-
公开(公告)号：KR102237508B1
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：KR1020140073526
申请日：2014-06-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/08 , H01L21/02
Abstract: 소수화처리된기판의표면을제전하는것이가능한액 처리방법등을제공한다. 액처리가행해진회전하는기판(W)의표면에소수화액을공급하여, 상기기판의표면을소수화하고, 이소수화된기판(W)의표면에, 알칼리성의린스액을공급하여린스세정을행함으로써, 액처리에따라대전한기판(W)의제전을행한다.
-
公开(公告)号：KR1020150060547A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：KR1020140162505
申请日：2014-11-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67017
Abstract: (과제) 필터내부에오염물질이존재하는경우에그 오염물질의순환계로의확산을최소한으로억제하면서, 필터를순환라인의미리정해진위치에장착한상태로필터를세정한다. (해결수단) 필터세정방법은, 필터(108)를순환라인(104)의미리정해진위치에설치한상태로, 순환라인의일부만및 탱크(102)에제1 플러싱액을공급함으로써필터의내부를상기제1 플러싱액으로채우는플러싱액충전공정과, 이공급된플러싱액을, 순환라인의상기일부또는탱크에접속된제1 드레인라인으로부터배출시킴으로써상기필터로부터상기제1 플러싱액을빼내는제1 플러싱액배출공정을포함한다.
Abstract translation: 本发明在污染物质存在于过滤器中时将污染物扩散到循环系统中最小化，并且将过滤器固定在循环管线的预定位置的状态下进行清洗。 清洗过滤器的方法包括：在过滤器（108）的条件下，通过将第一冲洗溶液供应到罐（102）和循环管线的一部分而将第一冲洗溶液填充到第一冲洗溶液中的冲洗溶液加料过程， 被安装到循环管线（104）的预定位置; 以及第一冲洗溶液排出处理，通过从连接到所述罐或所述循环管线的一部分的第一排出管排出所提供的冲洗溶液，从所述过滤器提取第一冲洗溶液。
-
公开(公告)号：KR101831789B1
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：KR1020130160092
申请日：2013-12-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B01D19/0005 , H01L21/67023
Abstract: 기판상에형성된배선의부식을방지할수 있는액 처리장치및 약액회수방법을제공하는것이다. 실시예에따른액 처리장치는, 처리부와회수관과공급관과가스공급부를구비한다. 처리부는기판으로약액을공급하여액 처리를행한다. 회수관은처리부로공급된약액을회수한다. 공급관은회수된약액을처리부로공급한다. 가스공급부는회수관의내부를향해불활성가스를공급한다.
-
公开(公告)号：KR1020140086850A
公开(公告)日：2014-07-08
申请号：KR1020130160092
申请日：2013-12-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B01D19/0005 , H01L21/67023
Abstract: The present invention provides a liquid processing apparatus and a liquid chemical collecting method for preventing corrosion of a wiring provided on a substrate. The liquid processing apparatus according to an embodiment includes a processing unit, a collecting pipe, a supply pipe, and a gas supply unit. The processing unit performs liquid processing by supplying liquid chemical to the substrate. The collecting pipe collects the liquid chemical supplied to the processing unit. The supply pipe supplies the collected liquid chemical to the processing unit. The gas supply unit supplies inert gas to the inside of the collecting pipe.
Abstract translation: 本发明提供一种用于防止设置在基板上的布线的腐蚀的液体处理装置和液体化学品收集方法。 根据实施例的液体处理装置包括处理单元，收集管，供应管和气体供应单元。 处理单元通过向基板供给液体化学品来执行液体处理。 收集管收集供给处理单元的液体化学品。 供应管将收集的液体化学品供应到处理单元。 气体供给单元向收集管的内部供给惰性气体。
-
5.发明公开
公开(公告)号：KR1020150114429A
公开(公告)日：2015-10-12
申请号：KR1020150045239
申请日：2015-03-31
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/324
CPC classification number: B08B3/14 , B01D36/04 , B01D37/04 , B24B57/02 , C11D11/0047 , H01L21/67017
Abstract: 기판의액처리에이용되는처리액을열화시키는일없이청정(파티클제거)하는것. 본발명에서는, 기판(3)을처리액으로액처리하는기판액처리장치(1) 및기판액처리방법및 기판액처리프로그램을기록한컴퓨터판독가능한기록매체(12)에있어서, 제1 약액공급부(17)로부터처리액저류부(14)에제1 약액을공급하는제1 약액공급공정(S1, S6, S12)을행하고, 그후, 제1 약액을약액청정부(51)에서청정하는제1 약액청정공정(S2, S7, S13)을행하며, 그후, 제2 약액공급부(18)로부터처리액저류부(14)에제2 약액을공급하는제2 약액공급공정(S3, S8, S14)을행하고, 그후, 제1 약액과제2 약액을혼합시킨처리액을처리액공급부(38)로부터기판액처리부(10)에공급하는처리액공급공정(S5, S11, S17)을행하는것으로하였다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于净化（除去颗粒）而不劣化用于液体处理基材的处理液的方法。 在用处理液进行基板（3）的液体处理的基板液体处理装置（1），基板液体处理方法以及记录有基板液体处理程序的计算机可读记录介质的方法中， 本发明包括：将第一液体从第一液体供应单元（17）供应到处理液体存储单元（14）的第一液体供应过程（S1，S6，S12）; 在液体净化单元（51）中净化第一液体的第一液体净化处理（S2，S7，S13）; 从第二液体供应单元（18）向处理液体储存单元（14）供应第二液体的第二液体供应过程（S3，S8，S14）; 以及处理液供给处理（S5，S11，S17），其将处理液供给单元（38）从处理液供给单元（38）供给到基板液处理单元（10）中的第一液体和第二液体的混合物的处理液 ）。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020100138760A
公开(公告)日：2010-12-31
申请号：KR1020100055594
申请日：2010-06-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and a liquid processing method are provided to eliminate a first film and a second film from a substrate regardless of the dissolvability of the second film with respect to first liquid. CONSTITUTION: A first liquid supplying part(51) supplies first liquid to a substrate in order to dissolve a first film on a substrate. A second liquid supplying part supplies second liquid to the substrate in order to reduce the intensity of a second film on the substrate. An impact alleviating part applies impact to the second film on the substrate. A fluid supplying part(52) supplies fluid to the substrate in order to discharge the particles of the second film.
Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和液体处理方法，以便从第二膜与第一液体的溶解性无关地从基材上除去第一膜和第二膜。 构成：第一液体供应部分（51）将第一液体供应到基底以便将第一膜溶解在基底上。 为了降低基板上的第二膜的强度，第二液体供给部件将第二液体供给到基板。 冲击减轻部件对基板上的第二膜施加冲击。 流体供应部分（52）为了排出第二膜的颗粒而向流体供应流体。
-
公开(公告)号：KR1020170129610A
公开(公告)日：2017-11-27
申请号：KR1020170057976
申请日：2017-05-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 미조타쇼고
CPC classification number: B08B9/0325 , B08B9/093 , H01L21/67017 , H01L21/67023 , H01L21/67051
Abstract: 본발명은탱크의내벽면을효율적으로세정하는것을과제로한다. 기판액처리장치는, 처리액을저류하는탱크(102, 102A)와, 탱크에접속되며, 탱크로부터나와탱크로되돌아가는처리액의순환류가흐르는순환라인(104)과, 순환라인으로부터분배된처리액을기판에공급함으로써기판을처리하는처리유닛(16)과, 기판에공급된후에처리유닛으로부터배출되는처리액을탱크에복귀시키는복귀라인(132)과, 탱크의내벽면을향하여세정액을토출하여, 내벽면을세정액에의해세정하는세정노즐(128, 128A∼E)과, 세정노즐에세정액을공급하는세정용라인(122)을구비한다.
Abstract translation: 本发明克服了有效清洁水箱内壁表面的问题。 该基板液处理装置包括：储存处理液的储箱（102,102A）;循环管线（104），用于使与该储箱连接的处理液的循环流循环并从该储箱返回到该储箱; 返回管线132，用于将从处理单元排出的处理液供给到基板后返回到槽;返回管线132，用于将清洗液排出到槽的内壁面 用于通过清洁液清洁内壁表面的清洁喷嘴128,128A至128E以及用于向清洁喷嘴供应清洁液的清洁线122。
-
公开(公告)号：KR1020120089187A
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：KR1020110135101
申请日：2011-12-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/68742 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , H01L21/68728 , Y10S134/902 , H01L21/02052
Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for processing liquid are provided to prevent the contamination of a wafer by cleaning a drain cup with the cleaning liquid. CONSTITUTION: A substrate holding unit and a cup(42) are installed in a process chamber. The substrate holding unit holds the substrate. The cup is arranged around the substrate holding unit. A nozzle supplies processing liquid to the substrate held by the substrate holding unit. A cup cleaning unit(49,49a) cleans the cup by supplying cleaning liquid on the upper part of the cup.
Abstract translation: 目的：提供一种用于处理液体的装置和方法，以通过用清洗液清洗排水杯来防止晶片的污染。 构成：衬底保持单元和杯（42）安装在处理室中。 基板保持单元保持基板。 杯子布置在基板保持单元周围。 喷嘴将处理液供给到由基板保持单元保持的基板。 杯子清洁单元（49,49a）通过在杯子的上部供应清洁液来清洁杯子。
-
公开(公告)号：KR1020090064430A
公开(公告)日：2009-06-18
申请号：KR1020097006957
申请日：2007-08-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/02052 , H01L21/02057 , Y10S134/902
Abstract: A method is provided for reducing the amount of film fragments (66a) discharged into a processing liquid circulation system (73, 73') during removal of films (66) from wafers (W), thereby reducing the frequency of filter (80) cleaning or filter (80) replacement. The method includes exposing a wafer (W) containing a film (66) formed thereon in a process chamber (46) of a substrate processing system (1) to a processing liquid (64), where the wafer (W) is not rotated or is rotated at a first speed (608a, 908a, 1208a) and the processing liquid (64) is discharged from the process chamber (46) to a processing liquid circulation system (73). Subsequently, exposure of the wafer (W) to the processing liquid (64, 64a, 64b) is discontinued and the wafer (W) is rotated at a second speed (608b, 908b, 1208b) greater than the first speed (608a, 908a, 1208a) to centrifugally remove fragments (66a) of the film (66) from the wafer (W). Next, the wafer (W) is exposed to the same or a different processing liquid (64, 64a, 64b) and the processing liquid (64, 64a, 64b) is discharged from the process chamber (46) to a processing liquid drain (78).
Abstract translation: 提供一种用于减少在从晶片（W）移除薄膜（66）期间排出到处理液体循环系统（73,73'）中的薄膜碎片（66a）的量的方法，从而降低过滤器（80）清洁的频率 或过滤器（80）更换。 该方法包括将其上形成的膜（66）的晶片（W）暴露在基板处理系统（1）的处理室（46）中的处理液体（64）中，其中晶片（W）不旋转或 以第一速度（608a，908a，1208a）旋转，并且处理液体（64）从处理室（46）排出到处理液循环系统（73）。 随后，将晶片（W）暴露于处理液（64,64a，64b）中断，晶片（W）以比第一速度（608a，908a）大的第二速度（608b，908b，1208b）旋转 ，1208a）从晶片（W）离心去除膜（66）的碎片（66a）。 接下来，将晶片（W）暴露于相同或不同的处理液（64,64a，64b），处理液（64,64a，64b）从处理室（46）排出到处理液排出口 78）。
-
公开(公告)号：KR101678231B1
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：KR1020110135101
申请日：2011-12-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/68742 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , H01L21/68728 , Y10S134/902
Abstract: 본발명은컵에부착된오물에의하여처리실내의기판이오염되는것을방지할수 있는액 처리장치및 액처리방법을제공한다. 본발명의액 처리장치(10)는, 기판(W)을유지하는기판유지부(21) 및기판유지부(21)의주위에배치되는컵(42)이내부에설치된처리실(20)과, 기판유지부(21)에유지된기판(W)에대하여처리액을공급하기위한노즐(82a)과, 컵(42)의상부에세정액을공급함으로써해당컵(42)을세정하는컵 세정부(49, 49a)를구비하고있다. 컵(42)의상부에는오목부(42a)가형성되어있고, 컵세정부(49, 49a)는, 컵(42)의상부의오목부(42a)에세정액을공급하도록되어있다.
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
15
records
(took 0.027 seconds)
