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公开(公告)号：KR1020140054043A
公开(公告)日：2014-05-08
申请号：KR1020147003510
申请日：2012-08-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: C23C14/54 , H01L51/50 , H05B33/10 , H01L21/205
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/546 , H01L51/001
Abstract: 성막 처리에서 막 두께 측정에 이용되는 수정 진동자의 장기 수명화를 도모하는 것에 있다. 또한, 복수 종류의 재료 가스를 이용하여 성막을 행할 시, 개별의 재료 가스에 대한 성막량과 혼합 가스에 대한 성막량의 관계성에 기초하여 막 두께 제어를 행하는 것이 가능한 성막 장치 및 성막 방법을 제공한다. 기판에 박막을 성막시키는 성막 장치로서, 캐리어 가스 및 재료 가스를 공급하는 감압 가능한 재료 공급부와, 상기 기판의 상면에 재료 가스를 분사시키는 헤드를 구비하고, 상기 재료 공급부와 상기 헤드는 재료 가스 공급로를 개재하여 연통하고, 상기 재료 가스 공급로에는, 재료 가스 공급로로부터 분기하는 분기 유로가 설치되고, 상기 분기 유로에는 재료 가스의 성막량을 측정하는 측정 장치가 접속되어 있는 성막 장치가 제공된다.
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公开(公告)号：KR101321807B1
公开(公告)日：2013-10-28
申请号：KR1020117023051
申请日：2010-04-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/24 , H01L51/001 , H01L51/50
Abstract: 종래의 소형 기판뿐만 아니라 대형의 기판에 대해서도 각 부에서의 분출량이 균일화되고, 또한 균열성이 담보된 재료 가스를 분출하여 균일한 박막을 성막시킬 수 있는 증착 헤드 및 이 증착 헤드를 구비하는 성막 장치를 제공한다.
기판에 박막을 성막하는 증착 처리 장치 내에 설치되고, 기판을 향하여 재료 가스를 분출시키는 증착 헤드로서, 외측 케이싱과, 상기 외측 케이싱 내에 배치되고 재료 가스가 도입되는 내측 케이싱을 구비하고, 상기 내측 케이싱에는 기판을 향하여 재료 가스를 분출시키는 개구부가 형성되고, 상기 외측 케이싱의 외면 또는 상기 외측 케이싱과 상기 내측 케이싱 간에 재료 가스를 가열하는 히터가 배설되는 증착 헤드가 제공된다.-
公开(公告)号：KR1020120073272A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：KR1020127008818
申请日：2010-09-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: C23C16/455 , C23C16/44
Abstract: 소요 조건 하에서의 유기 성막 재료 및 무기 성막 재료의 공증착을 가능하게 하는 성막 장치를 제공한다. 피처리 기판(G)을 수용하는 처리실과, 처리실의 외부에 설치되어 있고, 유기 성막 재료의 증기를 발생시키는 증기 발생부와, 처리실의 내부에 설치되어 있고, 증기 발생부에서 발생시킨 유기 성막 재료의 증기를 분출하는 유기 성막 재료 공급부(22)와, 처리실의 내부에 설치되어 있고, 무기 성막 재료의 증기를 분출하는 무기 성막 재료 공급부(24)와, 유기 성막 재료 공급부(22)로부터 분출된 유기 성막 재료의 증기와, 무기 성막 재료 공급부(24)로부터 분출된 무기 성막 재료의 증기를 혼합시키는 혼합실(23)을 구비하고, 혼합실(23)은, 유기 성막 재료 및 무기 성막 재료의 혼합 증기를 통과시켜 피처리 기판(G)으로 공급하는 개구부(23c)를 성막 장치에 구비한다.
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公开(公告)号：KR1020140143331A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：KR1020140067837
申请日：2014-06-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L51/56 , H01L21/67034
Abstract: Solvent residues remaining in a processing vessel of a drying apparatus that dries an organic material film on a substrate can be efficiently removed in a short time. The drying apparatus (100) includes a processing vessel (1) capable of vacuum exhausting, a mounting board (3) as a support member to support a substrate (S) in the processing vessel (1), an ultraviolet ray irradiating device (5) radiating ultraviolet rays to the inside of the processing vessel (1), and a controller (6). The ultraviolet ray irradiating device (5) functions as a solvent decomposition means that breaks down an organic compound included in the solvent residues remaining in the processing vessel (1) into low molecular weight compounds after a substrate (S), that has completed the drying process, is discharged from the processing vessel (1).
Abstract translation: 可以在短时间内有效地除去留在基板上的有机材料膜干燥装置的处理容器中的溶剂残留物。 干燥装置（100）包括能够进行真空排气的处理容器（1），作为用于支撑处理容器（1）中的基板（S）的支撑部件的安装基板（3），紫外线照射装置 ）向处理容器（1）的内部辐射紫外线，以及控制器（6）。 紫外线照射装置（5）起溶剂分解手段的作用，其将残留在处理容器（1）中的溶剂残余物中的有机化合物分解成已经完成干燥的基材（S）之后的低分子量化合物 处理从处理容器（1）排出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140113386A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：KR1020140027909
申请日：2014-03-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L51/5237 , H01L27/3246 , H01L51/525 , H01L51/5253
Abstract: Moisture is restrained from infiltrating into organic electro luminescence (EL) element. A method for manufacturing an organic device comprises a process of carrying a substrate where an interlayer is formed on one or more barrier ribs and a first sealing layer sealing an organic layer on both electrodes, and a process of etchbacking the interlayer formed on the substrate. The process of etchbacking features that at least a part of the first sealing layer on at least one barrier rib out of the one or more barrier ribs is processed until being exposed starting from the interlayer to the extent of being able to contact with a second sealing layer film-formed in the next process.
Abstract translation: 水分被阻止渗入有机电致发光（EL）元素。 一种制造有机器件的方法包括在一个或多个阻挡肋上承载形成中间层的基板和在两个电极上密封有机层的第一密封层的工艺，以及在衬底上形成的中间层的回蚀工艺。 回蚀特征的过程是，至少一个阻挡肋上的第一密封层的至少一部分脱离一个或多个阻挡肋被处理直到从中间层开始暴露到能够与第二密封件 在下一个工艺中成膜。
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公开(公告)号：KR101321808B1
公开(公告)日：2013-10-28
申请号：KR1020137008532
申请日：2011-10-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C14/24 , C03C17/002 , C23C14/543 , H01L51/0008
Abstract: 증기 발생부 내부의 압력 상승, 온도 상승을 억제할 수 있어, 정밀한 온도 제어를 행할 수 있는 성막 장치. 글라스 기판(G)에 성막 처리를 행하는 성막 장치에, 글라스 기판(G)을 수용하는 처리실(5)과, 성막 재료를 가열함으로써 이 성막 재료의 증기를 발생시키는 증기 발생부(1)와, 증기 발생부(1)에서 발생시킨 성막 재료의 증기를 반송 가스와 함께 처리실(5)로 반송하기 위한 반송로(21)와, 배기로(22)와, 반송로의 도중에 설치된 조정 밸브 장치(31)와, 배기로(22)의 도중에 설치된 배기 밸브 장치(32)를, 증기 발생부(1)의 온도를 검출하는 재료 온도 검출부(64)와, 제 1 증기량 검출부(23)와, 성막 재료를 가열할 경우, 증기 발생부(1)의 온도의 높낮이에 따라 배기 밸브 장치(32)의 개폐 동작을 제어하고, 성막 재료를 상기 처리실로 반송할 경우, 제 1 증기량 검출부(23)에서 검출된 증기량이 안정된 경우, 배기 밸브 장치(32)를 폐쇄하고, 조정 밸브 장치(31)를 개방시키는 제어부(8)를 구비한다.
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公开(公告)号：KR1020130041950A
公开(公告)日：2013-04-25
申请号：KR1020137004029
申请日：2011-07-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67115 , H01L21/67028 , H01L21/67173 , H01L21/67253 , H01L51/5206 , H01L51/56
Abstract: 기판 처리 장치에서 세정용의 세정실을 설치하지 않고, 단시간에 효율적으로 기판 표면을 균일하게 세정할 수 있어, 기판 처리의 스루풋 향상을 도모하는 것이 가능한 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 반입용의 반입실과, 기판에 성막 처리를 행하는 성막실과, 상기 반입실과 상기 성막실의 사이에서 기판을 반송시키는 기판 반송 기구를 가지는 반송실을 구비하는 기판 처리 장치로서, 상기 반입실과 상기 반송실은 인접한 상태로 접속되고, 상기 반입실 또는 상기 반송실 중 어느 일방의 외부에는, 기판의 반송 경로 상에 광을 조사하는 광 조사 기구와, 상기 광 조사 기구로부터 조사되는 광의 조사량 및 조사 강도를 제어하는 제어부가 설치되고, 상기 광 조사 기구가 설치된 상기 반입실 또는 상기 반송실에는 상기 광 조사 기구로부터 조사된 광을 투과시키는 투과창이 설치되고, 상기 광 조사 기구로부터 기판에 조사되는 광은 기판에 대하여 상대적으로 이동하면서 조사되는 기판 처리 장치가 제공된다.
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公开(公告)号：KR1020130037232A
公开(公告)日：2013-04-15
申请号：KR1020137008532
申请日：2011-10-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C14/24 , C03C17/002 , C23C14/543 , H01L51/0008 , H01L51/529 , H01L51/56
Abstract: 증기 발생부 내부의 압력 상승, 온도 상승을 억제할 수 있어, 정밀한 온도 제어를 행할 수 있는 성막 장치. 글라스 기판(G)에 성막 처리를 행하는 성막 장치에, 글라스 기판(G)을 수용하는 처리실(5)과, 성막 재료를 가열함으로써 이 성막 재료의 증기를 발생시키는 증기 발생부(1)와, 증기 발생부(1)에서 발생시킨 성막 재료의 증기를 반송 가스와 함께 처리실(5)로 반송하기 위한 반송로(21)와, 배기로(22)와, 반송로의 도중에 설치된 조정 밸브 장치(31)와, 배기로(22)의 도중에 설치된 배기 밸브 장치(32)를, 증기 발생부(1)의 온도를 검출하는 재료 온도 검출부(64)와, 제 1 증기량 검출부(23)와, 성막 재료를 가열할 경우, 증기 발생부(1)의 온도의 높낮이에 따라 배기 밸브 장치(32)의 개폐 동작을 제어하고, 성막 재료를 상기 처리실로 반송할 경우, 제 1 증기량 검출부(23)에서 검출된 증기량이 안정된 경우, 배기 밸브 장치(32)를 폐쇄하고, 조정 밸브 장치(31)를 개방시키는 제어부(8)를 구비한다.
Abstract translation: 蒸汽产生部分内的压力升高和温度升高可被抑制，并且可执行精确的温度控制。 用于在玻璃基板G上进行成膜处理的成膜装置包括用于容纳玻璃基板G的处理室5，用于通过加热成膜材料来产生成膜材料的蒸气的蒸气产生部1， 其中从发电机1产生的膜形成材料到传输用于输送至处理腔室（5）用输送气体21的蒸气，并且排气（22），调整安装在输送路径的阀装置31的中间 而且，设置在排气通路22的中途的排气门装置32与检测蒸气产生部1的温度的材料温度检测部64，第一蒸气量检测部23， 根据蒸汽产生部1的温度和由第一蒸汽量检测部23检测到的蒸汽量来控制排气阀装置32的打开和关闭操作 当阀门稳定时，排气阀装置32关闭，阀门装置31打开 和一单元（8）。
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公开(公告)号：KR1020120094440A
公开(公告)日：2012-08-24
申请号：KR1020120015423
申请日：2012-02-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L51/56
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/12 , H01L51/001
Abstract: PURPOSE: A film forming device is provided to prevent the separation of film forming materials between a processing substrate and the upper side of a processing chamber by arranging capturing units between first to sixth deposition heads and on both sides of a transfer direction. CONSTITUTION: A film forming device includes a processing chamber(11) and a film forming material spraying unit(13). The processing chamber receives a substrate(G) and includes a capturing unit(16). The film forming material spraying unit sprays steam of the film forming material to a substrate. A capturing unit captures the film forming materials separated from the substrate and includes a plurality of gaps or holes to input the film forming materials from the substrate.
Abstract translation: 目的：提供一种成膜装置，用于通过在第一至第六沉积头之间和传送方向两侧布置捕获单元来防止在处理基板和处理室的上侧之间分离成膜材料。 构成：成膜装置包括处理室（11）和成膜材料喷涂单元（13）。 处理室接收基板（G）并且包括捕获单元（16）。 成膜材料喷涂单元将成膜材料的蒸汽喷射到基材上。 捕获单元捕获与基板分离的成膜材料，并且包括多个间隙或孔，以从基底输入成膜材料。
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