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公开(公告)号：KR101477874B1
公开(公告)日：2014-12-30
申请号：KR1020127015345
申请日：2011-10-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67265 , H01L21/67766 , H01L21/67778
Abstract: 처리시스템은소공간(31)과, 소공간(31)에구비된, 피처리체를수용하는카세트(F)가장착되는로드포트(32)와, 소공간(31) 내에배치된반송장치(34)를구비한다. 또한, 상기반송장치(34)는다관절아암(37)과, 다관절아암(37)의선단에장착된픽(38)과, 이픽(38)에마련된맵핑센서(61)를구비한다. 카세트(F) 내의맵핑을실행할때, 맵핑센서(61)가마련된픽(38) 상에피처리체(W)가있는경우, 이피처리체(W)를일시적으로퇴피시키는일시퇴피부(62)가소공간(31)에구비되어있다.
Abstract translation: 该处理系统的地址空间31和一个小的空间31 Eguzemodo比值，负载口32，其是在安装盒（F），用于接收所述加工对象物，设置在预定的空间31的输送装置（34 ）和。 传送装置34包括铰接臂37，安装在铰接臂37的端部上的拾取器38和设置在拾取器38中的映射传感器61。 运行在盒（F）的映射时，映射传感器61设置有增塑剂挑38，当在工件（W）阶段，暂时缩回62暂时退避到两只脚治疗部件（W） 空间31形成。
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公开(公告)号：KR1020120082470A
公开(公告)日：2012-07-23
申请号：KR1020127015345
申请日：2011-10-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67265 , H01L21/67766 , H01L21/67778 , H01L21/6719 , H01L21/67739 , H01L21/67742
Abstract: 처리 시스템은 소공간(31)과, 소공간(31)에 구비된, 피처리체를 수용하는 카세트(F)가 장착되는 로드 포트(32)와, 소공간(31) 내에 배치된 반송 장치(34)를 구비한다. 또한, 상기 반송 장치(34)는 다관절 아암(37)과, 다관절 아암(37)의 선단에 장착된 픽(38)과, 이 픽(38)에 마련된 맵핑 센서(61)를 구비한다. 카세트(F) 내의 맵핑을 실행할 때, 맵핑 센서(61)가 마련된 픽(38) 상에 피처리체(W)가 있는 경우, 이 피처리체(W)를 일시적으로 퇴피시키는 일시 퇴피부(62)가 소공간(31)에 구비되어 있다.
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公开(公告)号：KR101898340B1
公开(公告)日：2018-09-12
申请号：KR1020160138272
申请日：2016-10-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/324 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/67167 , H01L21/67173 , H01L21/67201 , H01L21/67742
Abstract: 로드록장치내에서기판의휨을효과적으로또한충분히회복시키면서, 기판을고효율로냉각할수 있는기술을제공한다. 로드록장치에있어서고온의기판을냉각하는기판냉각방법은, 용기내를제 2 압력으로보지하고, 용기와제 2 모듈을연통하며, 고온의기판을용기내로반입하는공정과, 기판을냉각부재에근접한냉각위치에위치시키는공정과, 용기내의압력이, 냉각부재표면과기판이면사이의영역이분자류조건을만족하는제 3 압력이되도록용기내를배기하는공정과, 용기내에퍼지가스를도입하고용기내의압력을제 1 압력으로상승시켜, 그과정에서냉각부재로부터의전열에의해기판을냉각하는공정을포함한다.
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公开(公告)号：KR1020170048200A
公开(公告)日：2017-05-08
申请号：KR1020160138272
申请日：2016-10-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/324 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/67167 , H01L21/67173 , H01L21/67201 , H01L21/67742
Abstract: 로드록장치내에서기판의휨을효과적으로또한충분히회복시키면서, 기판을고효율로냉각할수 있는기술을제공한다. 로드록장치에있어서고온의기판을냉각하는기판냉각방법은, 용기내를제 2 압력으로보지하고, 용기와제 2 모듈을연통하며, 고온의기판을용기내로반입하는공정과, 기판을냉각부재에근접한냉각위치에위치시키는공정과, 용기내의압력이, 냉각부재표면과기판이면사이의영역이분자류조건을만족하는제 3 압력이되도록용기내를배기하는공정과, 용기내에퍼지가스를도입하고용기내의압력을제 1 압력으로상승시켜, 그과정에서냉각부재로부터의전열에의해기판을냉각하는공정을포함한다.
Abstract translation: 提供一种在高效率地冷却衬底的同时有效且充分地恢复负载锁定装置中的衬底的翘曲的技术。 衬底冷却方法用于在负载锁定装置冷却所述高温基底，而不是到容器到第二压力，以及与所述容器和第二模块，导入高温基材放入容器中，并冷却基板构件的步骤的通信 在靠近放置在冷却位置的步骤，和排出容器的内部，以使压力容器内的压力，满足该分子流条件，背面之间的区域的冷却构件表面和衬底，引入清洗气体引入容器的第三步骤 并且将容器中的压力升高到第一压力，并且在该过程期间通过来自冷却构件的热传递来冷却基板。
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