公开(公告)号：KR102214965B1

公开(公告)日：2021-02-09

申请号：KR1020180019908

申请日：2018-02-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고바야시,다케시 ,  가토,히토시 ,  오히즈미,유키오

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02

Abstract: 본발명은, 회전테이블의일면측에설치된기판의적재대를공전시키면서자전시킴에있어서, 적재대의자전량을정확하게검출하는것이다. 회전테이블(2)에설치된기판의적재대(3)에, 그자전축(32)을중심으로해서회전하도록회전엘리먼트(61)를설치함과함께, 당해회전엘리먼트(61)와함께로터리인코더를구성하는인코더본체(62)를회전테이블(2)에고정부재(7)에의해고정한다. 또한, 인코더본체(62)에의해검출한검출신호를처리하는신호처리부(751)를구비한제1 컨트롤러(75)를회전테이블(2)에설치한다. 적재대(3)가회전하면, 회전엘리먼트(61)가회전하고, 그회전각을인코더본체(62)에의해검출한다. 그리고, 신호처리부(751)에서예를들어단위시간당회전각을구하고, 외부의제2 컨트롤러(78)에송신하여, 표시부(781)에표시한다.

公开(公告)号：KR101933272B1

公开(公告)日：2018-12-27

申请号：KR1020160035390

申请日：2016-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미우라,시게히로 ,  고바야시,다케시 ,  스가와라,가츠아키 ,  이토,나오히데

IPC: H01J37/32 ,  G01N21/25 ,  G01N21/68 ,  G01J3/02 ,  G01J3/443

Abstract: 본 발명은 회전 테이블(2)에 의해 웨이퍼(W)를 공전시키면서 플라즈마 처리하는 장치에 관한 것으로, 히터 유닛(7)의 광에 의해 밝게 되어 있는 플라즈마 발생 영역에서의 플라즈마의 착화를 확실하게 검출한다. 진공 용기(1)의 천장면에 투과창(300)을 설치하고, 광 검출부(301)에 의해 투과창(300)의 하방측의 플라즈마 발생 영역의 광을 검출한다. 그리고 R, G, B의 각 광 강도의 합계에 대한 R, G, B의 각각의 비율을 구하고, 또한 안테나(83)에 고주파 전력을 공급하기 전후에서의 각 비율의 변화율을 구해서 그들을 합계한 값을 평가값으로 하고, 평가값과 임계값을 비교하여, 평가값이 임계값보다도 크면 플라즈마의 착화가 일어나고, 평가값이 임계값 이하이면 플라즈마의 착화가 일어나지 않았다고 판단한다.

公开(公告)号：KR102249904B1

公开(公告)日：2021-05-07

申请号：KR1020180000703

申请日：2018-01-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토,히토시 ,  오히즈미,유키오 ,  혼마,마나부 ,  고바야시,다케시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  C23C16/455 ,  H01L21/02

Abstract: 회전테이블의일면측에적재된기판인웨이퍼를공전시키면서성막처리를행하는데 있어서, 웨이퍼의주위방향을따라균일한처리를실시한다. 회전테이블(2)의일면측에웨이퍼를적재하는적재대(3)를회전테이블(2)에의해공전하도록설치한다. 또한, 적재대(3)의자전축(32)에종동기어(4)를설치함과함께, 이종동기어(4)의공전궤도의전체주위를따라당해종동기어(4)와자기기어기구를구성하는구동기어(5)를설치한다. 구동기어(5)를자전용회전기구(53)에의해회전시켜, 구동기어(5)의각속도와종동기어(4)의공전에의한각속도의속도차를발생시킴으로써적재대(3)가자전하므로, 웨이퍼(W)의주위방향에대해서성막처리의균일성을향상시킬수 있다. 또한, 구동기어(5)의각속도와종동기어(4)의각속도와의차에의해, 종동기어(4)의자전속도를용이하게조정할수 있다.

公开(公告)号：KR1020170092105A

公开(公告)日：2017-08-10

申请号：KR1020170012052

申请日：2017-01-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토,히토시 ,  오히즈미,유키오 ,  혼마,마나부 ,  고바야시,다케시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  H01L21/205

Abstract: 회전테이블의일면측에적재된기판을공전시키면서당해기판에대하여처리가스를공급해서처리를행함에있어서, 기판의둘레방향을따라균일한처리를실시하는것이가능한기판처리장치를제공한다. 기판처리장치(1)는, 처리용기(11) 내에설치된회전테이블(2)에적재된기판(W)을공전시키면서처리가스에의한처리를행하고, 기판(W)이적재되는적재대(24)는, 회전테이블(2)의회전축(21)을따른방향으로신장되는자전축(26)을중심으로자전가능하게설치되고, 자기기어기구의수동기어부(45)는, 구동기어부(51)와의사이에형성되는자력선의이동에수반하여, 적재대(24)를자전축(26)을중심으로자전시킨다.

Abstract translation: 本发明提供一种基板处理装置，其一边使安装于旋转台的一侧的基板回转，一边向基板供给处理气体，由此能够沿着基板的周向进行均匀的处理。 基板处理装置1一边使载置在处理容器11内的旋转台2上的基板W公转一边进行基于处理气体的处理，并利用处理气体在载置台24上进行处理， 被设置成能够以沿着旋转台2的旋转轴21的方向延伸的旋转轴26为中心旋转，并且磁性齿轮机构的同步部件45配置在驱动齿轮51 台24随着台24上形成的磁力线的移动而绕旋转轴26旋转。

公开(公告)号：KR1020160117221A

公开(公告)日：2016-10-10

申请号：KR1020160035390

申请日：2016-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미우라,시게히로 ,  고바야시,다케시 ,  스가와라,가츠아키 ,  이토,나오히데

IPC: H01J37/32 ,  G01N21/25 ,  G01N21/68 ,  G01J3/02 ,  G01J3/443

CPC classification number: H01J37/32972 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32935 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01J37/32944 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0264 ,  G01J3/443 ,  G01N21/25 ,  G01N21/68

Abstract: 본발명은회전테이블(2)에의해웨이퍼(W)를공전시키면서플라즈마처리하는장치에관한것으로, 히터유닛(7)의광에의해밝게되어있는플라즈마발생영역에서의플라즈마의착화를확실하게검출한다. 진공용기(1)의천장면에투과창(300)을설치하고, 광검출부(301)에의해투과창(300)의하방측의플라즈마발생영역의광을검출한다. 그리고 R, G, B의각 광강도의합계에대한 R, G, B의각각의비율을구하고, 또한안테나(83)에고주파전력을공급하기전후에서의각 비율의변화율을구해서그들을합계한값을평가값으로하고, 평가값과임계값을비교하여, 평가값이임계값보다도크면플라즈마의착화가일어나고, 평가값이임계값이하이면플라즈마의착화가일어나지않았다고판단한다.