公开(公告)号：KR1020080060165A

公开(公告)日：2008-07-01

申请号：KR1020070136193

申请日：2007-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사까이미쯔히로 ,  데라다다까시 ,  소오마야스따까

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/677 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67248

Abstract: A substrate processing apparatus is provided to improve throughput and reduce foot print of a dehydration bake processing section by performing the dehydration bake processing in a shorter transfer path than the conventional hydration bake unit using a heat plate heater. A substrate processing apparatus, which performs a hydrophobic process to a processed substrate(G), comprises a transfer unit(80), a dehydration bake unit(38) and an adhesion processing unit(98). The dehydration bake unit dehydrates the surface of the substrate, and heats the substrate by irradiating infrared rays from a heating element(84). The adhesion processing unit hydrates the substrate as hydrophobic by exposing the processed surface of the processed substrate.

Abstract translation: 提供了一种基板处理装置，通过在比使用热板加热器的传统水化烘烤单元更短的传送路径中进行脱水烘烤处理来提高脱水烘烤处理部的生产量和减少脚印。 对处理过的基板（G）进行疏水处理的基板处理装置具有转印单元（80），脱水烘焙单元（38）和粘合处理单元（98）。 脱水烘烤单元使基板的表面脱水，并且通过从加热元件（84）照射红外线来加热基板。 粘合处理单元通过使经处理的基板的经处理的表面曝光而将基板水解成疏水性。

公开(公告)号：KR101139202B1

公开(公告)日：2012-04-26

申请号：KR1020070049646

申请日：2007-05-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라오다께시 ,  후지모또아끼히로 ,  소오마야스따까

IPC: B05C5/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B15/55 ,  B05B15/555 ,  B05B15/557

Abstract: 기판에 처리액을 토출하는 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치에 있어서, 기판 처리에 문제점이 생기지 않도록 노즐 선단부를 효율적으로 세정하고, 또한 장치 비용을 저감할 수 있는 노즐 세정 장치, 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체를 제공하는 것이다.
노즐(30)을 수용하고 적어도 노즐(30) 선단부 주위의 내주면이 깔때기 형상으로 형성된 세정실(1)과, 세정실(1)의 깔때기 형상의 내주면에 따라서 주위 방향으로 세정액으로서의 용제(T)를 유입하는 세정액 공급 수단을 구비하고, 노즐(30)이 세정실(1) 내에 수용되었을 때, 세정액 공급 수단(21)이 세정실(1) 내에 용제(T)를 소정량 공급하고, 노즐(30)의 주위를 선회하는 용제(T)의 소용돌이가 형성된다.
노즐, 세정액 공급 수단, 용제, 세정실, 유로관, 폐액관

公开(公告)号：KR1020070113145A

公开(公告)日：2007-11-28

申请号：KR1020070049646

申请日：2007-05-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라오다께시 ,  후지모또아끼히로 ,  소오마야스따까

IPC: B05C5/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B15/55 ,  B05B15/555 ,  B05B15/557

Abstract: An apparatus for cleaning a nozzle discharging a solution to a substrate, a method for cleaning a nozzle, and a computer-readable recording medium for the method are provided to clean the front terminal part of a nozzle effectively and to reduce the cost of an apparatus. An apparatus for cleaning a nozzle comprises a cleaning room(1) which receives a nozzle and has a funnel-shaped inner circumference of the surroundings of the nozzle front terminal part; and a cleaning solution supply unit(4) which supplies a cleaning solution in the surrounding direction along the funnel-shaped inner circumference of the cleaning room, wherein the cleaning solution supply unit supplies a small amount of a cleaning solution to the cleaning room when the nozzle is received in the cleaning room so as to form the vortex of solution revolving the nozzle.

Abstract translation: 一种用于清洁喷射到基板上的溶液的喷嘴的装置，用于清洁喷嘴的方法以及用于该方法的计算机可读记录介质的装置被设置成有效地清洁喷嘴的前端部分并降低装置的成本 。 一种用于清洁喷嘴的设备包括一个清洁室（1），该清洁室（1）容纳一个喷嘴，并具有一个位于喷嘴前端子部分周围的漏斗形内周; 以及清洁液供给单元（4），其沿着清洁室的漏斗状内周向周围的方向供给清洗液，其中，所述清洗液供给单元将清洗液供给到所述清洁室， 喷嘴被接收在清洁室中，以形成旋转喷嘴的溶液涡流。