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公开(公告)号：KR100627782B1
公开(公告)日：2006-09-25
申请号：KR1020047013333
申请日：2003-02-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67161 , H01L21/67126 , H01L21/68707
Abstract: 본 발명에 의한 피처리체 수납 용기체는, 운반 가능하게 구성된 용기 본체와, 상기 용기 본체의 내부에 설치되어, 복수매의 피처리체를 지지할 수 있는 피처리체 지지부재와, 상기 용기 본체의 일측 측면에 형성되고, 상기 용기 본체의 내부와 연통하는 접합 포트와, 상기 접합 포트에 설치된 개폐 가능한 게이트 밸브와, 상기 용기 본체의 내부의 분위기를 배기할 수 있도록 개폐 가능하게 이루어진 배기 포트를 구비한다. 상기 게이트 밸브 및 상기 배기 포트의 폐쇄시에는, 상기 용기 본체의 내부가 밀폐 상태로 된다.
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公开(公告)号：KR100377705B1
公开(公告)日：2003-06-09
申请号：KR1019960074143
申请日：1996-12-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/30
CPC classification number: C23C16/4408 , B01J4/00 , C23C16/4407 , C23C16/4481 , C23C16/52 , F17C7/04 , F17C2221/012 , F17C2221/016 , F17C2223/0153 , F17C2227/044 , F17C2250/032 , F17C2250/043 , F17C2250/0636 , F17C2270/0518 , Y02E60/321
Abstract: A process gas supply apparatus according to the invention comprises a supply pipe line connecting a supply source containing an organic aluminum metallic compound in a liquid state, to a process device for forming a film on an object using the organic aluminum metallic compound, a force-feed device for force-feeding, through the supply pipe line, the organic aluminum metallic compound contained in the supply source, a vaporizing device provided across the supply pipe line for vaporizing the force-fed organic aluminum metallic compound of the liquid state, a purge gas introduction device connected to the supply pipe line for introducing a pressurized purge gas into the supply pipe line, a solvent introduction device connected to the supply pipe line for introducing into the supply pipe line a solvent for dissolving the organic aluminum metallic compound, an exhaustion device connected to the supply pipe line for exhausting the supply pipe line by a negative pressure, and a control device having a plurality of valves arranged across the supply pipe line, and controlling the flow of fluids flowing through the supply pipe line by opening and closing the valves.
Abstract translation: 根据本发明的处理气体供应设备包括：供应管线，其将含有液态有机铝金属化合物的供应源连接到用于使用有机铝金属化合物在物体上形成膜的处理装置; 通过供给管线供给包含在供给源中的有机铝金属化合物的供给装置，设置在供给管线上以汽化液体的强制供给有机铝金属化合物的汽化装置， 气体引入装置，连接到供应管路上，用于将加压清洗气体引入供应管路;溶剂引入装置，连接到供应管路，用于将用于溶解有机铝金属化合物的溶剂引入供应管路; 装置连接到供应管线，用于通过负压排出供应管线，以及控制装置 e具有布置在供应管线上的多个阀，并且通过打开和关闭阀来控制流过供应管线的流体的流动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100753692B1
公开(公告)日：2007-08-30
申请号：KR1020050119216
申请日：2005-12-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/3065
Abstract: 간단한 배관구성으로, 처리용기의 복수개소에 임의의 혼합 가스를 공급한다. 가스 공급 장치(100)에, 복수의 가스 공급원을 구비한 제 1 가스 박스(111)와, 복수의 부가 가스 공급원을 구비한 제 2 가스 박스(113)가 마련된다. 각 가스 공급원에는 혼합배관(120)이 접속되어, 혼합배관(120)에는 다른 버퍼실(63a, 63b)에 통하는 분기배관(122, 123)이 접속된다. 분기배관에는 각각 압력조정부가 마련되어, 압력비 제어 장치(126)에 의해 압력비가 조정된다. 분기배관(123)의 압력 조정부보다도 하류측에는 제 2 가스 박스(113)에 통하는 부가 가스 공급배관(130)이 접속된다. 제 1 가스 박스(111)의 각 가스가 혼합배관(120)에서 혼합되어, 분기배관으로 분류하여 각 버퍼실로 공급된다. 분기배관(123)에는 제 2 가스 박스(113)의 부가 가스가 부가되어, 버퍼실(63b)에는 버퍼실(63a)과 다른 혼합 가스가 공급된다.
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公开(公告)号：KR1020040086450A
公开(公告)日：2004-10-08
申请号：KR1020047013333
申请日：2003-02-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67161 , H01L21/67126 , H01L21/68707
Abstract: 본 발명에 의한 피처리체 수납 용기체는, 운반 가능하게 구성된 용기 본체와, 상기 용기 본체의 내부에 설치되어, 복수매의 피처리체를 지지할 수 있는 피처리체 지지부재와, 상기 용기 본체의 일측 측면에 형성되고, 상기 용기 본체의 내부와 연통하는 접합 포트와, 상기 접합 포트에 설치된 개폐 가능한 게이트 밸브와, 상기 용기 본체의 내부의 분위기를 배기할 수 있도록 개폐 가능하게 이루어진 배기 포트를 구비한다. 상기 게이트 밸브 및 상기 배기 포트의 폐쇄시에는, 상기 용기 본체의 내부가 밀폐 상태로 된다.
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公开(公告)号：KR1020060065510A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：KR1020050119216
申请日：2005-12-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/3065
Abstract: 간단한 배관구성으로, 처리용기의 복수개소에 임의의 혼합 가스를 공급한다. 가스 공급 장치(100)에, 복수의 가스 공급원을 구비한 제 1 가스 박스(111)와, 복수의 부가 가스 공급원을 구비한 제 2 가스 박스(113)가 마련된다. 각 가스 공급원에는 혼합배관(120)이 접속되어, 혼합배관(120)에는 다른 버퍼실(63a, 63b)에 통하는 분기배관(122, 123)이 접속된다. 분기배관에는 각각 압력조정부가 마련되어, 압력비 제어 장치(126)에 의해 압력비가 조정된다. 분기배관(123)의 압력 조정부보다도 하류측에는 제 2 가스 박스(113)에 통하는 부가 가스 공급배관(130)이 접속된다. 제 1 가스 박스(111)의 각 가스가 혼합배관(120)에서 혼합되어, 분기배관으로 분류하여 각 버퍼실로 공급된다. 분기배관(123)에는 제 2 가스 박스(113)의 부가 가스가 부가되어, 버퍼실(63b)에는 버퍼실(63a)과 다른 혼합 가스가 공급된다.
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公开(公告)号：KR1019970077143A
公开(公告)日：1997-12-12
申请号：KR1019970017628
申请日：1997-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/20
Abstract: 본 발명의 처리 가스 공급 장치는, 유기 산소 화합물에 의해 그 점도가 저하된 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물이 수용된 공급원과; 공급원과, 처리 대상물에 유기 알루미늄 금속 화합물에 의한 성막 처리를 행하는 처리 장치를 접속시키는 공급관로와; 공급원에 수용된 유기 알루미늄 금속 화합물을 공급관로를 통해 압송하는 압송 장치와; 공급관로에 마련되며, 압소되는 액체 형태의 유기 알루미늄 금속화합물을 기화하는 기화 장치를 구비하고 있다. 또한, 본 발명의 처리 가스 공급 방법은, 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물의 점도를 유기 산소 화합물에 의해 저하시키고; 점도가 저하된 유기 알루미늄 금속 화합물을 공급관로에 압송하며; 공급관로로 압송되는 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물을 기화 장치에 의해 기화시켜 처리 가스를 형성하고; 처리 가스를, 공급관로를 통해, 처리 대상물에 유기 알루미늄 금속 화합물에 의한 성막 처리를 행하는 처리 장치에 공급하는 것을 특징으로 한다.
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