公开(公告)号：KR1020160051603A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：KR1020150142675

申请日：2015-10-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고노마사유키 ,  요시다유스케 ,  마츠모토나오키 ,  시미즈잇페이 ,  미하라나오키 ,  요시카와쥰 ,  아이타미치타카 ,  아즈마야요시카즈 ,  호시야쥰스케

IPC: H01J37/32 ,  H01J37/02

CPC classification number: H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/32238 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32495

Abstract: (과제) 플라즈마처리장치내에있어서, 처리용기의내면을보호하면서, 플라즈마가안정하게발생되는것이가능한플라즈마처리장치를제공한다. (해결수단) 이플라즈마처리장치는, 처리용기(1)와, 처리용기(1) 내에배치된테이블(3)과, 처리용기(1)에설치된유전체창(16)과, 유전체창(16) 위에설치된슬롯판(20)과, 테이블(3)과유전체창(16)의사이의처리공간을둘러싸는유전체로이루어지는포위체 Q를구비하되, 슬롯판(20)에마이크로파를입력함으로써, 유전체창(16) 아래에플라즈마를발생시켜, 이플라즈마에의해, 테이블(3) 위에배치된기판(W)에처리를행하는것이며, 포위체 Q와볼록부(16p)의사이에소정의제 1 간극 G1가존재한다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够在保护处理室的内表面的同时稳定地产生等离子体处理装置。 等离子体处理装置包括处理室（1），设置在处理室（1）中的工作台（3），安装在处理室（1）的电介质窗口（16），安装在处理室 电介质窗口（16）以及围绕桌子（3）和电介质窗口（16）之间的处理空间的环绕体Q。 这种等离子体处理装置通过将微波输入到槽板（20）中并通过产生的等离子体处理安装在工作台（3）上的衬底（W）来在电介质窗口16之下产生等离子体。 在周围物体Q与突起（16p）之间存在规定的第一间隙G1。