公开(公告)号：KR1020170122133A

公开(公告)日：2017-11-03

申请号：KR1020170052696

申请日：2017-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후지노유타카 ,  고마츠도모히토 ,  이케다다로 ,  나카고미쥰 ,  와쿠츠다케오

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/32247 ,  H01J37/32458 ,  H01J37/32715 ,  H01J2237/3321 ,  H01J2237/334

Abstract: 본발명은처리가스를가스의특성에따른적절한해리상태로해리시킬수 있고, 또한처리가스의도입균일성및 소망한플라즈마균일성을양립시킬수 있는플라즈마처리장치를제공한다. 플라즈마처리장치는챔버(1)와, 웨이퍼를탑재하는탑재대(11)와, 천정벽(10)을거쳐서챔버(1) 내에마이크로파를도입하는플라즈마원(2)와, 천정벽(10)으로부터제 1 가스를챔버(1) 내에도입하는제 1 가스도입부(21)와, 천정벽(10)으로탑재대(11)의사이로부터제 2 가스를챔버(1) 내에도입하는제 2 가스도입부(22)를구비한다. 제 2 가스도입부(22)는복수의가스토출구멍(116)이형성되고, 천정벽(10)과탑재대(11)의사이의소정의높이위치에위치하도록마련된링 형상부재(110)와, 천정벽(10)과링 형상부재(110)를연결하는각부(111a)를갖고, 링형상부재(110)로의제 2 가스의공급은각부(11a)를거쳐서행해진다.

Abstract translation: 本发明提供一种等离子体处理装置，其能够根据气体的特性将处理气体离解为适当的离解状态，并且能够兼顾处理气体的导入和期望的等离子体均匀性。 等离子体处理装置具备：腔室1，载置晶片的载置台11，经由顶壁10向腔室1内导入微波的等离子体源2， 用于通过顶壁10将第二气体从支架11引入腔室1中的第二气体引入部分22以及用于将第二气体引入腔室1中的第二气体引入部分21， 和。 第二气体引入部分22包括环形构件110，该环形构件110形成为形成多个气体排出孔116并且定位在顶壁10和安装台11之间的预定高度位置处， 成形构件110.第二气体经由腿部11a被供给至环状构件110。

公开(公告)号：KR101902112B1

公开(公告)日：2018-09-27

申请号：KR1020170052696

申请日：2017-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후지노유타카 ,  고마츠도모히토 ,  이케다다로 ,  나카고미쥰 ,  와쿠츠다케오

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/32247 ,  H01J37/32458 ,  H01J37/32715 ,  H01J2237/3321 ,  H01J2237/334

Abstract: 본발명은처리가스를가스의특성에따른적절한해리상태로해리시킬수 있고, 또한처리가스의도입균일성및 소망한플라즈마균일성을양립시킬수 있는플라즈마처리장치를제공한다. 플라즈마처리장치는챔버(1)와, 웨이퍼를탑재하는탑재대(11)와, 천정벽(10)을거쳐서챔버(1) 내에마이크로파를도입하는플라즈마원(2)와, 천정벽(10)으로부터제 1 가스를챔버(1) 내에도입하는제 1 가스도입부(21)와, 천정벽(10)으로탑재대(11)의사이로부터제 2 가스를챔버(1) 내에도입하는제 2 가스도입부(22)를구비한다. 제 2 가스도입부(22)는복수의가스토출구멍(116)이형성되고, 천정벽(10)과탑재대(11)의사이의소정의높이위치에위치하도록마련된링 형상부재(110)와, 천정벽(10)과링 형상부재(110)를연결하는각부(111a)를갖고, 링형상부재(110)로의제 2 가스의공급은각부(11a)를거쳐서행해진다.