公开(公告)号：KR1020100138760A

公开(公告)日：2010-12-31

申请号：KR1020100055594

申请日：2010-06-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미테루오미 ,  카미무라후미히로 ,  코사이카즈키 ,  야부타타카시 ,  요코미조켄지 ,  미조타쇼고

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and a liquid processing method are provided to eliminate a first film and a second film from a substrate regardless of the dissolvability of the second film with respect to first liquid. CONSTITUTION: A first liquid supplying part(51) supplies first liquid to a substrate in order to dissolve a first film on a substrate. A second liquid supplying part supplies second liquid to the substrate in order to reduce the intensity of a second film on the substrate. An impact alleviating part applies impact to the second film on the substrate. A fluid supplying part(52) supplies fluid to the substrate in order to discharge the particles of the second film.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和液体处理方法，以便从第二膜与第一液体的溶解性无关地从基材上除去第一膜和第二膜。 构成：第一液体供应部分（51）将第一液体供应到基底以便将第一膜溶解在基底上。 为了降低基板上的第二膜的强度，第二液体供给部件将第二液体供给到基板。 冲击减轻部件对基板上的第二膜施加冲击。 流体供应部分（52）为了排出第二膜的颗粒而向流体供应流体。

公开(公告)号：KR101526264B1

公开(公告)日：2015-06-05

申请号：KR1020100055594

申请日：2010-06-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미테루오미 ,  카미무라후미히로 ,  코사이카즈키 ,  야부타타카시 ,  요코미조켄지 ,  미조타쇼고

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708

Abstract: 새로운방법을이용하여기판의표면으로부터막을제거하는액처리장치등을제공한다. 제 1 막의상층에제 2 막이형성된기판으로부터제 1 막및 제 2 막을제거하는액처리장치(3)에서, 제 1 약액공급부(51)는기판(W)으로제 1 막을용해시키기위한제 1 약액을공급하고, 제 2 약액공급부(51)는제 2 막의강도를저하시키기위한제 2 약액을공급하고, 충격공여부로서의기능을겸하는유체공급부(52)는제 2 막에물리적충격을주어당해제 2 막을파괴하고또한, 파괴된제 2 막의파편을흘려보내기위한유체를공급한다. 제어부(7)는제 2 약액을공급하고, 이어서유체공급부(52)로부터유체를공급한후 제 1 약액을공급하도록각 부를제어한다.

Abstract translation: 使用新方法从基板表面去除膜的液体处理装置等。 在第一膜和用于从衬底上形成的第一膜，在上层中，第一化学液体供给单元51的第二薄膜包括用于溶解权利要求1的膜作为基材的第一化学（W）去除所述第二膜中的液体处理装置（3） 供给，并且所述第二化学液体供给部51 neunje 2膜的强度，和用于减小，也服务于用作休克施主流体源52 neunje给出在第二薄膜上第二销毁膜的物理性冲击的技术供应第二液体药剂 并且还提供用于流动破碎的第二膜的碎片的流体。 控制单元7控制各个单元以供应第二药液，然后从流体供应单元52供应流体，然后供应第一药液。