公开(公告)号：KR100776626B1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：KR1020010055520

申请日：2001-09-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키츠요시 ,  유노하라카즈노리 ,  나카미츠타카시 ,  미야자키카즈히토 ,  사카이미츠히로 ,  아오키켄야

IPC: B05C9/00

Abstract: 본 발명의 액처리장치에 있어서의 하나의 실시형태인 현상처리유니트(DEV)(24a∼24c)는, 기판(G)을 보유유지하는 스핀척(spin chuck)(41)등의 보유유지수단과, 스핀척(41)에 보유유지된 기판(G)의 표면에 소정의 현상액을 토출하는 퍼들(puddle)형성용 노즐(80)과, 퍼들형성용 노즐(80)을 보유유지하는 노즐보유유지아암(51)과, 노즐보유유지아암(51)의 장방향(長方向) 단부근방(端部近傍)에 있어서, 노즐보유유지아암(51)에 감합(嵌合)되도록 평행으로 설치된 가이드레일(53a, 53b)을 구비한다. 퍼들형성용 노즐(80)로부터 현상액을 토출시키면서 노즐보유유지아암(51)을 가이드레일(53a, 53b)의 장방향으로 이동시켜, 스핀척(41)에 보유유지된 기판(G)에 현상액을 도포한다.

公开(公告)号：KR1020020024529A

公开(公告)日：2002-03-30

申请号：KR1020010055520

申请日：2001-09-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키츠요시 ,  유노하라카즈노리 ,  나카미츠타카시 ,  미야자키카즈히토 ,  사카이미츠히로 ,  아오키켄야

IPC: B05C9/00

CPC classification number: B05B3/18

Abstract: PURPOSE: To provide liquid processing equipment capable of stably moving a discharge nozzle to a uniaxial direction and uniformly feeding a processing liquid to a substrate. CONSTITUTION: The liquid processing equipment, e.g. a development processing unit (DEV) 24a-24c being one form thereof is provided with a retaining means such as a spin chuck 41 on which a base plate G is placed and retained; a paddle formation nozzle 80 for discharging a predetermined developer onto a surface of the base plate G retained by the spin chuck; a nozzle retaining arm 51 for retaining the paddle formation nozzle 80; and guide rails 53a, 53b arranged in parallel so as to engage with the nozzle retaining arm 51 near a longitudinal end of the nozzle retaining arm 51. The nozzle retaining arm 51 is moved to the longitudinal direction along the surface of the base plate G retained by the spin chuck 41.

Abstract translation: 目的：提供能够将排出喷嘴稳定地移动到单轴方向并且将处理液均匀地供给到基板的液体处理设备。 构成：液体处理设备，例如 其一个形式的显影处理单元（DEV）24a-24c设置有保持装置，例如旋转卡盘41，放置并保持基板G; 用于将预定显影剂排出到由旋转卡盘保持的基板G的表面上的桨形成喷嘴80; 用于保持桨形成喷嘴80的喷嘴保持臂51; 以及平行布置的导轨53a，53b，以便在喷嘴保持臂51的纵向端部附近与喷嘴保持臂51接合。喷嘴保持臂51沿着保持的基板G的表面沿长度方向移动 通过旋转卡盘41。