公开(公告)号：KR101426665B1

公开(公告)日：2014-08-05

申请号：KR1020137001638

申请日：2011-07-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다끼구찌야스시 ,  야마모또다로 ,  야마하따쯔또무 ,  후지모또아끼히로 ,  후지무라고오지

IPC: H01L21/027 ,  B05D1/40 ,  B05C11/08

CPC classification number: B08B3/04 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719

Abstract: 본 발명은, 컵 체내에서 기판을 수평하게 보유 지지하고, 약액을 공급하여 기판에 대하여 액 처리를 행하는 데 있어서, 약액용의 노즐의 수를 억제하면서 높은 스루풋으로 처리할 수 있는 액 처리 장치를 제공하는 것이다.
액 처리로서 현상 처리를 예로 들면, 2가지 종류의 현상 처리 방식에 대응할 수 있도록 2종류의 현상 노즐을 준비하고, 양쪽 방식 중 노즐의 구속 시간이 긴 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 제1 액 처리 모듈(1, 2)에 대하여 개별적으로 설치하고, 노즐의 구속시간이 짧은 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)에 대하여 공유화한다. 그리고 공유화한 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)의 중간 위치에서 대기하도록 구성한다.

公开(公告)号：KR1020080099150A

公开(公告)日：2008-11-12

申请号：KR1020080041630

申请日：2008-05-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오가따노부히로 ,  이나다히로이찌 ,  야마모또다로오 ,  후지모또아끼히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/08 ,  B05D1/40 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: The coating film forming apparatus is provided to improve the cleaning capability of the peripheral edge of substrate to facilitate the maintenance and repair. The contamination of the transfer arm can be suppressed. The coating film forming apparatus comprises the spin chuck(11) installed within the outer cup(31); the inner cup(34) which is installed in order to surround the lower area of the substrate(W) held by the spin chuck. The coating film is formed by supplying the chemical solution in the central part of the substrate supported by the spin chuck and by rotating the wafer. The cleaning nozzle(21) can be attached and detached from a protrusion part, connecting with the cleansing liquid supply pipe(52). The peripheral edge of substrate is cleaned by supplying the cleaning solution in the rear peripheral part of the substrate in the state of mounting the protrusion part.

Abstract translation: 提供涂膜形成装置以提高基板的周缘的清洁能力，便于维护和修理。 可以抑制转印臂的污染。 涂膜形成装置包括安装在外杯（31）内的旋转卡盘（11）。 内杯（34），其被安装以围绕由旋转卡盘保持的基底（W）的下部区域。 通过在由旋转卡盘支撑的基板的中心部分提供化学溶液并旋转晶片来形成涂膜。 清洁喷嘴（21）可以从与清洁液体供给管（52）连接的突出部分分离。 在安装突出部的状态下，通过在基板的后周部供给清洗液来清洗基板的周缘。

公开(公告)号：KR101061637B1

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：KR1020060120289

申请日：2006-12-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요네미즈아끼라 ,  후지모또아끼히로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67132 ,  H01L21/67011 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68742

Abstract: 본 발명의 과제는 기판의 이면에 부착되어 있는 파티클을 간이하고 또한 확실하고, 신속하게 제거하는 것이다.
점착부를 위로 향하게 하여 점착 시트를 지지대에 적재하고, 그 위에 기판을 적재한 후, 기판의 이면측의 기압을 표면측의 기압보다 낮게 함으로써 점착 시트와 기판을 밀착시키고, 계속해서 그 기압차를 해제하여 지지대 및 점착 시트에 각각 형성된 구멍을 거쳐서 지지대의 하방측으로부터 승강 핀에 의해 기판을 들어올려 점착 시트로부터 박리하고 있다. 이에 의해, 기판 이면의 파티클을 신속하고 또한 확실하고, 간단하게 제거할 수 있다. 또한, 노광 스테이지에 대응한 돌기를 구비한 지지대를 이용함으로써 기판을 노광 스테이지에 적재하였을 때에 노광에 악영향을 미치는 파티클을 제거할 수 있고, 양호한 패턴을 얻을 수 있다.
점착 시트, 승강 핀, 노광 스테이지, 송출 롤, 리프트 핀

Abstract translation: 本发明的目的在于容易且可靠且迅速地去除附着在基板背面的粒子。

公开(公告)号：KR1020130032365A

公开(公告)日：2013-04-01

申请号：KR1020137001638

申请日：2011-07-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다끼구찌야스시 ,  야마모또다로 ,  야마하따쯔또무 ,  후지모또아끼히로 ,  후지무라고오지

IPC: H01L21/027 ,  B05D1/40 ,  B05C11/08

CPC classification number: B08B3/04 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719 ,  B05C11/08 ,  B05D1/40 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  H01L21/0273

Abstract: 본 발명은, 컵 체내에서 기판을 수평하게 보유 지지하고, 약액을 공급하여 기판에 대하여 액 처리를 행하는 데 있어서, 약액용의 노즐의 수를 억제하면서 높은 스루풋으로 처리할 수 있는 액 처리 장치를 제공하는 것이다.
액 처리로서 현상 처리를 예로 들면, 2가지 종류의 현상 처리 방식에 대응할 수 있도록 2종류의 현상 노즐을 준비하고, 양쪽 방식 중 노즐의 구속 시간이 긴 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 제1 액 처리 모듈(1, 2)에 대하여 개별적으로 설치하고, 노즐의 구속시간이 짧은 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)에 대하여 공유화한다. 그리고 공유화한 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)의 중간 위치에서 대기하도록 구성한다.

公开(公告)号：KR101139202B1

公开(公告)日：2012-04-26

申请号：KR1020070049646

申请日：2007-05-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라오다께시 ,  후지모또아끼히로 ,  소오마야스따까

IPC: B05C5/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B15/55 ,  B05B15/555 ,  B05B15/557

Abstract: 기판에 처리액을 토출하는 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치에 있어서, 기판 처리에 문제점이 생기지 않도록 노즐 선단부를 효율적으로 세정하고, 또한 장치 비용을 저감할 수 있는 노즐 세정 장치, 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체를 제공하는 것이다.
노즐(30)을 수용하고 적어도 노즐(30) 선단부 주위의 내주면이 깔때기 형상으로 형성된 세정실(1)과, 세정실(1)의 깔때기 형상의 내주면에 따라서 주위 방향으로 세정액으로서의 용제(T)를 유입하는 세정액 공급 수단을 구비하고, 노즐(30)이 세정실(1) 내에 수용되었을 때, 세정액 공급 수단(21)이 세정실(1) 내에 용제(T)를 소정량 공급하고, 노즐(30)의 주위를 선회하는 용제(T)의 소용돌이가 형성된다.
노즐, 세정액 공급 수단, 용제, 세정실, 유로관, 폐액관

公开(公告)号：KR1020070113145A

公开(公告)日：2007-11-28

申请号：KR1020070049646

申请日：2007-05-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라오다께시 ,  후지모또아끼히로 ,  소오마야스따까

IPC: B05C5/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B15/55 ,  B05B15/555 ,  B05B15/557

Abstract: An apparatus for cleaning a nozzle discharging a solution to a substrate, a method for cleaning a nozzle, and a computer-readable recording medium for the method are provided to clean the front terminal part of a nozzle effectively and to reduce the cost of an apparatus. An apparatus for cleaning a nozzle comprises a cleaning room(1) which receives a nozzle and has a funnel-shaped inner circumference of the surroundings of the nozzle front terminal part; and a cleaning solution supply unit(4) which supplies a cleaning solution in the surrounding direction along the funnel-shaped inner circumference of the cleaning room, wherein the cleaning solution supply unit supplies a small amount of a cleaning solution to the cleaning room when the nozzle is received in the cleaning room so as to form the vortex of solution revolving the nozzle.

Abstract translation: 一种用于清洁喷射到基板上的溶液的喷嘴的装置，用于清洁喷嘴的方法以及用于该方法的计算机可读记录介质的装置被设置成有效地清洁喷嘴的前端部分并降低装置的成本 。 一种用于清洁喷嘴的设备包括一个清洁室（1），该清洁室（1）容纳一个喷嘴，并具有一个位于喷嘴前端子部分周围的漏斗形内周; 以及清洁液供给单元（4），其沿着清洁室的漏斗状内周向周围的方向供给清洗液，其中，所述清洗液供给单元将清洗液供给到所述清洁室， 喷嘴被接收在清洁室中，以形成旋转喷嘴的溶液涡流。

公开(公告)号：KR1020070058337A

公开(公告)日：2007-06-08

申请号：KR1020060120289

申请日：2006-12-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요네미즈아끼라 ,  후지모또아끼히로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67132 ,  H01L21/67011 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68742

Abstract: A method for removing the particles on a substrate is provided to remove the particles having bad influence on an exposure process when a substrate is placed on an exposure stage by using a support unit having a protrusion corresponding to the exposure stage. An adhesion sheet is placed on a support unit wherein an adhesion part of the adhesion sheet faces upward. A substrate is placed on the adhesion sheet wherein the front surface of the substrate faces upward. The pressure of the back surface of the substrate is lowered as compared with the front surface of the substrate so that the back surface of the substrate is closely attached to the adhesion part of the adhesion sheet. A pressure difference between the front and back surfaces of the substrate is removed. The substrate is pushed up from the lower part of the support unit through the holes formed in the support unit and the adhesion sheet by an elevation pin so as to be separated from the adhesion sheet. The adhesion sheet can be pressurized with the support unit by a sealing material of ring type surrounding the substrate so as to airtightly separate a substrate placement region from the lower space of the support unit.

Abstract translation: 提供了去除基板上的颗粒的方法，以通过使用具有对应于曝光阶段的突起的支撑单元将基板放置在曝光台上时，去除对曝光过程具有不良影响的颗粒。 粘合片放置在支撑单元上，其中粘合片的粘合部分面向上。 将基板放置在粘合片上，其中基板的前表面朝上。 与基板的前表面相比，基板的背面的压力降低，使得基板的背面紧密地附着到粘合片的粘合部分。 去除衬底前表面和后表面之间的压力差。 基板从支撑单元的下部通过形成在支撑单元中的孔和通过升降销的粘合片推动，以与粘合片分离。 粘合片可以用支撑单元通过围绕基板的环形密封材料加压，从而将基板放置区域从支撑单元的下部空间气密地分离。

公开(公告)号：KR101186374B1

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：KR1020080041630

申请日：2008-05-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오가따노부히로 ,  이나다히로이찌 ,  야마모또다로오 ,  후지모또아끼히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/08 ,  B05D1/40 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 본 발명의 과제는, 기판의 주위 단부의 세정 능력이 높고, 또한 유지 보수가 용이한 도포막 형성 장치 등을 제공하는 것이다.
도포막 형성 장치는 외부 컵(31) 내에 설치된 스핀 척(11)과, 이 스핀 척(11)에 보유 지지된 기판(W)의 하방 영역을 둘러싸도록 설치된 내부 컵(34)을 구비하고, 스핀 척(11)에 보유 지지된 기판(W)의 중심부에 약액을 공급하여 웨이퍼(W)를 회전시킴으로써 도포막을 형성한다. 세정 노즐(21)은 내부 컵(34)에 마련된 절결부(37)에 세정액 공급관(52)이 접속된 상태에서 착탈할 수 있도록 구성되고, 절결부(37)에 장착된 상태에서 기판(W)의 이면 주연부에 세정액을 공급함으로써 기판(W)의 주위 단부를 세정한다.
컵, 스핀 척, 기판, 도포막, 세정 노즐