公开(公告)号：KR101121446B1

公开(公告)日：2012-03-16

申请号：KR1020087031538

申请日：2007-06-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  고쿠리츠 다이가쿠 호진 도호쿠 다이가쿠

Inventor： 모야마카즈키 ,  야기야스시 ,  노자와토시히사 ,  오오미타다히로 ,  가와무라츄이치 ,  요시노키미히코

IPC: H05B33/10 ,  H01L51/50

CPC classification number: H01L51/001 ,  C23C14/12 ,  C23C14/28 ,  H01L51/0021 ,  H01L51/56

Abstract: 피처리 기판 상에, 유기층을 포함하는 복수의 층을 갖는 발광 소자를 형성하기 위한 복수의 처리실을 가지며, 복수의 처리실에 피처리 기판이 순차로 반송되는 발광 소자의 제조 장치로서, 복수의 처리실이 실질적으로 직선 형상으로 접속됨과 함께, 인접하는 2개의 처리실의 사이에서 피처리 기판이 반송되는 경우, 2개의 처리실이 피처리 기판 상의 층과 반응성을 갖지 않는 가스로 채워지도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 발광 소자의 제조 장치가 개시된다.

公开(公告)号：KR100577975B1

公开(公告)日：2006-05-11

申请号：KR1020037016277

申请日：2002-11-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야기야스시 ,  아오키가즈쓰구 ,  유시지마미쓰루

IPC: C25F3/12

CPC classification number: C25D11/02 ,  C25D11/005 ,  H01L21/3063 ,  H01L21/67115

Abstract: 피처리 기판의 피처리부에 광을 균일하게 조사시키고, 이로써 양극 산화 처리를 피처리 기판면 내에서 보다 균일하게 하는 것이 가능한 양극 산화 장치 및 양극 산화 방법을 제공한다. 광을 방사하는 램프; 방사된 광이 도달하는 위치에 설치되어 피처리 기판을 유지할 수 있는 피처리 기판 유지부; 방사된 광이 피처리 기판에 도달하는 도상에 설치되어 광을 통과시키기 위한 개구부를 구비하고 광을 투과시키지 않는 도체부를 갖는 캐소드 전극; 및 캐소드 전극, 상기 램프 또는 피처리 기판 유지부의 공간적 위치를 주기적으로 진동시키는 진동 기구를 구비한다. 램프, 캐소드 전극, 피처리 기판을 유지하는 피처리 기판 유지부의 3자의 대략적인 위치 관계를 유지한 상태로 이들 중 적어도 한개에 대하여 그 공간적 위치를 주기적으로 진동시켜 이로써 캐소드 전극의 그림자는 피처리 기판상에서 시간적으로 분산된다.

公开(公告)号：KR101352847B1

公开(公告)日：2014-01-17

申请号：KR1020127011890

申请日：2010-10-29

Applicant: 가부시키가이샤 후지킨 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  고쿠리츠다이가쿠호진 도호쿠다이가쿠

Inventor： 이케다노부카즈 ,  야마지미치오 ,  다니카와츠요시 ,  카네코히로시 ,  야기야스시 ,  오노유지 ,  오미타다히로 ,  시라이야스유키

IPC: F16K31/126 ,  F16K1/34 ,  F16K51/02

CPC classification number: F16K31/126 ,  F16K1/34 ,  F16K25/005 ,  Y10T137/776

Abstract: 밸브의 개폐 정밀도를 향상시킨 조정 밸브 장치를 제공한다. 조정 밸브 장치(300)는, 밸브체 헤드부(310a)를 가지는 밸브체(310)와, 밸브체에 동력을 전달하는 동력 전달 부재(320a)와, 밸브체를 슬라이드 이동 가능하게 내장하는 밸브 상자(305)와, 동력 전달 부재에 대하여 밸브체와 반대측의 위치에 제 1 공간(Us)을 형성하는 제 1 벨로우즈(320b)와, 동력 전달 부재에 대하여 밸브체측의 위치에 제 2 공간(Ls)을 형성하는 제 2 벨로우즈(320c)와, 제 1 공간과 연통하는 제 1 배관(320d)과, 제 2 공간과 연통하는 제 2 배관(320e)을 가진다. 제 1 공간 및 제 2 공간으로 공급되는 작동 유체의 압력 비율에 따라 동력 전달 부재로부터 밸브체에 동력을 전달함으로써, 밸브체 헤드부에 의해 밸브 상자에 형성된 반송로를 개폐한다. 밸브체 헤드부는, 밸브체 헤드부가 접하는 반송로의 밸브 좌면의 비커스 경도보다 견고하고, 그 경도차는 대략 200 Hv ~ 300 Hv이다.

公开(公告)号：KR101088828B1

公开(公告)日：2011-12-06

申请号：KR1020090056318

申请日：2009-06-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야기야스시 ,  와타나베신고 ,  오노유지 ,  카네코히로시 ,  하세가와코유 ,  코미노미츠아키

IPC: H01L51/56 ,  C23C14/24 ,  H05B33/10

CPC classification number: C23C14/26 ,  C23C14/243 ,  H01L51/001

Abstract: 피처리체에 증착하는 성막 재료의 증기를 균일하게 가열할 수 있는 유기 EL 성막 장치를 제공한다. 감압된 처리실(30) 내에서 피처리체에 성막 재료를 증착하여 성막 처리하는 성막 장치로서, 성막 재료의 증기를 분출시키는 증기 분출구(80)가 처리실(30)에 배치된 증착 헤드(65)를 구비한다. 증착 헤드(65)의 내부에는 처리실(30) 내에 대하여 봉지(封止)된 히터 수납부(102)가 형성되고, 또한 히터 수납부(102)와 처리실(30)의 외부를 연통시키는 연통로(101)가 설치된다. 히터 수납부(102)에 수납되는 히터(100)의 전력 공급선(104)이 연통로(101) 내에 배치되어 처리실(30)의 외측으로 연장되어 있다.

公开(公告)号：KR101038457B1

公开(公告)日：2011-06-01

申请号：KR1020087030439

申请日：2007-06-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  고쿠리츠 다이가쿠 호진 도호쿠 다이가쿠

Inventor： 야기야스시 ,  와타나베신고 ,  노자와토시히사 ,  카와무라츄이치 ,  요시노키미히코 ,  오미타다히로

IPC: H05B33/10 ,  H01L51/50

CPC classification number: H01L51/001 ,  C23C14/12 ,  C23C14/28 ,  H01L51/56

Abstract: 피처리 기판 상에 유기층을 포함하는 복수의 층을 갖는 발광 소자를 형성하기 위한 기판 처리가 행해지는 복수의 처리실을 갖고, 복수의 처리실은 각각 피처리 기판의 발광 소자가 형성되는 소자 형성면이 중력 방향과 반대의 방향을 향하도록 하여, 피처리 기판의 기판 처리가 행해지도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 발광 소자의 제조 장치가 개시된다.

公开(公告)号：KR1020010104651A

公开(公告)日：2001-11-26

申请号：KR1020010024621

申请日：2001-05-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오카세와타루 ,  마츠오다케노부 ,  기무라고이치로 ,  박경호 ,  가토요시노리 ,  야기야스시

IPC: H01L21/00

Abstract: 웨이퍼와 웨이퍼를 유지하는 홀더의 사이에 접촉면이 대략 평면형으로 형성되고, 내주면이 대략 평면형으로 되고 그리고 접촉면에 대하여 대략 수직으로 형성된 시일 부재가 설치된다. 이 시일 부재는 밀봉 상태에서 시일 부재의 내주면과 접촉면과의 경계부에 곡률반경이 0.5㎜ 이하의 가장자리부가 존재한다. 이 가장자리부가 존재함으로써, 시일 부재의 접촉면과 웨이퍼(W)의 피도금면 사이의 간극을 작게 할 수 있고, 이 간극에 들어가는 기포를 감소시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1020100012818A

公开(公告)日：2010-02-08

申请号：KR1020090065911

申请日：2009-07-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오노유지 ,  이쿠타히로유키 ,  야기야스시

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/26 ,  H01L51/56

CPC classification number: C23C14/243 ,  C23C14/12 ,  C30B23/066

Abstract: PURPOSE: An evaporation unit, an evaporation method, a controller for the evaporation unit and a film forming apparatus are provided to form a film which has high quality by maintaining desired speed of forming the film. CONSTITUTION: An evaporation unit comprises: a material inserting unit(210) with a material container which has film formation material; an outer case(220) in which a material inserting unit is detachably mounted; a first heat member which directly heats the material container; and a carrier way(210c) which transfers film formation material which is evaporated by the heat of a first heating element.

Abstract translation: 目的：提供蒸发单元，蒸发方法，用于蒸发单元的控制器和成膜设备，以通过保持形成膜的所需速度来形成具有高质量的膜。 构成：蒸发单元包括：具有成膜材料的材料容器的材料插入单元（210）; 外壳（220），其中材料插入单元可拆卸地安装; 第一加热构件，其直接加热所述材料容器; 以及传送由第一加热元件的热​​量蒸发的成膜材料的载体方式（210c）。

公开(公告)号：KR1020090039678A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：KR1020087030439

申请日：2007-06-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  고쿠리츠 다이가쿠 호진 도호쿠 다이가쿠

Inventor： 야기야스시 ,  와타나베신고 ,  노자와토시히사 ,  카와무라츄이치 ,  요시노키미히코 ,  오미타다히로

IPC: H05B33/10 ,  H01L51/50

CPC classification number: H01L51/001 ,  C23C14/12 ,  C23C14/28 ,  H01L51/56 ,  H01L51/0008

Abstract: Disclosed is an apparatus for manufacturing a light-emitting device which is characterized by comprising a plurality of processing chambers for performing a substrate processing for forming a light-emitting device having a plurality of layers including an organic layer on a subject to be processed. The apparatus is also characterized in that each processing chamber is structured so that the processing of the substrate is performed while having a device mounting surface of the substrate, on which a light-emitting device is formed, face a direction opposite to the gravity direction.

Abstract translation: 公开了一种用于制造发光器件的设备，其特征在于包括多个处理室，用于进行用于形成具有包括待处理对象的有机层的多个层的发光器件的衬底处理。 该装置的特征还在于，每个处理室被构造成使得在其上形成有发光装置的基板的装置安装表面面向与重力方向相反的方向的同时进行基板的处理。

公开(公告)号：KR1020040028780A

公开(公告)日：2004-04-03

申请号：KR1020037016277

申请日：2002-11-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야기야스시 ,  아오키가즈쓰구 ,  유시지마미쓰루

IPC: C25F3/12

CPC classification number: C25D11/02 ,  C25D11/005 ,  H01L21/3063 ,  H01L21/67115

Abstract: 피처리 기판의 피처리부에 광을 균일하게 조사시키고, 이로써 양극 산화 처리를 피처리 기판면 내에서 보다 균일하게 하는 것이 가능한 양극 산화 장치 및 양극 산화 방법을 제공한다. 광을 방사하는 램프; 방사된 광이 도달하는 위치에 설치되어 피처리 기판을 유지할 수 있는 피처리 기판 유지부; 방사된 광이 피처리 기판에 도달하는 도상에 설치되어 광을 통과시키기 위한 개구부를 구비하고 광을 투과시키지 않는 도체부를 갖는 캐소드 전극; 및 캐소드 전극, 상기 램프 또는 피처리 기판 유지부의 공간적 위치를 주기적으로 진동시키는 진동 기구를 구비한다. 램프, 캐소드 전극, 피처리 기판을 유지하는 피처리 기판 유지부의 3자의 대략적인 위치 관계를 유지한 상태로 이들 중 적어도 한개에 대하여 그 공간적 위치를 주기적으로 진동시켜 이로써 캐소드 전극의 그림자는 피처리 기판상에서 시간적으로 분산된다.

公开(公告)号：KR1020090028541A

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：KR1020087030945

申请日：2007-06-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 노자와토시히사 ,  야기야스시

IPC: H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: C23C16/00 ,  C23C14/12 ,  C23C14/3464 ,  H01L51/56 ,  H05B33/10 ,  H01L51/0008 ,  H01L51/5237

Abstract: A light emitting element manufacturing apparatus is provided for manufacturing a light emitting element by forming an organic layer including a light emitting layer on a substrate to be processed. The light emitting element manufacturing apparatus is provided with a plurality of processing chambers to which the substrates to be processed are sequentially transferred to be processed, and a plurality of substrate transfer chambers connected to the processing chambers, respectively. Substrate holding containers constituted to hold inside the substrates are sequentially connected to the substrate transfer chambers to sequentially transfer the substrates into the processing chambers, and the substrate processings are sequentially performed.

Abstract translation: 提供一种发光元件制造装置，用于通过在待处理的基板上形成包括发光层的有机层来制造发光元件。 发光元件制造装置设置有多个处理室，待处理的基板顺序地转印到处理室，以及分别连接到处理室的多个基板传送室。 构成保持在基板内的基板保持容器依次连接到基板传送室，以将基板依次传送到处理室中，并且顺序地进行基板处理。