公开(公告)号：KR101347596B1

公开(公告)日：2014-01-03

申请号：KR1020127009921

申请日：2010-09-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후지사토토시아키 ,  하야시시로 ,  요코하라히로유키

IPC: C23C14/34 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6831 ,  C23C14/358 ,  C23C14/50 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32577 ,  H01J37/3405

Abstract: 본 발명은, 플라즈마 스퍼터에 의해 금속막을 형성하기 위한 피처리체를 재치(載置)하고, 외주측이 절연용의 간극을 두고 그라운드측에 접속된 보호 커버 부재에 의해 둘러싸인 재치대 구조에 관한 것이다. 본 발명의 재치대 구조는, 도전성 재료로 이루어지고, 상기 피처리체를 그 상면측에 재치하고, 전극으로서 겸용되는 재치대 본체와, 상기 재치대 본체의 하방에 이간되어 배치되고, 상기 재치대 본체에 대하여 절연 상태로 설치된 도전성 재료로 이루어지는 베이스대와, 상기 베이스대를 지지하고, 그라운드측에 접속된 지지 기둥과, 상기 재치대 본체에 접속되어 바이어스용의 고주파 전력을 공급하는 고주파 급전 라인과, 상기 고주파 전력이 인가되는 핫측과 그라운드측의 사이에 형성된 전력 안정용 콘덴서부를 구비한다. 상기 전력 안정용 콘덴서부의 정전 용량은, 상기 재치대 본체와 상기 보호 커버 부재 간에 형성되는 부유 용량의 정전 용량보다 크게 설정되어 있다.

公开(公告)号：KR102139872B1

公开(公告)日：2020-07-30

申请号：KR1020180154318

申请日：2018-12-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마에다고지 ,  요코하라히로유키 ,  소네히로시 ,  미야시타데츠야

IPC: H01L21/285 ,  H01L21/02 ,  C23C14/34 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687

公开(公告)号：KR1020120054655A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：KR1020127009921

申请日：2010-09-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후지사토토시아키 ,  하야시시로 ,  요코하라히로유키

IPC: C23C14/34 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6831 ,  C23C14/358 ,  C23C14/50 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32577 ,  H01J37/3405

Abstract: 본 발명은, 플라즈마 스퍼터에 의해 금속막을 형성하기 위한 피처리체를 재치(載置)하고, 외주측이 절연용의 간극을 두고 그라운드측에 접속된 보호 커버 부재에 의해 둘러싸인 재치대 구조에 관한 것이다. 본 발명의 재치대 구조는, 도전성 재료로 이루어지고, 상기 피처리체를 그 상면측에 재치하고, 전극으로서 겸용되는 재치대 본체와, 상기 재치대 본체의 하방에 이간되어 배치되고, 상기 재치대 본체에 대하여 절연 상태로 설치된 도전성 재료로 이루어지는 베이스대와, 상기 베이스대를 지지하고, 그라운드측에 접속된 지지 기둥과, 상기 재치대 본체에 접속되어 바이어스용의 고주파 전력을 공급하는 고주파 급전 라인과, 상기 고주파 전력이 인가되는 핫측과 그라운드측의 사이에 형성된 전력 안정용 콘덴서부를 구비한다. 상기 전력 안정용 콘덴서부의 정전 용량은, 상기 재치대 본체와 상기 보호 커버 부재 간에 형성되는 부유 용량의 정전 용량보다 크게 설정되어 있다.