치검출기에대한기판의반송을억제하여, 처리량의향상을도모한다. [해결수단] 기판을처리하는프로세스모듈과, 기판의위치를검출하는위치검출기와, 동일한프로세스모듈내에서처리되는기판중에서, 설정된프로세스모듈의측정간격에따라서선택된기판의위치를측정하도록상기위치검출기를제어하는제어부를갖는기판처리장치가제공된다.

Abstract translation: 本发明是为了抑制位置检测器上的基板转印，促进了生产量的增加。 提供了一种基板处理装置，其包括用于处理基板的处理模块; 用于检测所述基板的位置的位置检测器; 以及控制单元，用于根据在相同处理模块内处理的基板之间的设定处理模块的测量距离来控制位置检测器来测量所选择的基板的位置。

公开(公告)号：KR1020080089370A

公开(公告)日：2008-10-06

申请号：KR1020087015911

申请日：2007-05-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토준야

IPC: G01R31/28 ,  H01L21/66 ,  G06T5/00 ,  H04N1/403

CPC classification number: G06T7/11 ,  G06T7/136 ,  G06T2207/30141 ,  G06T2207/30148

Abstract: Provided is a binarizing method for binarizing an original image having taken an electrode pad on a substrate. This method comprises the electrode image processing step of creating a binary image of an electrode by binarizing the original image with a first threshold value, the contact trace area calculating step of calculating a contact trace area containing the portion imagined as the trace, at which an object has contacted with the electrode, from the binary image of the electrode, the contact trace image processing step of creating a contact trace area binary image by binarizing the original image of the area corresponding to the contact trace area, with a second threshold value different from the first threshold value, and the image synthesizing step of synthesizing the binary image of the electrode and the contact trace binary image by taking their logical sum for each corresponding pixel.

Abstract translation: 提供了一种二值化方法，用于将已经在基板上取得电极焊盘的原始图像二值化。 该方法包括：电极图像处理步骤，通过利用第一阈值二值化原始图像来生成电极的二值图像;接触迹线区域计算步骤，计算包含被想象为痕迹的部分的接触迹线区域， 物体已经通过电极的二值图像与电极接触，通过二维化与接触迹线区域相对应的区域的原始图像来形成接触迹线区域二值图像的接触迹线图像处理步骤具有不同的第二阈值 以及图像合成步骤，通过对每个对应的像素取其逻辑和来合成电极的二值图像和接触迹线二值图像。