-
公开(公告)号：KR1020120088639A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：KR1020120077737
申请日：2012-07-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304 , B08B3/04 , B08B1/02
Abstract: PURPOSE: A substrate cleaning apparatus, a substrate cleaning method and a storage medium are provided to improve detergency by varying a compressive force of a brush during cleaning. CONSTITUTION: A substrate rotation apparatus rotates a substrate supported by a substrate supporting apparatus. A cleaning-liquid supply apparatus(10) supplies a cleaning liquid to the substrate. A cleaning apparatus(20) includes a brush(21) comprising a sponge-like resin. A brush compressing apparatus compresses the brush. A control part(30) controls the cleaning by varying a compressive force applied to the brush.
Abstract translation: 目的：提供基板清洗装置，基板清洗方法和存储介质，以通过改变清洁期间刷子的压缩力来改善洗涤力。 构成：基板旋转装置旋转由基板支撑装置支撑的基板。 清洗液供给装置（10）向基板供给清洗液。 清洁装置（20）包括包括海绵状树脂的刷子（21）。 刷压缩装置压缩刷子。 控制部件（30）通过改变施加到刷子的压缩力来控制清洁。
-
公开(公告)号：KR1020170113090A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020170028960
申请日：2017-03-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/67046 , B08B1/002 , B08B17/00 , H01L21/67051 , H01L21/68735
Abstract: 기판을정밀도좋게두면서, 기판의하면에있어서의액 잔류를저감하는것이다. 실시형태에따른액 처리장치는경사부와복수의지지부재와처리액공급부와회전기구를구비한다. 경사부는기판의하방에배치되고, 기판의외측으로부터기판의내측을향해내리막경사지고또한기판의둘레방향을따라연장되는경사면을가진다. 복수의지지부재는경사면에대하여돌출하여마련되고, 기판을하방으로부터지지한다. 처리액공급부는복수의지지부재에지지된기판의상면에처리액을공급한다. 회전기구는경사부를회전시킨다. 또한, 복수의지지부재는기판의외측으로부터기판의내측을향해연장되는좁고긴 형상을가진다.
Abstract translation: 在保持基板高精度的同时减少基板中的液体残留物。 本实施方式的液体处理装置具有倾斜部，多个支承部件，处理液供给部以及旋转机构。 倾斜部分设置在基板下方并具有倾斜表面，该倾斜表面从基板的外侧朝向基板的内侧向下倾斜并且沿基板的周向延伸。 多个支撑部件从倾斜面突出设置，从下方支撑基板。 处理液体供应单元将处理液体供应到由多个支撑构件支撑的基板的上表面。 旋转机构旋转倾斜部分。 此外，多个支撑构件具有从基板的外侧朝向基板的内侧延伸的狭窄且长的形状。
-
公开(公告)号：KR101682748B1
公开(公告)日：2016-12-12
申请号：KR1020137006291
申请日：2012-09-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67046 , G03F7/42 , H01L21/67051 , H01L21/67173 , H01L21/68728
Abstract: 본발명의기판액처리장치는, 회전구동부에의해회전되는회전판과, 상기회전판의둘레가장자리를따라연장되고기판의둘레가장자리를지지하는기판지지부와, 상기기판지지부의상단에마련되고, 상기기판을상기기판지지부에안내하는안내부와, 상기기판지지부에의해상기둘레가장자리가지지되는상기기판에대하여위쪽으로부터액체를공급하는공급부를구비하며, 상기안내부가, 상기회전판의둘레방향을따라적어도 3개이상마련되고, 상기기판지지부에의해상기둘레가장자리가지지되는상기기판의표면보다높은높이를갖고있는것이다.
Abstract translation: 该基板用液体处理装置具有通过旋转驱动单元旋转的旋转板（23P） 基板支撑单元（51），每个基板支撑单元（51）沿着旋转板（23P）的周向端部延伸并支撑基板的周向端部; 引导单元（52），每个引导单元设置在每个基板支撑单元（51）的上端，并将基板引导到每个基板支撑单元（51）; 以及从上方向基板供给液体的供给单元（24B），所述基板的周向端部通过基板支撑单元（51）支撑。 在旋转板（23P）的圆周方向上设置至少三个引导单元（52），并且其高度比通过基板支撑单元（51）支撑圆周端的基板的表面高。
-
公开(公告)号：KR1020090131641A
公开(公告)日：2009-12-29
申请号：KR1020090049421
申请日：2009-06-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: B08B7/04 , B08B1/04 , B08B3/04 , H01L21/304
Abstract: PURPOSE: Substrate cleaning apparatus and method and a storage medium are provided, which make a substrate washed effectively by changing the shape of a brush according to the sticking state of material. CONSTITUTION: A substrate cleaning apparatus(1) comprises a spin chuck(3), a motor(4), a cleaning solution feeding unit(10), and a cleaning unit(20). The spin chuck keeps the substrate to be possible to rotate. The motor rotates the substrate maintained by the spin chuck. The brush comes into contact with at least end face of the substrate in washing, is made of sponge type resin, and washes the end face of the substrate while being compacted by a brush compression device.
Abstract translation: 目的：提供基板清洁装置和方法以及存储介质，其通过根据材料的粘附状态改变刷子的形状来有效地洗涤基板。 构成：基材清洗装置（1）包括旋转卡盘（3），马达（4），清洗液供给单元（10）和清洁单元（20）。 旋转卡盘保持基板可以旋转。 电机旋转由旋转卡盘保持的基板。 刷子在洗涤时与基板的至少端面接触，由海绵型树脂制成，并且在用刷压装置压实的同时洗涤基板的端面。
-
公开(公告)号：KR1020140058391A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：KR1020137006291
申请日：2012-09-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67046 , G03F7/42 , H01L21/67051 , H01L21/67173 , H01L21/68728 , H01L21/0273 , H01L21/3046
Abstract: 본 발명의 기판 액처리 장치는, 회전 구동부에 의해 회전되는 회전판과, 상기 회전판의 둘레 가장자리를 따라 연장되고 기판의 둘레 가장자리를 지지하는 기판 지지부와, 상기 기판 지지부의 상단에 마련되고, 상기 기판을 상기 기판 지지부에 안내하는 안내부와, 상기 기판 지지부에 의해 상기 둘레 가장자리가 지지되는 상기 기판에 대하여 위쪽으로부터 액체를 공급하는 공급부를 구비하며, 상기 안내부가, 상기 회전판의 둘레 방향을 따라 적어도 3개 이상 마련되고, 상기 기판 지지부에 의해 상기 둘레 가장자리가 지지되는 상기 기판의 표면보다 높은 높이를 갖고 있는 것이다.
Abstract translation: 该基板用液体处理装置具有通过旋转驱动单元旋转的旋转板（23P） 基板支撑单元（51），每个基板支撑单元（51）沿着旋转板（23P）的周向端部延伸并支撑基板的周向端部; 引导单元（52），每个引导单元设置在每个基板支撑单元（51）的上端，并将基板引导到每个基板支撑单元（51）; 以及从上方向基板供给液体的供给单元（24B），所述基板的周向端部通过基板支撑单元（51）支撑。 在旋转板（23P）的圆周方向上设置至少三个引导单元（52），并且其高度比通过基板支撑单元（51）支撑圆周端的基板的表面高。
-
Patent Agency Ranking6.发明公开기판 이면 연마 장치, 기판 이면 연마 시스템 및 기판 이면 연마 방법 및 기판 이면 연마 프로그램을 기록한 기록 매체 有权用于抛光基板后表面的装置，用于抛光底板表面的系统，用于抛光底板表面的方法和具有用于抛光底板表面的程序的记录介质的装置
公开(公告)号：KR1020110137719A
公开(公告)日：2011-12-23
申请号：KR1020110037383
申请日：2011-04-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304 , B08B7/04 , B24B29/00 , B24B51/00
CPC classification number: B24B37/042
Abstract: PURPOSE: A substrate back side grinding apparatus, a substrate back side grinding system, a substrate back side grinding method and a recording medium recording the substrate back side grinding program are provided to prevent the degradation of substrate when grinding the rear side of substrate. CONSTITUTION: A substrate back side grinding apparatus comprises a substrate grinding unit(16,17) and a control unit. The substrate grinding unit grinds the back side of a substrate(5). The control unit controls the substrate grinding unit. The control unit controls the driving of the substrate grinding unit according to the information about treatment in the process before substrate back side grinding process. The substrate grinding unit has various kinds. A cleaning unit is equipped for cleaning the back side of the substrate.
Abstract translation: 目的：提供基板背面研磨装置，基板背面研磨系统，基板背面研磨方法和记录基板背面研磨程序的记录介质，以防止在研磨基板的背面时基板的劣化。 构成：基板背面研磨装置包括基板研磨单元（16,17）和控制单元。 基板研磨单元研磨基板（5）的背面。 控制单元控制基板研磨单元。 控制单元根据在基板背面研磨处理之前的处理的信息来控制基板研磨单元的驱动。 基板研磨单元具有各种种类。 清洁装置用于清洁基板的背面。
-
公开(公告)号：KR1020100130951A
公开(公告)日：2010-12-14
申请号：KR1020100048560
申请日：2010-05-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B1/04 , H01L21/67046 , H01L21/67051
Abstract: PURPOSE: A substrate liquid processing apparatus, a substrate liquid processing method, and a storage medium storing substrate liquid processing program are provided to improve the contaminant removing rate of a substrate by forming the rotation speed ratio of substrate rotation speed to cleaning body rotation speed at the range of 1:1 to 3.5:1. CONSTITUTION: A substrate rotation unit(19) rotates a substrate(2) inside the chamber(18). A drive motor(23) is attached on the center of the bottom of the chamber. A cleaning unit(20) cleans the surface of the substrate. A peripheral part cleaning unit(21) washes the peripheral part of the substrate with the rotating cleaning body.
Abstract translation: 目的：提供一种基板液体处理装置，基板液体处理方法和存储基板液体处理程序的存储介质，以通过将基板旋转速度与清洁体旋转速度的旋转速度比形成为提高基板的污染物去除率 范围为1：1至3.5：1。 构成：衬底旋转单元（19）使腔室（18）内部的衬底（2）旋转。 驱动马达（23）安装在腔室底部的中心。 清洁单元（20）清洁基板的表面。 周边部件清洁单元（21）用旋转的清洁体洗涤基板的周边部分。
-
公开(公告)号：KR1020100050397A
公开(公告)日：2010-05-13
申请号：KR1020090100795
申请日：2009-10-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: PURPOSE: A substrate process device and a method for cleaning a substrate are provided to reduce a process time by cleaning the edge of the lower side and the cross section of the substrate using a second cleaning unit when the upper side of the substrate with a circuit pattern is cleaned using a first cleaning unit. CONSTITUTION: A substrate maintaining unit(19) maintains a substrate. A first cleaning unit(25) cleans the edge of the upper side of the substrate with a pressure cleaning solution. A second cleaning unit(26) cleans the edge of the lower side and the cross section of the substrate in contact with the cleaning unit.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置和清洁基板的方法，以便当具有电路的基板的上侧时，通过使用第二清洁单元清洁基板的下侧边缘和基板的横截面来缩短处理时间 图案使用第一清洁单元进行清洁。 构成：衬底维持单元（19）保持衬底。 第一清洁单元（25）用压力清洁溶液清洁基板的上侧的边缘。 第二清洁单元（26）清洁与清洁单元接触的底部的边缘和基底的横截面。
-
公开(公告)号：KR1020090131642A
公开(公告)日：2009-12-29
申请号：KR1020090049906
申请日：2009-06-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B1/00 , A46B9/06 , A46B13/008 , A46B15/0002 , A46B15/0006 , A46B2200/3073 , H01L21/67046 , H01L21/67051
Abstract: PURPOSE: A substrate cleaning apparatus is provided to effectively clean the periphery of a substrate by distributing a cleaning force into a diametric direction through a state change part of a brush. CONSTITUTION: A substrate holding device rotatably holds a substrate. A cleaning solution supply device(10) supplies a cleaning solution to the substrate held to the substrate holding device. A cleaning apparatus(20) includes a brush(21) and a pressing device. The brush has a periphery cleaning part. The periphery cleaning part is contacted with the periphery of the substrate. The pressing device presses the periphery cleaning part to the periphery of the substrate. The periphery cleaning part has a state change part. A state of the state change part is changed according to a diametric direction in order to distribute a cleaning force into the diametric direction.
Abstract translation: 目的：提供一种基板清洗装置，通过将刷子的状态变化部分向直径方向分配清洁力，有效地清洁基板的周边。 构成：基板保持装置可旋转地保持基板。 清洗液供给装置（10）向保持在基板保持装置的基板供给清洗液。 清洁装置（20）包括刷子（21）和按压装置。 刷具有周边清洁部分。 周边清洁部分与基板的周边接触。 按压装置将周边清洁部按压到基板的周边。 周边清洁部具有状态改变部。 根据直径方向改变状态变化部的状态，以便将清洁力分配到直径方向。
-
公开(公告)号：KR101847663B1
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：KR1020130154633
申请日：2013-12-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
Abstract: 본발명은기판의세정시간을단축하고, 면내에서균일한세정결과를얻을수 있는기판세정장치등을제공하는것을목적으로한다. 기판세정장치(1)에서, 기판유지부(22)는기판(W)을수평으로유지하고, 회전기구(24)는이 기판유지부(22)를연직축둘레로회전시킨다. 제1 세정부재(41) 및제2 세정부재(42)는서로수평방향으로떨어져위치하고, 기판이회전하고있을때에이 기판의일면을각각세정한다. 이들제1 세정부재(41) 및제2 세정부재(42)는수평방향으로이동할수 있고, 상하방향으로독립적으로승강할수 있게구성되며, 제어부(6)는, 제1 세정부재(41) 및제2 세정부재(42)를기판(W)상에서이동시켜이 기판을세정하고, 제1 세정부재(41) 및제2 세정부재(42)의위치에서의미리취득한기판(W)의상면의높이위치에관한정보에기초하여, 각세정부재(41, 42)의높이위치를조정한다.
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
14
records
(took 0.024 seconds)
