가스 공급 장치, 기판 처리 장치 및 공급 가스설정 방법
    2.
    发明授权
    가스 공급 장치, 기판 처리 장치 및 공급 가스설정 방법 有权
    气体供应单元,基板加工装置和供气设定方法

    公开(公告)号:KR100753692B1

    公开(公告)日:2007-08-30

    申请号:KR1020050119216

    申请日:2005-12-08

    Abstract: 간단한 배관구성으로, 처리용기의 복수개소에 임의의 혼합 가스를 공급한다. 가스 공급 장치(100)에, 복수의 가스 공급원을 구비한 제 1 가스 박스(111)와, 복수의 부가 가스 공급원을 구비한 제 2 가스 박스(113)가 마련된다. 각 가스 공급원에는 혼합배관(120)이 접속되어, 혼합배관(120)에는 다른 버퍼실(63a, 63b)에 통하는 분기배관(122, 123)이 접속된다. 분기배관에는 각각 압력조정부가 마련되어, 압력비 제어 장치(126)에 의해 압력비가 조정된다. 분기배관(123)의 압력 조정부보다도 하류측에는 제 2 가스 박스(113)에 통하는 부가 가스 공급배관(130)이 접속된다. 제 1 가스 박스(111)의 각 가스가 혼합배관(120)에서 혼합되어, 분기배관으로 분류하여 각 버퍼실로 공급된다. 분기배관(123)에는 제 2 가스 박스(113)의 부가 가스가 부가되어, 버퍼실(63b)에는 버퍼실(63a)과 다른 혼합 가스가 공급된다.

    가스 공급 장치, 기판 처리 장치 및 공급 가스설정 방법
    4.
    发明公开
    가스 공급 장치, 기판 처리 장치 및 공급 가스설정 방법 有权
    气体供应单元,基板加工装置和供气设定方法

    公开(公告)号:KR1020060065510A

    公开(公告)日:2006-06-14

    申请号:KR1020050119216

    申请日:2005-12-08

    Abstract: 간단한 배관구성으로, 처리용기의 복수개소에 임의의 혼합 가스를 공급한다. 가스 공급 장치(100)에, 복수의 가스 공급원을 구비한 제 1 가스 박스(111)와, 복수의 부가 가스 공급원을 구비한 제 2 가스 박스(113)가 마련된다. 각 가스 공급원에는 혼합배관(120)이 접속되어, 혼합배관(120)에는 다른 버퍼실(63a, 63b)에 통하는 분기배관(122, 123)이 접속된다. 분기배관에는 각각 압력조정부가 마련되어, 압력비 제어 장치(126)에 의해 압력비가 조정된다. 분기배관(123)의 압력 조정부보다도 하류측에는 제 2 가스 박스(113)에 통하는 부가 가스 공급배관(130)이 접속된다. 제 1 가스 박스(111)의 각 가스가 혼합배관(120)에서 혼합되어, 분기배관으로 분류하여 각 버퍼실로 공급된다. 분기배관(123)에는 제 2 가스 박스(113)의 부가 가스가 부가되어, 버퍼실(63b)에는 버퍼실(63a)과 다른 혼합 가스가 공급된다.

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