公开(公告)号：KR1020070022844A

公开(公告)日：2007-02-27

申请号：KR1020070013270

申请日：2007-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아오키켄야

IPC: H01L21/304

Abstract: 스크러버 세정장치는, 처리용기로서 기능하는 컵, 이 컵의 안쪽에 설치된 기판 지지기구, 컵에 출입이 가능하도록 설치된 세정장치로 구성되어 있다. 기판 지지기구는, 기판을 진공 흡착하여 재치하며 회전과 승강이 가능한 스핀척, 이 스핀척의 주위에서 기판을 조건에 따라 밑으로부터 재치하여 승강할 수 있는 기판 지지부를 포함하고 있다. 세정기구는, 브러시 스크러버 기구와 제트 스크러버 기구를 구비한다. 브러시 스크러버 기구는, 원통모양의 브러시 면을 구비하는 롤브러시를 회전시켜 기판 표면을 문지르면서 기판 상을 주사하여 스크러빙 세정을 한다. 제트 스크러버 기구는, 1개 또는 복수개의 세정노즐을 기판의 표면을 향하게 하고 기판 바로 위에서 고압의 세정액을 토출하여 블로우 세정을 한다.
기판, 세정, 처리

公开(公告)号：KR1020010085431A

公开(公告)日：2001-09-07

申请号：KR1020010008572

申请日：2001-02-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아오키켄야

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: A method for cleaning a substrate is provided to stably and inexpensively perform a scrubbing cleaning process, to rapidly make a scrubbing brush access the substrate and to improve cleaning efficiency by using a composite cleaning apparatus wherein a scrubbing cleaning process and a blow cleaning process are performed. CONSTITUTION: The substrate is located in the first position. The surface of the substrate supported in the first position is scrubbed and cleaned. At least a part of the substrate is transferred from the first position to the second position. Cleaning liquid is flowed to the surface of the substrate in the second position to perform cleaning process.

Abstract translation: 目的：提供一种清洁基材的方法，以便稳定且廉价地进行洗涤清洗过程，通过使用复合清洁装置来快速使洗刷刷进入基板并提高清洁效率，其中清洗清洗过程和吹扫清洗过程 被执行。 构成：基板位于第一位置。 支撑在第一位置的基底的表面被擦洗和清洁。 衬底的至少一部分从第一位置转移到第二位置。 清洗液在第二位置流到基板的表面，进行清洗处理。

公开(公告)号：KR100776626B1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：KR1020010055520

申请日：2001-09-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키츠요시 ,  유노하라카즈노리 ,  나카미츠타카시 ,  미야자키카즈히토 ,  사카이미츠히로 ,  아오키켄야

IPC: B05C9/00

Abstract: 본 발명의 액처리장치에 있어서의 하나의 실시형태인 현상처리유니트(DEV)(24a∼24c)는, 기판(G)을 보유유지하는 스핀척(spin chuck)(41)등의 보유유지수단과, 스핀척(41)에 보유유지된 기판(G)의 표면에 소정의 현상액을 토출하는 퍼들(puddle)형성용 노즐(80)과, 퍼들형성용 노즐(80)을 보유유지하는 노즐보유유지아암(51)과, 노즐보유유지아암(51)의 장방향(長方向) 단부근방(端部近傍)에 있어서, 노즐보유유지아암(51)에 감합(嵌合)되도록 평행으로 설치된 가이드레일(53a, 53b)을 구비한다. 퍼들형성용 노즐(80)로부터 현상액을 토출시키면서 노즐보유유지아암(51)을 가이드레일(53a, 53b)의 장방향으로 이동시켜, 스핀척(41)에 보유유지된 기판(G)에 현상액을 도포한다.

公开(公告)号：KR1020020024529A

公开(公告)日：2002-03-30

申请号：KR1020010055520

申请日：2001-09-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키츠요시 ,  유노하라카즈노리 ,  나카미츠타카시 ,  미야자키카즈히토 ,  사카이미츠히로 ,  아오키켄야

IPC: B05C9/00

CPC classification number: B05B3/18

Abstract: PURPOSE: To provide liquid processing equipment capable of stably moving a discharge nozzle to a uniaxial direction and uniformly feeding a processing liquid to a substrate. CONSTITUTION: The liquid processing equipment, e.g. a development processing unit (DEV) 24a-24c being one form thereof is provided with a retaining means such as a spin chuck 41 on which a base plate G is placed and retained; a paddle formation nozzle 80 for discharging a predetermined developer onto a surface of the base plate G retained by the spin chuck; a nozzle retaining arm 51 for retaining the paddle formation nozzle 80; and guide rails 53a, 53b arranged in parallel so as to engage with the nozzle retaining arm 51 near a longitudinal end of the nozzle retaining arm 51. The nozzle retaining arm 51 is moved to the longitudinal direction along the surface of the base plate G retained by the spin chuck 41.

Abstract translation: 目的：提供能够将排出喷嘴稳定地移动到单轴方向并且将处理液均匀地供给到基板的液体处理设备。 构成：液体处理设备，例如 其一个形式的显影处理单元（DEV）24a-24c设置有保持装置，例如旋转卡盘41，放置并保持基板G; 用于将预定显影剂排出到由旋转卡盘保持的基板G的表面上的桨形成喷嘴80; 用于保持桨形成喷嘴80的喷嘴保持臂51; 以及平行布置的导轨53a，53b，以便在喷嘴保持臂51的纵向端部附近与喷嘴保持臂51接合。喷嘴保持臂51沿着保持的基板G的表面沿长度方向移动 通过旋转卡盘41。

公开(公告)号：KR100738452B1

公开(公告)日：2007-07-12

申请号：KR1020070013270

申请日：2007-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아오키켄야

IPC: H01L21/304

Abstract: 스크러버 세정장치는, 처리용기로서 기능하는 컵, 이 컵의 안쪽에 설치된 기판 지지기구, 컵에 출입이 가능하도록 설치된 세정장치로 구성되어 있다. 기판 지지기구는, 기판을 진공 흡착하여 재치하며 회전과 승강이 가능한 스핀척, 이 스핀척의 주위에서 기판을 조건에 따라 밑으로부터 재치하여 승강할 수 있는 기판 지지부를 포함하고 있다. 세정기구는, 브러시 스크러버 기구와 제트 스크러버 기구를 구비한다. 브러시 스크러버 기구는, 원통모양의 브러시 면을 구비하는 롤브러시를 회전시켜 기판 표면을 문지르면서 기판 상을 주사하여 스크러빙 세정을 한다. 제트 스크러버 기구는, 1개 또는 복수개의 세정노즐을 기판의 표면을 향하게 하고 기판 바로 위에서 고압의 세정액을 토출하여 블로우 세정을 한다.
기판, 세정, 처리

Abstract translation: 涤气器清洗装置由设置以允许进入所述基板保持机构的杯清洁装置构成，所述杯被安装在杯的内部，其用作在处理容器。 基板支撑机构包括能够通过真空吸引使基板升降的旋转卡盘以及能够根据条件使基板围绕旋转卡盘升降的基板支撑部。 清洁机构包括刷洗机构和喷射洗涤机构。 刷洗机构旋转具有圆柱形刷面的滚刷，以在刮擦基板表面的同时擦拭基板的表面。 喷射洗涤器机构包括一个或多个喷嘴基片和通过直接在衬底上喷射高压的清洗液吹清洁的面向表面。

公开(公告)号：KR100738443B1

公开(公告)日：2007-07-12

申请号：KR1020010008572

申请日：2001-02-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아오키켄야

IPC: H01L21/304

Abstract: 스크러버 세정장치는, 처리용기로서 기능하는 컵, 이 컵의 안쪽에 설치된 기판 지지기구, 컵에 출입이 가능하도록 설치된 세정장치로 구성되어 있다. 기판 지지기구는, 기판을 진공 흡착하여 재치하며 회전과 승강이 가능한 스핀척, 이 스핀척의 주위에서 기판을 조건에 따라 밑으로부터 재치하여 승강할 수 있는 기판 지지부를 포함하고 있다. 세정기구는, 브러시 스크러버 기구와 제트 스크러버 기구를 구비한다. 브러시 스크러버 기구는, 원통모양의 브러시 면을 구비하는 롤브러시를 회전시켜 기판 표면을 문지르면서 기판 상을 주사하여 스크러빙 세정을 한다. 제트 스크러버 기구는, 1개 또는 복수개의 세정노즐을 기판의 표면을 향하게 하고 기판 바로 위에서 고압의 세정액을 토출하여 블로우 세정을 한다.

Abstract translation: 洗涤器清洁装置包括用作处理容器的杯子，设置在杯子内部的基底支撑机构以及安装在杯子内和外部的清洁装置。 基板支撑机构包括能够通过真空吸引使基板升降的旋转卡盘以及能够根据条件使基板围绕旋转卡盘升降的基板支撑部。 清洁机构包括刷洗机构和喷射洗涤机构。 刷洗机构旋转具有圆柱形刷面的滚刷，以在刮擦基板表面的同时擦拭基板的表面。 喷射式洗涤器机构将一个或多个清洁喷嘴吹向基板的表面，并将高压清洁液直接排放到基板上方以执行吹扫清洁。