公开(公告)号：KR101924677B1

公开(公告)日：2018-12-03

申请号：KR1020150126970

申请日：2015-09-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토나오히데 ,  모리사와다이스케 ,  오사다게이지

IPC: H01L21/677

Abstract: 처리에 영향을 미치지 않고, 더미 스토커 내의 웨이퍼의 교환을 가능하게 할 수 있는 처리 장치 및 처리 방법을 제공한다.
처리 장치(1)는, 복수의 반도체 웨이퍼를 수용한 반송 용기(21)를 배치하는 로드 포트(2)와, 복수의 더미 웨이퍼를 수용한 반송 용기(31)를 배치하는 더미 웨이퍼 저장 영역(3)과, 제1 반송 아암(8)이 설치된 상압 반송실(4)과, 반송된 복수의 반도체 웨이퍼 및 더미 웨이퍼를 슬롯(80)에 배치한 상태로, 복수의 반도체 웨이퍼를 처리하는 기기(71)와, 장치 각 부를 제어하는 제어부(100)를 구비하고 있다. 제어부(100)는, 반송 용기(31)에 수용된 더미 웨이퍼를 복수의 그룹으로 구분하고, 제1 반송 아암(8)을 제어하여, 구분한 그룹 중 하나의 그룹 내의 더미 웨이퍼를 우선적으로 기기(71)에 반송함과 함께, 더미 웨이퍼의 교환에 있어서, 구분한 그룹 단위로 더미 웨이퍼의 교환을 행한다.

公开(公告)号：KR1020140139429A

公开(公告)日：2014-12-05

申请号：KR1020140062941

申请日：2014-05-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카하시기이치 ,  고바야시다케시 ,  다카바타케유지 ,  이토나오히데 ,  스가와라가츠아키

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68 ,  H01L21/66 ,  G06T7/00

CPC classification number: G06T7/0004 ,  G06T2207/30148 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/681 ,  H01L21/683 ,  H01L22/00 ,  H01L22/30

Abstract: 본 발명은 챔버 내에 구비된 회전 테이블의 표면에 형성된 기판 적재용 오목부 상에 기판 W가 적재되어, 상기 회전 테이블을 회전시켜도 상기 기판이 상기 오목부로부터 튀어나오지 않는 상태로 된 것을 검출하는 회전 가능 상태 검출 장치이다. 상기 회전 상태 가능 검출 장치는 상기 기판이 상기 오목부 상에 적재되었을 때에, 상기 기판의 단부의 표면의 높이가, 상기 회전 테이블을 회전 개시 가능한 소정값 이하로 된 것을 검출하는 회전 가능 상태 검출 수단을 갖는다.

Abstract translation: 用于检测准备旋转状态的装置检测当转盘旋转时，放置在形成在室中的转台的表面上的凹部上的基板W不会从凹部移出的状态。 用于检测准备旋转状态的装置包括准备旋转状态检测单元，用于在接收到基板时检测基板的端部的表面的高度是否等于或低于指示转台的预定值 在凹部上。

公开(公告)号：KR1020160042789A

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：KR1020150141511

申请日：2015-10-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토나오히데 ,  모리사와다이스케 ,  데와히로아키

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/205 ,  H01L21/683 ,  H01L21/673

Abstract: 본발명은균일한처리를행할수 있는처리장치및 처리방법을제공하는것을목적으로한다. 처리장치(1)는, 복수의반도체웨이퍼를수용한반송용기(21)를배치하는로드포트(2)와, 복수의더미웨이퍼를수용한반송용기(31)를배치하는더미웨이퍼격납에어리어(3)와, 복수의반도체웨이퍼및 더미웨이퍼를슬롯(80)에배치한상태에서, 복수의반도체웨이퍼를처리하는기기(71)와, 장치각부를제어하는제어부(100)를구비하고있다. 제어부(100)는, 기기(71)가미처리상태인지의여부를판별하여, 기기(71)가미처리상태라고판별되면, 반송용기(31)에수용된더미웨이퍼를슬롯(80)까지반송하고, 기기(71)에의한다음의처리가설정되면, 더미웨이퍼를반송용기(31)에반송한다.

Abstract translation: 本发明涉及能够均匀地执行处理的处理装置及其处理方法。 处理装置（1）包括：杆端口（2），其布置存储多个半导体晶片的输送容器（21）; 设置存储多个虚拟晶片的另一个输送容器（31）的虚拟晶片容纳区域（3） 当多个半导体晶片和虚设晶片布置在槽（80）上时，处理多个半导体晶片的器件（71）; 以及控制处理装置（1）中的每个单元的控制单元（100）。 控制单元（100）判定装置（71）是否被处理时，当装置（71）被确定为未处理时，将存储在输送容器（31）中的虚拟晶片传送到槽（80） 并且当由所述装置（71）设定下一处理时，将所述虚拟晶片传送到所述输送容器（31）。

公开(公告)号：KR1020140139431A

公开(公告)日：2014-12-05

申请号：KR1020140063161

申请日：2014-05-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기쿠치히토시 ,  고바야시다케시 ,  요시다미츠히로 ,  하가유타 ,  다카바타케유지 ,  이토나오히데 ,  스가와라가츠아키 ,  지바마사아키 ,  사토히로유키

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68 ,  H01L21/66 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  G06T7/00

CPC classification number: C23C16/52 ,  C23C16/45551 ,  H01L21/67259 ,  G06T7/0004 ,  G06T2207/30148 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/681 ,  H01L21/683 ,  H01L22/10 ,  H01L22/30

Abstract: 챔버 내에 구비된 회전 테이블의 표면에 형성된 기판 적재용의 오목부에 기판(W)이 적재되었을 때에, 상기 회전 테이블을 회전시켜도 상기 기판이 상기 오목부로부터 튀어나오지 않는 상태가 된 것을 검출하는 회전 가능 상태 검출 장치이다. 상기 회전 상태 가능 검출 장치는, 상기 기판이 상기 오목부 상에 적재되었을 때에, 상기 기판 단부의 표면 높이가, 상기 회전 테이블을 회전 개시 가능한 소정값 이하가 된 것을 검출하는 회전 가능 상태 검출 수단을 갖는다.

Abstract translation: 公开了一种用于检测准备旋转状态的装置，其检测当形成在室中的转盘的表面上的凹部上的基板W从凹部移出时不会从凹部移出的状态 转盘旋转。 用于检测准备旋转状态的装置包括准备旋转状态检测单元，用于在接收到基板时检测基板的端部的表面的高度是否等于或低于指示转台的预定值 在凹部上。

公开(公告)号：KR101942613B1

公开(公告)日：2019-01-25

申请号：KR1020150141511

申请日：2015-10-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토나오히데 ,  모리사와다이스케 ,  데와히로아키

IPC: C23C16/52 ,  C23C16/54 ,  H01L21/02 ,  H01L21/285

公开(公告)号：KR101734617B1

公开(公告)日：2017-05-11

申请号：KR1020140063161

申请日：2014-05-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기쿠치히토시 ,  고바야시다케시 ,  요시다미츠히로 ,  하가유타 ,  다카바타케유지 ,  이토나오히데 ,  스가와라가츠아키 ,  지바마사아키 ,  사토히로유키

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68 ,  H01L21/66 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  G06T7/00

CPC classification number: C23C16/52 ,  C23C16/45551

Abstract: 챔버내에구비된회전테이블의표면에형성된기판적재용의오목부에기판(W)이적재되었을때에, 상기회전테이블을회전시켜도상기기판이상기오목부로부터튀어나오지않는상태가된 것을검출하는회전가능상태검출장치이다. 상기회전상태가능검출장치는, 상기기판이상기오목부상에적재되었을때에, 상기기판단부의표면높이가, 상기회전테이블을회전개시가능한소정값이하가된 것을검출하는회전가능상태검출수단을갖는다.

Abstract translation: 当将基板W安装在用于安装形成在设置在腔室中的旋转台的表面上的基板的凹部上时，旋转台的旋转被检测， 状态检测装置。 旋转状态使能检测装置具有可旋转状态检测装置，用于检测上部设备判定部分的表面的高度变得小于或等于当装置安装在基板的凹部上时旋转台能够开始旋转的预定值。

公开(公告)号：KR101736538B1

公开(公告)日：2017-05-16

申请号：KR1020140062941

申请日：2014-05-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카하시기이치 ,  고바야시다케시 ,  다카바타케유지 ,  이토나오히데 ,  스가와라가츠아키

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68 ,  H01L21/66 ,  G06T7/00

CPC classification number: G06T7/0004 ,  G06T2207/30148

Abstract: 본발명은챔버내에구비된회전테이블의표면에형성된기판적재용오목부상에기판 W가적재되어, 상기회전테이블을회전시켜도상기기판이상기오목부로부터튀어나오지않는상태로된 것을검출하는회전가능상태검출장치이다. 상기회전상태가능검출장치는상기기판이상기오목부상에적재되었을때에, 상기기판의단부의표면의높이가, 상기회전테이블을회전개시가능한소정값이하로된 것을검출하는회전가능상태검출수단을갖는다.

Abstract translation: 基板安装形成于旋转台的表面上的凹部上的基板W gajeok材料的发明中，旋转状态检测检测到该旋转旋转台即使当状态不从在所述室中提供的衬底移相器凹部伸出 该设备。 旋转状态检测装置具有旋转状态检测装置，用于检测基板端部表面的高度是否小于或等于当基板装载到基板上时旋转台能够开始旋转的预定值， 。

公开(公告)号：KR1020160036481A

公开(公告)日：2016-04-04

申请号：KR1020150126970

申请日：2015-09-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토나오히데 ,  모리사와다이스케 ,  오사다게이지

IPC: H01L21/677

CPC classification number: C23C16/4584 ,  C23C16/52 ,  H01L21/02263 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67745

Abstract: 처리에영향을미치지않고, 더미스토커내의웨이퍼의교환을가능하게할 수있는처리장치및 처리방법을제공한다. 처리장치(1)는, 복수의반도체웨이퍼를수용한반송용기(21)를배치하는로드포트(2)와, 복수의더미웨이퍼를수용한반송용기(31)를배치하는더미웨이퍼저장영역(3)과, 제1 반송아암(8)이설치된상압반송실(4)과, 반송된복수의반도체웨이퍼및 더미웨이퍼를슬롯(80)에배치한상태로, 복수의반도체웨이퍼를처리하는기기(71)와, 장치각 부를제어하는제어부(100)를구비하고있다. 제어부(100)는, 반송용기(31)에수용된더미웨이퍼를복수의그룹으로구분하고, 제1 반송아암(8)을제어하여, 구분한그룹중 하나의그룹내의더미웨이퍼를우선적으로기기(71)에반송함과함께, 더미웨이퍼의교환에있어서, 구분한그룹단위로더미웨이퍼의교환을행한다.

Abstract translation: 本发明提供一种处理装置和处理方法，其可以在不影响处理的情况下代替虚拟储料器中的晶片。 处理装置（1）包括：装载端口（2），其中布置有容纳多个半导体晶片的运输容器（21）; 设置容纳多个虚设晶片的运送容器（31）的虚拟晶片储存区域（3） 其中安装有第一输送臂（8）的常压输送室（4） 在所述半导体晶片和被输送的所述虚设晶片被布置在槽（80）中的状态下处理所述半导体晶片的装置（71）; 以及控制单元（100），其控制处理设备的每个组件。 控制单元（100）将容纳在运送容器（31）中的虚拟晶片分成多组，并且控制第一输送臂（8）优先地将分类组中的一个中的虚拟晶片传送到装置（71 ）并且更换虚拟晶片，以将分组的虚拟晶片组替换为组。