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公开(公告)号：KR101299763B1
公开(公告)日：2013-08-23
申请号：KR1020070007599
申请日：2007-01-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 본 발명은, 기판이 대형이더라도, 처리량의 향상을 도모하면서 기판의 뒤틀림 및 파손을 확실하게 방지하는 것이 가능한 기판 냉각 장치를 제공한다.
기판 냉각 장치(25)는, 가열 후의 기판(G)을 일방향으로 반송하는 반송로로서의 롤러 반송 기구(5)와, 롤러 반송 기구(5)에 의해 반송되고 있는 기판(G)을 냉각하는 냉각 기구(7)를 구비하고, 냉각 기구(7)는, 롤러 반송 기구(5)를 따라 반송 방향 상류측으로부터 차례로 예비 냉각실(65a)과 주냉각실(65b)이 배치되어 있으며, 가열 후의 기판(G)을 예비 냉각실(65a)에서 냉각하고 기판(G)의 조열(粗熱) 제거를 행한 후, 이 기판(G)을 주냉각실(65b)에서 소정의 온도로 냉각한다.-
公开(公告)号：KR101026323B1
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：KR1020030083533
申请日：2003-11-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로, 본 발명의 기판처리장치는 기판을 재치시켜 열처리하기 위한 재치부와 재치부상에서 기판을 지지하는 복수의 지지부재와, 재치부에 자유롭게 붙였다 떼었다 할 수 있게 설치되고, 복수의 지지부재를 연결하는 연결부재를 갖는다.
본 발명에 따르면, 복수의 지지부재에 의해 기판을 지지할 수 있고, 재치부에 연결부재를 붙였다 떼었다 하는 것으로, 연결된 지지부재를 설치할 수가 있다. 이것에 의해 종래와 같이 예를 들면, 와이어 등으로 직접 기판을 지지하는 일도 없이, 전사의 흔적이 남지 않도록 할 수가 있다. 또, 프로키시미티 핀(Proximity Pin)을 하나씩 교환할 필요도 없고 붙였다 떼었다 하는 것이 용이하게 됨으로 유지보수성이 향상한다.-
公开(公告)号：KR101299898B1
公开(公告)日：2013-08-23
申请号：KR1020070007115
申请日：2007-01-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
Abstract: 본 발명은 기판 냉각 장치에 관한 것으로서, 기판 냉각 장치 (25)는, 기판 (G)를 한 방향으로 반송하는 반송로로서의 롤러반송 기구 (5)와 롤러반송 기구 (5)에 의해 반송되고 있는 기판 (G)를 케이싱 (6)내에서 냉각 매체에 접촉시켜 냉각하는 냉각 기구 (7)을 구비하여 기판이 대형으로서도 안전성이 뛰어나는 것과 동시에, 수율의 향상을 도모하는 것이 가능한 기술을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020120090018A
公开(公告)日：2012-08-16
申请号：KR1020120060961
申请日：2012-06-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: PURPOSE: A decompressing and drying device is provided to prevent imprints on coating solutions, and to reduce vibration generated by the operation of a transfer tool. CONSTITUTION: A decompressing and drying device(23b) comprises a chamber(6), a gate member(64), a decompressing tool, and a transfer tool(7). The chamber comprises inlet and outlet ports(61.62) for a substrate(G) in the side wall part. The chamber horizontally receives the substrate from the inlet port. The gate member opens and closes the inlet and outlet ports. The decompressing tool decompresses the chamber in state where the inlet and outlet ports are closed. The transfer tool transfers the substrate to the chamber from the inlet port.
Abstract translation: 目的：提供减压干燥装置，以防止涂层溶液上的印痕，并减少由转印工具的操作产生的振动。 构成：减压干燥装置（23b）包括腔室（6），门部件（64），减压工具和转移工具（7）。 该室包括用于侧壁部分中的基底（G）的入口和出口（61.62）。 该室从入口水平地接收基底。 闸门构件打开和关闭入口和出口。 减压工具在入口和出口关闭的状态下对室进行减压。 转移工具从入口将衬底转移到腔室。
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公开(公告)号：KR1020100113472A
公开(公告)日：2010-10-21
申请号：KR1020100098880
申请日：2010-10-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13 , H01L21/683
CPC classification number: G02F1/1303 , H01L21/324 , H01L21/67098
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus having a connecting member interlinked a plurality of supporting members is provided to realize the substrate processing apparatus while maintaining the thermion on the substrate. CONSTITUTION: A plate member is horizontally arranged on a surface. The plate member enforces the thermal process for the substrate. The predetermined external diameter for mounting the substrate in which a plurality of wires(54) is arranged in the surface of the plate member is had. The apparatus for adjusting tension regularly supports the tension of a plurality of wires.
Abstract translation: 目的：提供具有连接多个支撑构件的连接构件的基板处理装置，以在基板上保持热离子的同时实现基板处理装置。 构成：平板构件水平地布置在表面上。 板构件对衬底进行加热处理。 具有用于安装其中在板构件的表面中布置有多根电线（54）的基板的预定外径。 用于调节张力的装置规则地支撑多根电线的张力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100776626B1
公开(公告)日：2007-11-15
申请号：KR1020010055520
申请日：2001-09-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: B05C9/00
Abstract: 본 발명의 액처리장치에 있어서의 하나의 실시형태인 현상처리유니트(DEV)(24a∼24c)는, 기판(G)을 보유유지하는 스핀척(spin chuck)(41)등의 보유유지수단과, 스핀척(41)에 보유유지된 기판(G)의 표면에 소정의 현상액을 토출하는 퍼들(puddle)형성용 노즐(80)과, 퍼들형성용 노즐(80)을 보유유지하는 노즐보유유지아암(51)과, 노즐보유유지아암(51)의 장방향(長方向) 단부근방(端部近傍)에 있어서, 노즐보유유지아암(51)에 감합(嵌合)되도록 평행으로 설치된 가이드레일(53a, 53b)을 구비한다. 퍼들형성용 노즐(80)로부터 현상액을 토출시키면서 노즐보유유지아암(51)을 가이드레일(53a, 53b)의 장방향으로 이동시켜, 스핀척(41)에 보유유지된 기판(G)에 현상액을 도포한다.
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公开(公告)号：KR1020070077793A
公开(公告)日：2007-07-27
申请号：KR1020070007599
申请日：2007-01-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: A substrate cooling device, a substrate cooling method, a control program and a computer readable storage medium are provided to prevent shock from being applied to a substrate by contacting the substrate which is carried on a carriage passage in one way, through a cooling device. A substrate cooling apparatus includes a carriage passage for carrying a substrate in one way and a cooling device(7) for cooling the substrate which is transferred along the carriage passage. The cooling device has a preliminary cooling portion(7a) and a main cooling portion(7b) disposed on an upstream of a carriage direction along the carriage passage in sequence. After the heated substrate is cooled in the preliminary cooling portion, the substrate is cooled at a predetermined temperature in the main cooling portion.
Abstract translation: 提供基板冷却装置，基板冷却方法，控制程序和计算机可读存储介质，以通过冷却装置将承载在托架通道上的基板接触到基板来防止冲击。 衬底冷却装置包括用于一体地承载衬底的滑架通道和用于冷却沿着滑架通道传送的衬底的冷却装置（7）。 冷却装置具有预先冷却部分（7a）和主要冷却部分（7b），其沿着滑架通道顺序地设置在滑架方向的上游。 在预冷却部中冷却加热后的基板后，在主冷却部中将基板冷却至规定的温度。
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公开(公告)号：KR1020070077784A
公开(公告)日：2007-07-27
申请号：KR1020070007115
申请日：2007-01-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
Abstract: A substrate cooling apparatus is provided to prevent shock from being applied to a substrate by contacting the substrate which is carried on a carriage passage in one way, with a cooling medium. A substrate cooling apparatus includes a carriage passage for carrying a substrate in one way and a cooling device(7) for cooling the substrate by contacting the substrate which is carried along the carriage passage, with a cooling medium. The cooling medium has a cooling fluid, and the cooling device supplies the cooling fluid onto the substrate. The carriage passage is provided with plural collar members arranged in one direction, and any one of the collar members serves as a cooling medium.
Abstract translation: 提供了一种基板冷却装置，以通过使承载在滑架通道上的基板与冷却介质接触来防止冲击被施加到基板。 基板冷却装置包括用于单向承载基板的托架通道和用于通过使沿着托架通道携带的基板与冷却介质接触来冷却基板的冷却装置（7）。 冷却介质具有冷却流体，冷却装置将冷却流体供应到基板上。 滑架通道设置有沿一个方向布置的多个轴环构件，并且任一个轴环构件用作冷却介质。
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公开(公告)号：KR1020060045531A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：KR1020050028560
申请日：2005-04-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: B05C5/0225 , G03F7/16 , H01L21/027
Abstract: The coating film forming apparatus (resist coating device 23a) applies processing liquid (resist liquid R) to the surface of a processed substrate (substrate G) and forms a film on it. The coating film forming apparatus comprises the first stage (stage 50), the second stage (stage 59), a processing liquid supply nozzle 51, a nozzle moving means 86, a processing liquid supply means, and a priming processing means. The first stage and the second stage are put in order and arranged, and lay a processed substrate, respectively. The processing liquid supply nozzle 51 has the dispense port of the shape of a slit prolonged in the width direction of a processed substrate. The nozzle moving means 86 moves the processing liquid supply nozzle 51. The processing liquid supply means (resist liquid source of supply 95) supplies processing liquid to the processing liquid supply nozzle 51. The priming processing means carries out equalization process of the processing liquid adhering to dispense port by rotating the roller 52, to make the processing liquid from the dispense port supply on a surrounding field of the freely rotation roller 52. The processing liquid is applied to the surface of the processed substrate laid in the first stage and the second stage by the processing liquid supply nozzle 51.
Abstract translation: 涂膜形成装置（抗蚀剂涂敷装置23a）将处理液（抗蚀液R）施加到被处理基板（基板G）的表面，并在其上形成膜。 涂膜形成装置包括第一阶段（阶段50），第二阶段（阶段59），处理液供给喷嘴51，喷嘴移动装置86，处理液供给装置和启动处理装置。 对第一阶段和第二阶段进行排序和布置，分别铺设处理后的基板。 处理液供给喷嘴51具有沿被处理基板的宽度方向延长的狭缝形状的分注口。 喷嘴移动装置86使处理液供给喷嘴51移动。处理液供给装置（供给源95）向处理液供给喷嘴51供给处理液。起动处理装置进行附着处理液的均衡处理 通过旋转辊52来分配端口，使得来自分配端口的处理液体在自由旋转辊52的周围场上供应。处理液体被施加到布置在第一级中的处理基板的表面，第二层 通过处理液体供给喷嘴51进行分级。
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公开(公告)号：KR1020020024529A
公开(公告)日：2002-03-30
申请号：KR1020010055520
申请日：2001-09-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: B05C9/00
CPC classification number: B05B3/18
Abstract: PURPOSE: To provide liquid processing equipment capable of stably moving a discharge nozzle to a uniaxial direction and uniformly feeding a processing liquid to a substrate. CONSTITUTION: The liquid processing equipment, e.g. a development processing unit (DEV) 24a-24c being one form thereof is provided with a retaining means such as a spin chuck 41 on which a base plate G is placed and retained; a paddle formation nozzle 80 for discharging a predetermined developer onto a surface of the base plate G retained by the spin chuck; a nozzle retaining arm 51 for retaining the paddle formation nozzle 80; and guide rails 53a, 53b arranged in parallel so as to engage with the nozzle retaining arm 51 near a longitudinal end of the nozzle retaining arm 51. The nozzle retaining arm 51 is moved to the longitudinal direction along the surface of the base plate G retained by the spin chuck 41.
Abstract translation: 目的：提供能够将排出喷嘴稳定地移动到单轴方向并且将处理液均匀地供给到基板的液体处理设备。 构成：液体处理设备，例如 其一个形式的显影处理单元（DEV）24a-24c设置有保持装置，例如旋转卡盘41，放置并保持基板G; 用于将预定显影剂排出到由旋转卡盘保持的基板G的表面上的桨形成喷嘴80; 用于保持桨形成喷嘴80的喷嘴保持臂51; 以及平行布置的导轨53a，53b，以便在喷嘴保持臂51的纵向端部附近与喷嘴保持臂51接合。喷嘴保持臂51沿着保持的基板G的表面沿长度方向移动 通过旋转卡盘41。
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