公开(公告)号：KR100377705B1

公开(公告)日：2003-06-09

申请号：KR1019960074143

申请日：1996-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고미히사시 ,  이토마사히데 ,  지오우치심페이 ,  이케다토울

IPC: H01L21/30

CPC classification number: C23C16/4408 ,  B01J4/00 ,  C23C16/4407 ,  C23C16/4481 ,  C23C16/52 ,  F17C7/04 ,  F17C2221/012 ,  F17C2221/016 ,  F17C2223/0153 ,  F17C2227/044 ,  F17C2250/032 ,  F17C2250/043 ,  F17C2250/0636 ,  F17C2270/0518 ,  Y02E60/321

Abstract: A process gas supply apparatus according to the invention comprises a supply pipe line connecting a supply source containing an organic aluminum metallic compound in a liquid state, to a process device for forming a film on an object using the organic aluminum metallic compound, a force-feed device for force-feeding, through the supply pipe line, the organic aluminum metallic compound contained in the supply source, a vaporizing device provided across the supply pipe line for vaporizing the force-fed organic aluminum metallic compound of the liquid state, a purge gas introduction device connected to the supply pipe line for introducing a pressurized purge gas into the supply pipe line, a solvent introduction device connected to the supply pipe line for introducing into the supply pipe line a solvent for dissolving the organic aluminum metallic compound, an exhaustion device connected to the supply pipe line for exhausting the supply pipe line by a negative pressure, and a control device having a plurality of valves arranged across the supply pipe line, and controlling the flow of fluids flowing through the supply pipe line by opening and closing the valves.

Abstract translation: 根据本发明的处理气体供应设备包括：供应管线，其将含有液态有机铝金属化合物的供应源连接到用于使用有机铝金属化合物在物体上形成膜的处理装置; 通过供给管线供给包含在供给源中的有机铝金属化合物的供给装置，设置在供给管线上以汽化液体的强制供给有机铝金属化合物的汽化装置， 气体引入装置，连接到供应管路上，用于将加压清洗气体引入供应管路;溶剂引入装置，连接到供应管路，用于将用于溶解有机铝金属化合物的溶剂引入供应管路; 装置连接到供应管线，用于通过负压排出供应管线，以及控制装置 e具有布置在供应管线上的多个阀，并且通过打开和关闭阀来控制流过供应管线的流体的流动。

公开(公告)号：KR100352379B1

公开(公告)日：2002-11-16

申请号：KR1019970001902

申请日：1997-01-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 호리우치다카시 ,  고바야시센쇼 ,  이토오마사히데 ,  고미히사시

IPC: H01L21/22

Abstract: 본 발명의 배기 시스템은 유기 금속 화합물의 기화가스를 이용하여 대상물에 성막(成膜)을 실시하는 성막처리장치의 배기구에 접속된 배기관로와; 배기관로에 설치되어, 성막처리장치내의 가스를 배기 가스로써 배기관로를 통하여 압송하는 압송장치와; 압송장치에 설치되어, 유기 금속 화합물의 열분해 온도보다 더 낮은 온도로 압송장치를 냉각함으로써 압송장치로 도입되는 배기 가스중에 함유된 유기 금속 화합물의 석출을 억제하는 냉각기구와; 압송장치보다 하류측의 배기관로의 부위에 설치되어, 배기관로를 통하여 도입되는 배기 가스중에 함유된 유기 금속 화합물을 제거하는 유해물질제거 장치를 구비하고 있다.

公开(公告)号：KR1019970077143A

公开(公告)日：1997-12-12

申请号：KR1019970017628

申请日：1997-05-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 호리우치타카시 ,  고미히사시 ,  이토마사히데 ,  진노우치심페이

IPC: H01L21/20

Abstract: 본 발명의 처리 가스 공급 장치는, 유기 산소 화합물에 의해 그 점도가 저하된 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물이 수용된 공급원과; 공급원과, 처리 대상물에 유기 알루미늄 금속 화합물에 의한 성막 처리를 행하는 처리 장치를 접속시키는 공급관로와; 공급원에 수용된 유기 알루미늄 금속 화합물을 공급관로를 통해 압송하는 압송 장치와; 공급관로에 마련되며, 압소되는 액체 형태의 유기 알루미늄 금속화합물을 기화하는 기화 장치를 구비하고 있다. 또한, 본 발명의 처리 가스 공급 방법은, 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물의 점도를 유기 산소 화합물에 의해 저하시키고; 점도가 저하된 유기 알루미늄 금속 화합물을 공급관로에 압송하며; 공급관로로 압송되는 액체 형태의 유기 알루미늄 금속 화합물을 기화 장치에 의해 기화시켜 처리 가스를 형성하고; 처리 가스를, 공급관로를 통해, 처리 대상물에 유기 알루미늄 금속 화합물에 의한 성막 처리를 행하는 처리 장치에 공급하는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1019970052585A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019960074143

申请日：1996-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고미히사시 ,  이토마사히데 ,  지오우치심페이 ,  이케다토울

IPC: H01L21/30

公开(公告)号：KR100776057B1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：KR1020060105843

申请日：2006-10-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고미히사시 ,  사이토데츠야 ,  가케가와다카시 ,  마세다카히사 ,  고이즈미마코토 ,  다다구니히로 ,  와카바야시사토시 ,  나루시마겐사쿠 ,  쳉팡

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/304

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/4557 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449

Abstract: 본 발명의 과제는 CVD 장치 등에 이용되고, 니켈 부재를 조립하여 구성되는 가스 샤워헤드(가스 공급 장치)에 있어서, 고온에 의한 니켈 부재끼리의 부착을 방지하는 것이다. 다수의 가스 공급 구멍이 형성된 니켈 부재로 이루어지는 샤워 플레이트와, 이 샤워 플레이트와의 사이에 처리 가스의 통류 공간이 형성되는 동시에 처리 용기의 천정부의 개구부의 주연부에 기밀하게 장착되는 니켈 부재로 이루어지는 베이스 부재를, 서로 주연부에서 나사로 접합하는 데 있어서, 서로의 접합면 사이에 니켈 부재와는 다른 재질, 예를 들어 하스텔로이나 카본 등의 중간 부재를 개재시킨다.

公开(公告)号：KR1020070046749A

公开(公告)日：2007-05-03

申请号：KR1020060105843

申请日：2006-10-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고미히사시 ,  사이토데츠야 ,  가케가와다카시 ,  마세다카히사 ,  고이즈미마코토 ,  다다구니히로 ,  와카바야시사토시 ,  나루시마겐사쿠 ,  쳉팡

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/304

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/4557 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449

Abstract: 본 발명의 과제는 CVD 장치 등에 이용되고, 니켈 부재를 조립하여 구성되는 가스 샤워헤드(가스 공급 장치)에 있어서, 고온에 의한 니켈 부재끼리의 부착을 방지하는 것이다. 다수의 가스 공급 구멍이 형성된 니켈 부재로 이루어지는 샤워 플레이트와, 이 샤워 플레이트와의 사이에 처리 가스의 통류 공간이 형성되는 동시에 처리 용기의 천정부의 개구부의 주연부에 기밀하게 장착되는 니켈 부재로 이루어지는 베이스 부재를, 서로 주연부에서 나사로 접합하는 데 있어서, 서로의 접합면 사이에 니켈 부재와는 다른 재질, 예를 들어 하스텔로이나 카본 등의 중간 부재를 개재시킨다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是被用于CVD装置，气体喷头（气体供给单元）通过组装镍构件和防止由于高温镍部件之间的粘合配置。 多个由镍部件的喷淋板的形成有气体供给孔，则在所形成的工艺气体的通流面积，包括镍构件被气密地安装于处理容器底部构件的所述开口的顶部的周缘部的同时喷淋板之间设置 一个，根据在彼此的周缘部的螺纹接头中，每个镍构件和中间构件的表面之间的接合被插入，例如不同的材料，如Hastelloy或碳。

公开(公告)号：KR1019970060379A

公开(公告)日：1997-08-12

申请号：KR1019970001902

申请日：1997-01-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 호리우치다카시 ,  고바야시센쇼 ,  이토오마사히데 ,  고미히사시

IPC: H01L21/22

Abstract: 본 발명의 배기 시스템은 유기금속 화합물의 기화가스를 이용하여 대상물에 성막(成膜)을 실시하는 성막처리 장치의 배기구에 접속된 배기관로와; 배기관로에 설치되어, 성막처리장치내의 가스를 배기 가스로써 배기관로를 통하여 압송하는 압송장치와; 압송장치에 설치되어, 유기금속 화합물의 열분해 온도보다 더 낮은 온도로 압송장치를 냉각함으로써 압송장치로 도입되는 배기가스중에 함유된 유기금속 화합물의 석출을 억제하는 냉각기구와; 압송장치보다 하류측의 배기관로의 부위에 설치되어, 배기관로를 통하여 도입되는 배기가스중에 함유된 유기금속 화합물을 제해(除害)하는 제해장치를 구비하고 있다.