公开(公告)号：KR1020150048135A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：KR1020157005121

申请日：2013-08-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하라다아키토시 ,  린,옌-팅 ,  첸,치-흐수안 ,  흐시에,주-치아 ,  요네다시게루

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/768 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01L21/76805 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32165 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J2237/3321 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/2236 ,  H01L21/28518 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/32053 ,  H01L21/321 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/76802 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76829 ,  H01L21/76895 ,  H01L21/76897 ,  H01L29/66575 ,  H01L29/78

Abstract: 본실시예의플라즈마처리방법은, 먼저, 불소함유가스를플라즈마처리공간으로공급하고, 니켈실리사이드막의표면에산화실리콘막또는질화실리콘막이형성된피처리기판을불소함유가스의플라즈마를이용하여에칭하는에칭공정을실행한다(단계(S101)). 이어서, 플라즈마처리방법은, 수소함유가스를플라즈마처리공간으로공급하고, 플라즈마처리공간에표면을대향시켜배치된부재에대하여에칭공정후에부착한니켈함유물을수소함유가스의플라즈마를이용하여환원하는환원공정을실행한다(단계(S102)). 이어서, 플라즈마처리방법은, 산소함유가스를플라즈마처리공간으로공급하고, 환원공정에의해니켈함유물이환원되어얻어진니켈을산소함유가스의플라즈마를이용하여제거하는제거공정을실행한다(단계(S103)).

Abstract translation: 本实施方式的等离子体处理方法中，首先，含氟蚀刻工艺称为目标基板供应气体至该等离子体处理空间，并在表面上的膜或硅膜的氧化硅的硅化镍膜中使用含有氟系气体的等离子体形成的氮化物 （步骤S101）。 然后，将等离子处理方法，其包括供给气体含氢成等离子体处理空间，以及使用含氢气体的等离子体蚀刻处理后附相对于一个部件含镍的材料减少布置成面对的表面于等离子体处理空间 执行缩小处理（步骤S102）。 然后，等离子体处理法，并进行供给含氧气体引入等离子体处理空间的除去工序，并通过使用含氧气的气体，以获得通过还原步骤（步骤被还原成含水镍镍的等离子体去除（S103 ））。