公开(公告)号：KR1020160134510A

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：KR1020160057060

申请日：2016-05-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이시다세이키 ,  후쿠이쇼고 ,  시노하라히데타카

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/324 ,  H01L21/54 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/02041 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68792

Abstract: 약액과가스를혼합함으로써생성된약액의액적을이용하여기판에부착된폴리머를제거하는데 있어서, 충분한제거성능을얻는다. 기판처리장치는가스공급기구(71B)에의해공급된가스와가열약액공급기구(71A)에의해공급된가열된약액을혼합함으로써형성된약액의액적을기판(W)의표면을향하여토출하는제1 노즐(41)과, 가열순수공급기구(75)에의해공급된가열된순수를기판의이면을향하여토출하는제2 노즐(47)을갖는다. 제1 노즐은제2 노즐로부터공급된가열순수에의해이면측으로부터가열되어온도가상승한기판의표면에액적을공급한다.

Abstract translation: 公开了一种基板处理装置。 基板处理装置包括：第一喷嘴，其朝向基板的前表面喷射化学液体的液滴;液滴通过混合由气体供给机构供给的气体和被加热的药液供给机构供给的加热的化学液体而形成 以及第二喷嘴，其将由加热的去离子水供给机构供应的经加热的去离子水喷射到基板的后表面。 第一喷嘴通过从第二喷嘴供应的加热的去离子水将液滴从其后表面加热到衬底的前表面。

公开(公告)号：KR101847663B1

公开(公告)日：2018-04-10

申请号：KR1020130154633

申请日：2013-12-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히다카쇼이치로 ,  모우리노부히코 ,  시노하라히데타카

IPC: H01L21/302

Abstract: 본발명은기판의세정시간을단축하고, 면내에서균일한세정결과를얻을수 있는기판세정장치등을제공하는것을목적으로한다. 기판세정장치(1)에서, 기판유지부(22)는기판(W)을수평으로유지하고, 회전기구(24)는이 기판유지부(22)를연직축둘레로회전시킨다. 제1 세정부재(41) 및제2 세정부재(42)는서로수평방향으로떨어져위치하고, 기판이회전하고있을때에이 기판의일면을각각세정한다. 이들제1 세정부재(41) 및제2 세정부재(42)는수평방향으로이동할수 있고, 상하방향으로독립적으로승강할수 있게구성되며, 제어부(6)는, 제1 세정부재(41) 및제2 세정부재(42)를기판(W)상에서이동시켜이 기판을세정하고, 제1 세정부재(41) 및제2 세정부재(42)의위치에서의미리취득한기판(W)의상면의높이위치에관한정보에기초하여, 각세정부재(41, 42)의높이위치를조정한다.

公开(公告)号：KR1020140083877A

公开(公告)日：2014-07-04

申请号：KR1020130154633

申请日：2013-12-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히다카쇼이치로 ,  모우리노부히코 ,  시노하라히데타카

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: An objective of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus for reducing cleaning time of a substrate and for uniformly cleaning a surface of the substrate. The cleaning device (1) includes a substrate supporting unit (22) to support a substrate (W) horizontally, and a rotating device (24) to rotate the substrate supporting unit (22) around a vertical axis. A first cleaning member (41) and a second cleaning member (42) are horizontally spaced apart from each other, and each member cleans one side of the substrate when the substrate is rotating. The first cleaning member (41) and the second cleaning member (42) can move in a horizontal direction, and are configured to individually move up and down. A control unit (6) cleans the substrate by moving the first cleaning member (41) and the second cleaning member (42) on the substrate (W), and adjusts the vertical position of the each cleaning member (41, 42) based on information regarding a vertical position of an upper surface of the substrate (W) obtained in advance from a position of the first cleaning member (41) and a second cleaning member (42).

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种用于减少基板的清洁时间并均匀地清洁基板的表面的基板清洁装置。 清洁装置（1）包括用于水平地支撑基板（W）的基板支撑单元（22）和用于使基板支撑单元（22）绕垂直轴旋转的旋转装置（24）。 第一清洁构件（41）和第二清洁构件（42）彼此水平间隔开，并且当基板旋转时，每个构件清洁基板的一侧。 第一清洁部件41和第二清扫部件42能够沿水平方向移动，并且能够分别上下移动。 控制单元（6）通过将第一清洁构件（41）和第二清洁构件（42）移动到基板（W）上来清洁基板，并且基于每个清洁构件（41,42）的垂直位置 关于从第一清洁部件（41）的位置和第二清洁部件（42）预先获得的基板（W）的上表面的垂直位置的信息。