公开(公告)号：KR1019970077143A

公开(公告)日：1997-12-12

申请号：KR1019970017628

申请日：1997-05-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 호리우치타카시 ,  고미히사시 ,  이토마사히데 ,  진노우치심페이

IPC: H01L21/20

Abstract: 본 발명의 처리 가스 공급 장치는, 유기 산소 화합물에 의해 그 점도가 저하된 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물이 수용된 공급원과; 공급원과, 처리 대상물에 유기 알루미늄 금속 화합물에 의한 성막 처리를 행하는 처리 장치를 접속시키는 공급관로와; 공급원에 수용된 유기 알루미늄 금속 화합물을 공급관로를 통해 압송하는 압송 장치와; 공급관로에 마련되며, 압소되는 액체 형태의 유기 알루미늄 금속화합물을 기화하는 기화 장치를 구비하고 있다. 또한, 본 발명의 처리 가스 공급 방법은, 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물의 점도를 유기 산소 화합물에 의해 저하시키고; 점도가 저하된 유기 알루미늄 금속 화합물을 공급관로에 압송하며; 공급관로로 압송되는 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물을 기화 장치에 의해 기화시켜 처리 가스를 형성하고; 처리 가스를, 공급관로를 통해, 처리 대상물에 유기 알루미늄 금속 화합물에 의한 성막 처리를 행하는 처리 장치에 공급하는 것을 특징으로 한다.