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1.
公开(公告)号:KR100449115B1
公开(公告)日:2004-12-04
申请号:KR1019960074144
申请日:1996-12-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205
Abstract: This invention provides a clustered tool apparatus comprises a water-removal processing member chamber for heating an object to be processed by using a heater to remove water and the like adhering to the surface of the object, an oxide- film removal processing chamber for removing, by etching, a natural oxide film formed on the surface of the object W from which the water has been removed, film-formation processing chambers for performing film-formation processing on the surface of the object, a cooling processing chamber for cooling the object from the film-formation processing, and a common transfer chamber, commonly connected/disconnected to/from the water-removal processing chamber, the oxide-film removal processing chamber, the film-formation processing chambers and the cooling processing chamber 20, to loading/unloading the object.
Abstract translation: 本发明提供了一种集群式工具装置,其包括用于通过使用加热器来加热被处理物体以去除附着在物体表面上的水等的除水处理构件室,用于除去, 通过蚀刻在被除去了水分的被处理体W的表面上形成的自然氧化膜,对被处理体表面进行成膜处理的成膜处理室,冷却被处理物的处理室 成膜处理和共同的传送室,通常与脱水处理室,氧化膜去除处理室,成膜处理室和冷却处理室20连接/分离,以将装载/ 卸载对象。
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公开(公告)号:KR1019970077143A
公开(公告)日:1997-12-12
申请号:KR1019970017628
申请日:1997-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/20
Abstract: 본 발명의 처리 가스 공급 장치는, 유기 산소 화합물에 의해 그 점도가 저하된 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물이 수용된 공급원과; 공급원과, 처리 대상물에 유기 알루미늄 금속 화합물에 의한 성막 처리를 행하는 처리 장치를 접속시키는 공급관로와; 공급원에 수용된 유기 알루미늄 금속 화합물을 공급관로를 통해 압송하는 압송 장치와; 공급관로에 마련되며, 압소되는 액체 형태의 유기 알루미늄 금속화합물을 기화하는 기화 장치를 구비하고 있다. 또한, 본 발명의 처리 가스 공급 방법은, 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물의 점도를 유기 산소 화합물에 의해 저하시키고; 점도가 저하된 유기 알루미늄 금속 화합물을 공급관로에 압송하며; 공급관로로 압송되는 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물을 기화 장치에 의해 기화시켜 처리 가스를 형성하고; 처리 가스를, 공급관로를 통해, 처리 대상물에 유기 알루미늄 금속 화합물에 의한 성막 처리를 행하는 처리 장치에 공급하는 것을 특징으로 한다.
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3.
公开(公告)号:KR1019970052092A
公开(公告)日:1997-07-29
申请号:KR1019960074144
申请日:1996-12-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205
Abstract: 본 발명은 본 발명의 클러스터 툴(cluster tool)장치는 대상물이 반입/반출된 반송실과; 반송실과 연속적으로 통과하게 접속되고, 대상물을 가열하는 가열 히터를 구비하고, 가열 히터에 의해 대상물을 가열하여 대상물의 표면에 부착하는 수분을 제거하기 위한 수분 제거 처리실과; 반송실과 연속적으로 통과하게 접속되고 대상무의 표면에 부착하는 자연 산화막을 에칭 가스에 의해 제거하기 위한 산화막 제거 처리실과; 반송실과 연속적으로 통과하게 접속되고 대상물의 표면에 성막 처리실을 행하기 위한 성막 처리실과; 반송실과 연속적으로 통과가능하게 접속되고, 성막 처리된 대상물을 냉각하기 위한 냉각 처리실을 구비한다.
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