公开(公告)号：KR1020070026056A

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：KR1020060081611

申请日：2006-08-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  쿄우다히데하루 ,  카와사키테츠 ,  시무라사토루

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: A substrate cleaning apparatus and a substrate cleaning method are provided to dry completely a substrate without the existence of water marks by using a driving unit. A substrate cleaning apparatus includes a substrate holding unit, a cleaning solution nozzle, and a first driving unit. The substrate holding unit is used for keeping a substrate in a leveling state and rotating the substrate. The cleaning nozzle(5) is used for supplying a cleaning solution onto an upper surface of the substrate. The first driving unit is used for moving the cleaning nozzle from a center portion of the substrate to a peripheral portion.

Abstract translation: 提供基板清洗装置和基板清洗方法，通过使用驱动单元完全干燥基板而不存在水痕。 基板清洗装置包括基板保持单元，清洗溶液喷嘴和第一驱动单元。 基板保持单元用于将基板保持在调平状态并旋转基板。 清洁喷嘴（5）用于将清洁溶液供应到基板的上表面上。 第一驱动单元用于将清洁喷嘴从基板的中心部分移动到周边部分。

公开(公告)号：KR101032225B1

公开(公告)日：2011-05-02

申请号：KR1020060081611

申请日：2006-08-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  쿄우다히데하루 ,  카와사키테츠 ,  시무라사토루

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 본 발명은 기판세정장치 및 기판세정방법에 관한 것으로서 세정액노즐로부터의 세정액의 공급 위치를 기판의 중앙부로부터 주변으로 향해 이동시킴과 동시에 공급 위치에서 기판의 회전 방향에 있어서의 하류측 영역에 대해서 기판의 외측으로 향해 가스를 불어낸다. 이것에 의해 세정액이 기판의 표면을 조금 흘러 액막을이룬 상태로 기류에 의한 외측으로 향한 힘이 작용하므로 주방향으로 흐르는 액흐름이 외측으로 이동한다. 또 세정액노즐로부터 토출된 세정액을 토출구와 같은 높이나 그것보다 낮은 위치에 형성된 액누름면부에 의해 구속함으로써 액의 응집이 생기므로 저회전에서도 원심력이 커져 그 액의 응집이 밖으로 향하는 작용이 커진다. 기판의 표면을 스핀 세정하는 것에 있어 기판상에 잔존하는 물방울을 저감하고 예를 들면 노광 후의 가열 처리시에 있어서의 물방울 혹은 워터마크에 의한 가열 얼룩을 억제하는 기술을 제공한다.