公开(公告)号：KR1020070098878A

公开(公告)日：2007-10-05

申请号：KR1020077017039

申请日：2006-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이나마스토시후미 ,  야마사키츠요시 ,  미야자키카즈히토

IPC: B05C13/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67784 ,  B65G49/065 ,  B65G49/067 ,  B65G49/068 ,  B65G2249/02 ,  B65G2249/04 ,  B65G2249/045 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70808 ,  H01L21/677

Abstract: A stage apparatus in which a rectangular substrate that is lifted over a stage is transported such that a pair of sides of the substrate is substantially parallel to a transportation direction and the other pair of sides of the substrate is substantially orthogonal to the transportation direction. The stage has gas jetting openings for jetting gas and suction openings for sucking the substrate by sucking air. The stage causes the rectangular substrate to be lifted in a horizontal attitude at a certain height from the surface of the stage, and the lifting is made by suction through the suction openings by means of a suction mechanism and by gas jetting through the gas jetting openings by means of a gas jetting mechanism. The suction openings are arranged in the stage so that, when the rectangular substrate is being transported over the stage, a variation in suction air pressure at the suction openings is within an allowable range. The arrangement of the suction openings is such that the head end in the transportation direction of the substrate does not simultaneously cover suction openings of the number equal to or more than a predetermined number, and at the same time, the tail end in the transportation direction of the substrate does not open suction openings of the number equal to or more than a predetermined number.

Abstract translation: 传送在台架上提升的矩形基板的台架装置，使得基板的一对侧基本上平行于输送方向，并且基板的另一对侧基本上正交于输送方向。 该台具有用于喷射气体的气体喷射口和用于通过吸入空气吸附基板的吸入口。 台阶使得矩形基板以与水平台表面相距一定高度的水平姿态提升，并且通过抽吸机构通过抽吸开口抽吸和通过气体喷射通过气体喷射口 通过气体喷射机构。 吸入口布置在台阶中，使得当矩形基板在台上传送时，吸入口处的吸入空气压力的变化在允许的范围内。 吸入口的布置使得在基板的输送方向上的头端不同时覆盖数量等于或大于预定数量的吸入口，同时在输送方向上的尾端 的基板没有打开数量等于或大于预定数量的抽吸开口。

公开(公告)号：KR1020070108877A

公开(公告)日：2007-11-13

申请号：KR1020077019227

申请日：2006-02-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키츠요시 ,  사카이마사타카

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  B65G49/065 ,  B65G49/067 ,  B65G49/068 ,  B65G2249/02 ,  B65G2249/04 ,  B65G2249/045 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/6838 ,  G03F7/16

Abstract: A stage apparatus and a coating treatment device. The stage apparatus comprises a stage for carrying a substrate thereon and a floating mechanism for floating the substrate over the stage. The stage comprises a plurality of gas jetting ports (16a) for jetting a gas for floating the substrate (G) and a plurality of sucking ports (16b) for sucking the gas jetted from the gas jetting ports (16a). The plurality of gas jetting ports (16a) and the plurality of sucking ports (16b) are so formed that are not arranged parallel with each other along a straightline parallel with a substrate carrying direction within a prescribed distance along the substrate carrying direction.

Abstract translation: 舞台装置和涂布处理装置。 舞台装置包括用于在其上承载衬底的平台和用于使衬底漂浮在舞台上的浮动机构。 该台包括用于喷射用于浮置基板（G）的气体的多个气体喷射口（16a）和用于吸入从气体喷射口（16a）喷射的气体的多个吸入口（16b）。 多个气体喷射口（16a）和多个吸引口（16b）形成为沿着基板输送方向沿着与基板搬送方向平行的直线布置在规定距离内。

公开(公告)号：KR1020070052220A

公开(公告)日：2007-05-21

申请号：KR1020060113115

申请日：2006-11-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키츠요시 ,  사카이마사타카

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

CPC classification number: B05C11/10 ,  B05C5/02 ,  B05D3/10

Abstract: 본 발명은 회전홀의 세정 기구 및 회전로의 세정방법에 관한 것으로서, 회전 롤 (90)의 최상부의 기점 (P)로부터 회전 방향 (F)로 270˚에서 300˚회전한 위치에 제1의 블럭 (110)이 설치되고 그 후방측에 제 2의 블럭 (130)이 설치된다. 제1의 블럭 (110)에 의해 회전 롤 (90)과의 사이에 협소의 간격 (D)가 형성되어 그 표면 (110a)에 세정액토출구 (111)과 흡인구 (112)가 형성된다. 제2의 블럭 (130)에는 배기구 (131)이 형성된다. 회전 롤 (90)의 하부 측에는 체류부 (141)과 세정액유도부 (142)가 형성된 제3의 블럭 (140)이 설치된다. 세정시에는 회전 롤 (90)을 회전시킨 상태로 세정액토출구 (111)으로부터 간격 (D)에 세정액 (H)가 토출되어 세정액 (H)가 회전 롤 (90)의 표면을 타고 흘러 체류부 (141)로 일단 체류된 후, 세정액유도부 (142)를 통하여 배출되는 회전 롤을 세정하기 위한 세정액의 소비량을 저감하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020070011153A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：KR1020060067297

申请日：2006-07-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키츠요시 ,  이나마스토시후미 ,  시노자키켄야 ,  모토다키미오

IPC: G02F1/13

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C5/0208 ,  H01L21/6776 ,  H01L21/67784

Abstract: A levitated glass conveying treatment device is provided to realize uniformity of levitation height, improve levitation strength, and restrain vibration by restraining a change of absorbing power accompanying with conveying movement of a glass to be treated. A levitating stage(22) is formed of a porous member having a plurality of absorbing holes(52) hermetically defined at a porous part(51) of the porous member, and levitates a glass(G) put on the porous part by spraying air with interposing the porous part and absorbing air with the absorbing holes. A treatment liquid supply unit is arranged over the levitating stage with interposing the glass for supplying a treatment liquid to a surface of the glass. A moving unit holds and supports the glass to attach and detach both ends of the glass, capable of following the levitation height of the glass, and at the same time, moves the glass on the levitating stage.

Abstract translation: 提供悬浮玻璃输送处理装置，以实现悬浮高度的均匀性，提高悬浮强度，并通过抑制伴随待处理玻璃的输送运动的吸收力的变化来抑制振动。 悬浮阶段（22）由多孔构件形成，多孔构件具有多个密封在多孔构件的多孔部分（51）上的吸收孔（52），并且通过喷射空气悬浮放置在多孔部分上的玻璃（G） 其中插入多孔部分并吸收空气与吸收孔。 处理液体供应单元布置在悬浮台上，插入玻璃以将处理液体供应到玻璃的表面。 移动单元保持和支撑玻璃以附接和分离玻璃的两端，能够跟随玻璃的悬浮高度，同时将玻璃移动到悬浮台上。

公开(公告)号：KR1020060042871A

公开(公告)日：2006-05-15

申请号：KR1020050007780

申请日：2005-01-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야자키카즈히토 ,  타테야마키요히사 ,  야마사키츠요시

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1303 ,  B65G49/063 ,  H01L21/67784

Abstract: 본 발명은 부상식 기판반송 처리장치에 관한 것으로서 표면으로부터 기체를 분사 또는 분사 및 흡인해 기판(G)을 다른 높이로 부상하는 부상스테이지(22)와 부상 스테이지(22)의 윗쪽으로 배치되고 기판(G)의 표면에 처리액을 띠형상으로 공급하는 레지스트 공급 노즐(23)과 기판(G)의 양측단을 각각 착탈 가능하게 흡인 보지하는 복수의 기판 보지 부재(24)와 부상 스테이지(22)의 양측으로 서로 평행으로 배치되는 가이드 레일(25)을 따라 슬라이더(26)를 이동하는 이동 기구와 기판 보지 부재(24)와 슬라이더(26)를 연결 함과 동시에 기판(G)의 부상 높이에 추종 하여 변위 가능한 연결 수단(50)을 설치하여 장치의 소형화 및 간략화를 도모하여 또한 처리 효율의 향상을 도모할수 있도록 한 부상식 기판 반송 처리 장치의 기술을 제공한다.

Abstract translation: 表面处理阶段22从台面的表面吹出气体，或者从台面的表面喷出气体，并吸附在台面的表面，基板G的高度不同。抗蚀剂供给喷嘴23布置在 表面层22，并将处理液供给到基板状G的表面，分别具有两个以上的基板保持构件，能够分别吸附保持基板G的两侧端部的安装和拆卸;移动机构，其使滑块26移动 在导轨台22的两侧彼此平行布置的同时，在连接基板保持构件24和滑块26的同时，跟随基板G的堆焊高度，并且连接装置50的位移为 可能成立。

公开(公告)号：KR101100486B1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：KR1020060067297

申请日：2006-07-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키츠요시 ,  이나마스토시후미 ,  시노자키켄야 ,  모토다키미오

IPC: G02F1/13

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C5/0208 ,  H01L21/6776 ,  H01L21/67784

Abstract: 본 발명은 부상식기판 반송처리장치에 관한 것으로 표면으로부터 기체를 분사 및 흡인해 피처리 기판 (G)를 부상하는 부상 스테이지 (22)와 부상 스테이지의 윗쪽에 배치되어 기판의 표면에 처리액을 공급하는 레지스트액 공급 노즐 (23)과 기판의 양측단을 각각 탈착 가능 및 피처리 기판의 부상 높이에 추종 가능하게 보지함과 동시에 기판을 부상 스테이지상에서 이동하는 이동 수단을 구비하는 부상식 기판 반송 처리 장치에 있어서 부상 스테이지를 다공질 부재 (50)으로 형성 함과 동시에 상기 다공질 부재에 기밀하게 구획되는 복수의 흡인구멍 (52)를 설치해 다공질 부재의 다공질부 (51)에 기체 공급 수단인 콤플레서 (55)를 접속해 흡인구멍에 우회 유로 (56)을 개재하여 흡인 수단인 진공 펌프 (57)을 접속하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR100979822B1

公开(公告)日：2010-09-02

申请号：KR1020050007780

申请日：2005-01-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야자키카즈히토 ,  타테야마키요히사 ,  야마사키츠요시

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은 부상식 기판반송 처리장치에 관한 것으로서 표면으로부터 기체를 분사 또는 분사 및 흡인해 기판(G)을 다른 높이로 부상하는 부상스테이지(22)와 부상 스테이지(22)의 윗쪽으로 배치되고 기판(G)의 표면에 처리액을 띠형상으로 공급하는 레지스트 공급 노즐(23)과 기판(G)의 양측단을 각각 착탈 가능하게 흡인 보지하는 복수의 기판 보지 부재(24)와 부상 스테이지(22)의 양측으로 서로 평행으로 배치되는 가이드 레일(25)을 따라 슬라이더(26)를 이동하는 이동 기구와 기판 보지 부재(24)와 슬라이더(26)를 연결 함과 동시에 기판(G)의 부상 높이에 추종 하여 변위 가능한 연결 수단(50)을 설치하여 장치의 소형화 및 간략화를 도모하여 또한 처리 효율의 향상을 도모할수 있도록 한 부상식 기판 반송 처리 장치의 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101264937B1

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：KR1020060113115

申请日：2006-11-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키츠요시 ,  사카이마사타카

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

Abstract: 본발명은회전홀의세정기구및 회전로의세정방법에관한것으로서, 회전롤 (90)의최상부의기점 (P)로부터회전방향 (F)로 270˚에서 300˚회전한위치에제1의블럭 (110)이설치되고그 후방측에제 2의블럭 (130)이설치된다. 제1의블럭 (110)에의해회전롤 (90)과의사이에협소의간격 (D)가형성되어그 표면 (110a)에세정액토출구 (111)과흡인구 (112)가형성된다. 제2의블럭 (130)에는배기구 (131)이형성된다. 회전롤 (90)의하부측에는체류부 (141)과세정액유도부 (142)가형성된제3의블럭 (140)이설치된다. 세정시에는회전롤 (90)을회전시킨상태로세정액토출구 (111)으로부터간격 (D)에세정액 (H)가토출되어세정액 (H)가회전롤 (90)의표면을타고흘러체류부 (141)로일단체류된후, 세정액유도부 (142)를통하여배출되는회전롤을세정하기위한세정액의소비량을저감하는기술을제공한다.

公开(公告)号：KR101061707B1

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：KR1020050009075

申请日：2005-02-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키츠요시 ,  미야자키카즈히토 ,  타테야마키요히사

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

Abstract: 본 발명은 도포막 형성장치 및 도포막 형성방법에 관한 것으로서 레지스트 도포 처리 장치(CT,23a)는 가스를 분사하기 위한 복수의 가스 분사구(16a)가 설치된 스테이지(12)와 스테이지(12)상에서 LCD기판(G)을 X방향으로 반송하는 기판 반송 기구(13)와 스테이지(12)상을 이동하는 LCD기판(G)의 표면에 레지스트액를 공급하는 레지스트 공급 노즐(14)을 구비한다. LCD기판(G)은 가스 분사구(16a)로부터 분사되는 가스에 의해 대략 수평 자세로 스테이지(12)의 표면으로부터 뜬 상태로 스테이지(12)상을 기판 반송 기구(13)에 의해 반송된다. 기판 표면에서의 전사자취의 발생을 억제함과 동시에 기판 이면으로의 파티클의 부착을 방지한 도포막 형성장치 및 도포막 형성 방법을 제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及涂膜形成装置和涂膜形成方法，抗蚀剂涂覆装置（CT）23a包括：具有用于注入气体的多个气体注入口16a的载物台12， 用于沿X方向传送基板G的基板传送机构13和用于将抗蚀剂溶液供应到在台架12上移动的LCD基板G的表面上的抗蚀剂供应喷嘴14。 LCD基板G通过从气体注入口16a注入的气体以基本上水平的姿势从台12的表面以浮动状态由基板输送机构13输送到台12上。 本发明提供能够抑制基板表面的转印痕迹的产生，防止颗粒附着于基板的背面的涂膜形成装置及涂膜形成方法。

公开(公告)号：KR100776626B1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：KR1020010055520

申请日：2001-09-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키츠요시 ,  유노하라카즈노리 ,  나카미츠타카시 ,  미야자키카즈히토 ,  사카이미츠히로 ,  아오키켄야

IPC: B05C9/00

Abstract: 본 발명의 액처리장치에 있어서의 하나의 실시형태인 현상처리유니트(DEV)(24a∼24c)는, 기판(G)을 보유유지하는 스핀척(spin chuck)(41)등의 보유유지수단과, 스핀척(41)에 보유유지된 기판(G)의 표면에 소정의 현상액을 토출하는 퍼들(puddle)형성용 노즐(80)과, 퍼들형성용 노즐(80)을 보유유지하는 노즐보유유지아암(51)과, 노즐보유유지아암(51)의 장방향(長方向) 단부근방(端部近傍)에 있어서, 노즐보유유지아암(51)에 감합(嵌合)되도록 평행으로 설치된 가이드레일(53a, 53b)을 구비한다. 퍼들형성용 노즐(80)로부터 현상액을 토출시키면서 노즐보유유지아암(51)을 가이드레일(53a, 53b)의 장방향으로 이동시켜, 스핀척(41)에 보유유지된 기판(G)에 현상액을 도포한다.