-
公开(公告)号：KR1020120066065A
公开(公告)日：2012-06-21
申请号：KR1020127011890
申请日：2010-10-29
Applicant: 가부시키가이샤 후지킨 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 고쿠리츠다이가쿠호진 도호쿠다이가쿠
IPC: F16K31/126 , F16K1/34 , F16K51/02
CPC classification number: F16K31/126 , F16K1/34 , F16K25/005 , Y10T137/776
Abstract: A control valve device develops opening/closing accuracy of a valve assembly. The valve head 310a is configured to open and close a transfer path formed in the valve housing 305 by transmitting the power to the valve assembly 310 from the power transmission member according to a pressure ratio between working fluid supplied to the first space Us and the second space Ls, respectively. The valve head has a Vickers hardness larger than a Vickers hardness of a valve seat of the transfer path to be in contact with the valve head, and a hardness difference therebetween is set to be about 200 Hv to about 300 Hv.
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020100003697A
公开(公告)日：2010-01-11
申请号：KR1020090056318
申请日：2009-06-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C14/26 , C23C14/243 , H01L51/001
Abstract: PURPOSE: A film forming device and a depositing device for an organic EL are provided to uniformly maintain a temperature of a vapor and evaporation quantity of a film material exhausted to a process chamber by transmitting the heat of a heater to the film material. CONSTITUTION: A vapor exhaust nozzle(80) exhausts the vapor of a film material. The vapor exhaust nozzle includes a deposition head(65) arranged in a process chamber. A heater receiver(102) is arranged inside the deposition head. A connection path(101) connects the heater receiver to the outside of the process chamber. A power supply line(104) of the heater received in the heater receiver is arranged in the connection path and is extended to the outside of the process chamber. The heater is arranged to surround the vapor path of the film material. A disk spring pressurizes the heater by interposing a pressing plate.
Abstract translation: 目的：提供一种用于有机EL的成膜装置和沉积装置，通过将加热器的热量传递到膜材料来均匀地保持蒸气的温度和排出到处理室的膜材料的蒸发量。 构成：蒸汽排气喷嘴（80）排出薄膜材料的蒸气。 蒸汽排气喷嘴包括布置在处理室中的沉积头（65）。 加热器接收器（102）布置在沉积头内部。 连接路径（101）将加热器接收器连接到处理室的外部。 接收在加热器接收器中的加热器的电源线（104）布置在连接路径中并且延伸到处理室的外部。 加热器布置成围绕膜材料的蒸气路径。 盘簧通过插入压板来加压加热器。
-
公开(公告)号：KR101352847B1
公开(公告)日：2014-01-17
申请号：KR1020127011890
申请日：2010-10-29
Applicant: 가부시키가이샤 후지킨 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 고쿠리츠다이가쿠호진 도호쿠다이가쿠
IPC: F16K31/126 , F16K1/34 , F16K51/02
CPC classification number: F16K31/126 , F16K1/34 , F16K25/005 , Y10T137/776
Abstract: 밸브의 개폐 정밀도를 향상시킨 조정 밸브 장치를 제공한다. 조정 밸브 장치(300)는, 밸브체 헤드부(310a)를 가지는 밸브체(310)와, 밸브체에 동력을 전달하는 동력 전달 부재(320a)와, 밸브체를 슬라이드 이동 가능하게 내장하는 밸브 상자(305)와, 동력 전달 부재에 대하여 밸브체와 반대측의 위치에 제 1 공간(Us)을 형성하는 제 1 벨로우즈(320b)와, 동력 전달 부재에 대하여 밸브체측의 위치에 제 2 공간(Ls)을 형성하는 제 2 벨로우즈(320c)와, 제 1 공간과 연통하는 제 1 배관(320d)과, 제 2 공간과 연통하는 제 2 배관(320e)을 가진다. 제 1 공간 및 제 2 공간으로 공급되는 작동 유체의 압력 비율에 따라 동력 전달 부재로부터 밸브체에 동력을 전달함으로써, 밸브체 헤드부에 의해 밸브 상자에 형성된 반송로를 개폐한다. 밸브체 헤드부는, 밸브체 헤드부가 접하는 반송로의 밸브 좌면의 비커스 경도보다 견고하고, 그 경도차는 대략 200 Hv ~ 300 Hv이다.
-
公开(公告)号：KR101321808B1
公开(公告)日：2013-10-28
申请号：KR1020137008532
申请日：2011-10-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C14/24 , C03C17/002 , C23C14/543 , H01L51/0008
Abstract: 증기 발생부 내부의 압력 상승, 온도 상승을 억제할 수 있어, 정밀한 온도 제어를 행할 수 있는 성막 장치. 글라스 기판(G)에 성막 처리를 행하는 성막 장치에, 글라스 기판(G)을 수용하는 처리실(5)과, 성막 재료를 가열함으로써 이 성막 재료의 증기를 발생시키는 증기 발생부(1)와, 증기 발생부(1)에서 발생시킨 성막 재료의 증기를 반송 가스와 함께 처리실(5)로 반송하기 위한 반송로(21)와, 배기로(22)와, 반송로의 도중에 설치된 조정 밸브 장치(31)와, 배기로(22)의 도중에 설치된 배기 밸브 장치(32)를, 증기 발생부(1)의 온도를 검출하는 재료 온도 검출부(64)와, 제 1 증기량 검출부(23)와, 성막 재료를 가열할 경우, 증기 발생부(1)의 온도의 높낮이에 따라 배기 밸브 장치(32)의 개폐 동작을 제어하고, 성막 재료를 상기 처리실로 반송할 경우, 제 1 증기량 검출부(23)에서 검출된 증기량이 안정된 경우, 배기 밸브 장치(32)를 폐쇄하고, 조정 밸브 장치(31)를 개방시키는 제어부(8)를 구비한다.
-
公开(公告)号：KR1020130037232A
公开(公告)日：2013-04-15
申请号：KR1020137008532
申请日：2011-10-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C14/24 , C03C17/002 , C23C14/543 , H01L51/0008 , H01L51/529 , H01L51/56
Abstract: 증기 발생부 내부의 압력 상승, 온도 상승을 억제할 수 있어, 정밀한 온도 제어를 행할 수 있는 성막 장치. 글라스 기판(G)에 성막 처리를 행하는 성막 장치에, 글라스 기판(G)을 수용하는 처리실(5)과, 성막 재료를 가열함으로써 이 성막 재료의 증기를 발생시키는 증기 발생부(1)와, 증기 발생부(1)에서 발생시킨 성막 재료의 증기를 반송 가스와 함께 처리실(5)로 반송하기 위한 반송로(21)와, 배기로(22)와, 반송로의 도중에 설치된 조정 밸브 장치(31)와, 배기로(22)의 도중에 설치된 배기 밸브 장치(32)를, 증기 발생부(1)의 온도를 검출하는 재료 온도 검출부(64)와, 제 1 증기량 검출부(23)와, 성막 재료를 가열할 경우, 증기 발생부(1)의 온도의 높낮이에 따라 배기 밸브 장치(32)의 개폐 동작을 제어하고, 성막 재료를 상기 처리실로 반송할 경우, 제 1 증기량 검출부(23)에서 검출된 증기량이 안정된 경우, 배기 밸브 장치(32)를 폐쇄하고, 조정 밸브 장치(31)를 개방시키는 제어부(8)를 구비한다.
Abstract translation: 蒸汽产生部分内的压力升高和温度升高可被抑制，并且可执行精确的温度控制。 用于在玻璃基板G上进行成膜处理的成膜装置包括用于容纳玻璃基板G的处理室5，用于通过加热成膜材料来产生成膜材料的蒸气的蒸气产生部1， 其中从发电机1产生的膜形成材料到传输用于输送至处理腔室（5）用输送气体21的蒸气，并且排气（22），调整安装在输送路径的阀装置31的中间 而且，设置在排气通路22的中途的排气门装置32与检测蒸气产生部1的温度的材料温度检测部64，第一蒸气量检测部23， 根据蒸汽产生部1的温度和由第一蒸汽量检测部23检测到的蒸汽量来控制排气阀装置32的打开和关闭操作 当阀门稳定时，排气阀装置32关闭，阀门装置31打开 和一单元（8）。
-
公开(公告)号：KR101088828B1
公开(公告)日：2011-12-06
申请号：KR1020090056318
申请日：2009-06-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C14/26 , C23C14/243 , H01L51/001
Abstract: 피처리체에 증착하는 성막 재료의 증기를 균일하게 가열할 수 있는 유기 EL 성막 장치를 제공한다. 감압된 처리실(30) 내에서 피처리체에 성막 재료를 증착하여 성막 처리하는 성막 장치로서, 성막 재료의 증기를 분출시키는 증기 분출구(80)가 처리실(30)에 배치된 증착 헤드(65)를 구비한다. 증착 헤드(65)의 내부에는 처리실(30) 내에 대하여 봉지(封止)된 히터 수납부(102)가 형성되고, 또한 히터 수납부(102)와 처리실(30)의 외부를 연통시키는 연통로(101)가 설치된다. 히터 수납부(102)에 수납되는 히터(100)의 전력 공급선(104)이 연통로(101) 내에 배치되어 처리실(30)의 외측으로 연장되어 있다.
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.019 seconds)
