公开(公告)号：KR102214965B1

公开(公告)日：2021-02-09

申请号：KR1020180019908

申请日：2018-02-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고바야시,다케시 ,  가토,히토시 ,  오히즈미,유키오

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02

Abstract: 본발명은, 회전테이블의일면측에설치된기판의적재대를공전시키면서자전시킴에있어서, 적재대의자전량을정확하게검출하는것이다. 회전테이블(2)에설치된기판의적재대(3)에, 그자전축(32)을중심으로해서회전하도록회전엘리먼트(61)를설치함과함께, 당해회전엘리먼트(61)와함께로터리인코더를구성하는인코더본체(62)를회전테이블(2)에고정부재(7)에의해고정한다. 또한, 인코더본체(62)에의해검출한검출신호를처리하는신호처리부(751)를구비한제1 컨트롤러(75)를회전테이블(2)에설치한다. 적재대(3)가회전하면, 회전엘리먼트(61)가회전하고, 그회전각을인코더본체(62)에의해검출한다. 그리고, 신호처리부(751)에서예를들어단위시간당회전각을구하고, 외부의제2 컨트롤러(78)에송신하여, 표시부(781)에표시한다.

公开(公告)号：KR102249904B1

公开(公告)日：2021-05-07

申请号：KR1020180000703

申请日：2018-01-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토,히토시 ,  오히즈미,유키오 ,  혼마,마나부 ,  고바야시,다케시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  C23C16/455 ,  H01L21/02

Abstract: 회전테이블의일면측에적재된기판인웨이퍼를공전시키면서성막처리를행하는데 있어서, 웨이퍼의주위방향을따라균일한처리를실시한다. 회전테이블(2)의일면측에웨이퍼를적재하는적재대(3)를회전테이블(2)에의해공전하도록설치한다. 또한, 적재대(3)의자전축(32)에종동기어(4)를설치함과함께, 이종동기어(4)의공전궤도의전체주위를따라당해종동기어(4)와자기기어기구를구성하는구동기어(5)를설치한다. 구동기어(5)를자전용회전기구(53)에의해회전시켜, 구동기어(5)의각속도와종동기어(4)의공전에의한각속도의속도차를발생시킴으로써적재대(3)가자전하므로, 웨이퍼(W)의주위방향에대해서성막처리의균일성을향상시킬수 있다. 또한, 구동기어(5)의각속도와종동기어(4)의각속도와의차에의해, 종동기어(4)의자전속도를용이하게조정할수 있다.

公开(公告)号：KR102022153B1

公开(公告)日：2019-09-17

申请号：KR1020160112619

申请日：2016-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토,히토시 ,  오히즈미,유키오 ,  혼마,마나부

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  H01L21/205

公开(公告)号：KR1020170092105A

公开(公告)日：2017-08-10

申请号：KR1020170012052

申请日：2017-01-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토,히토시 ,  오히즈미,유키오 ,  혼마,마나부 ,  고바야시,다케시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  H01L21/205

Abstract: 회전테이블의일면측에적재된기판을공전시키면서당해기판에대하여처리가스를공급해서처리를행함에있어서, 기판의둘레방향을따라균일한처리를실시하는것이가능한기판처리장치를제공한다. 기판처리장치(1)는, 처리용기(11) 내에설치된회전테이블(2)에적재된기판(W)을공전시키면서처리가스에의한처리를행하고, 기판(W)이적재되는적재대(24)는, 회전테이블(2)의회전축(21)을따른방향으로신장되는자전축(26)을중심으로자전가능하게설치되고, 자기기어기구의수동기어부(45)는, 구동기어부(51)와의사이에형성되는자력선의이동에수반하여, 적재대(24)를자전축(26)을중심으로자전시킨다.

Abstract translation: 本发明提供一种基板处理装置，其一边使安装于旋转台的一侧的基板回转，一边向基板供给处理气体，由此能够沿着基板的周向进行均匀的处理。 基板处理装置1一边使载置在处理容器11内的旋转台2上的基板W公转一边进行基于处理气体的处理，并利用处理气体在载置台24上进行处理， 被设置成能够以沿着旋转台2的旋转轴21的方向延伸的旋转轴26为中心旋转，并且磁性齿轮机构的同步部件45配置在驱动齿轮51 台24随着台24上形成的磁力线的移动而绕旋转轴26旋转。

公开(公告)号：KR1020170030043A

公开(公告)日：2017-03-16

申请号：KR1020160112619

申请日：2016-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토,히토시 ,  오히즈미,유키오 ,  혼마,마나부

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45551 ,  C23C16/402 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/4584 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01L21/68792

Abstract: 기판을회전테이블에의해공전시키면서당해기판에대하여처리가스를공급해서처리하는기판처리장치에있어서, 기판의둘레방향으로균일성높은처리를행함과함께, 회전테이블이받는부하를억제할수 있는기술을제공하는것이다. 처리용기내에설치된회전테이블과, 상기회전테이블을회전시키기위한회전기구와, 상기회전테이블의하방측에서상기회전테이블의회전축에설치된지지부와, 기판의적재위치에대응해서상기회전테이블에형성된개구부와, 상기개구부를통해서상기지지부에자전가능하게지지되고, 기판의상면의높이위치가상기회전테이블의상면의높이위치에정렬되도록기판을적재하기위한적재부와, 상기적재부를자전시키기위한자전기구를구비하도록장치를구성한다. 그에의해, 회전테이블에가해지는중량의부하를억제한다.

Abstract translation: 而旋转通过在用于处理的基板处理装置的旋转台上的基板供给的处理气体被施加到基底上，以在衬底均匀的周向方向与执行高吞吐量，可以抑制旋转台接收到一个负载技术 提供。 支撑部分，其设置在旋转台的旋转轴上，位于旋转台的下侧;开口，其形成在与旋转台的基板的安装位置对应的旋转台中; 通过开口和旋转可以由支撑部分的衬底用于安装基片来对准旋转工作台，用于旋转零件装填旋转机构的上表面的高度位置安装部分的上表面的高度位置支撑，并且 该设备构建。 由此，施加在旋转台上的重量的载荷被抑制。