公开(公告)号：KR1020070039946A

公开(公告)日：2007-04-13

申请号：KR1020077003169

申请日：2005-07-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시모아오키타케시 ,  쿄우다히데하루 ,  니와타카후미

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/02057

Abstract: 본 발명은 기판처리방법에 관한 것으로서 웨이퍼의 표면에 레지스트막을 형성하고, 레지스트막에 노광광선을 조사하기 위하여 레지스트막이 대면하는 광학부품과 웨이퍼의 표면의 사이에 노광광선을 투과하고, 또한 웨이퍼의 표면 및 광학부품의 표면을 세정하는 기능을 가지는 액체로 액층을 형성하고, 광학부품에서 조사되는 노광광선을 액층을 통하여 레지스트막에 소정의 패턴으로 조사하는 것으로 레지스트막을 노광하고, 노광이 종료한 웨이퍼를 현상하고, 웨이퍼에 소정의 패턴을 형성하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 在晶片的表面上形成抗蚀剂膜。 然后，从面向抗蚀剂膜的光学部件和晶片的表面之间的液体形成用于用曝光光线照射抗蚀剂膜的液体层。 液体能够透射曝光光线，并且具有清洁晶片的表面和光学部件的表面的功能。 然后，用从光学部件投射的透射光束照射抗蚀剂膜，并透过液体层，在抗蚀膜上进行规定图案的曝光。 然后，在曝光后在晶片上进行显影，以在晶片上形成预定图案。

公开(公告)号：KR101760310B1

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：KR1020120068504

申请日：2012-06-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼타케코우이치 ,  쿄우다히데하루

IPC: H01L21/027

Abstract: 기판상의레지스트막을고정밀도로현상하여, 당해레지스트막에레지스트패턴을적절히형성한다. 현상처리장치(30)는웨이퍼(W)를수용하여처리하는처리용기(110)와, 웨이퍼(W)를보지하여회전시키는스핀척(140)과, 웨이퍼(W) 상으로유기용제를함유하는현상액을공급하는현상액노즐(160)과, 웨이퍼(W) 상으로린스액을공급하는린스액노즐(164)과, 처리용기(110) 내로초산부틸가스를공급하는처리가스공급부(122)와, 처리용기(110) 내로질소가스를공급하는퍼지가스공급부(126)와, 처리용기(110) 내의초산부틸가스의농도를측정하는농도측정기(130)와, 처리용기(110) 내의가스농도를소정의농도로제어하는농도제어부(131)와, 처리용기(110)로부터유출된초산부틸가스를재차처리용기(110) 내로공급하여순환시키는가스순환부(151)를가진다.

公开(公告)号：KR1020060130237A

公开(公告)日：2006-12-18

申请号：KR1020067020543

申请日：2004-12-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  쿄우다히데하루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/02057

Abstract: A coater/developer ensuring coating/development with high precision and high in-plane uniformity by suppressing the influence of components eluted from resist at the time of processing a substrate subjected to liquid immersion exposure. The surface of the substrate is coated with resist using a coating unit, the substrate is then cleaned using a first cleaning means such as a cleaning nozzle before exposed. Since the quantity of components eluted from the resist is small even if a liquid layer for passing light at the time of exposure is formed on the surface of the substrate, exposure can be carried out with high line width accuracy, and resultantly a resist pattern can be formed with high precision and high in-plane uniformity on the developed substrate.

Abstract translation: 一种涂布机/显影剂，通过抑制在进行液浸曝光的基板处理时从抗蚀剂洗脱的成分的影响，确保高精度和高面内均匀性的涂布/显影。 使用涂布单元将基材的表面涂覆抗蚀剂，然后在暴露之前使用诸如清洁喷嘴的第一清洁装置清洁基材。 即使在基板的表面上形成曝光用的液体层，由于从抗蚀剂洗脱的成分的量也小，所以能够以高的线宽精度进行曝光，从而抗蚀图案 在显影的基底上形成高精度和高的面内均匀性。

公开(公告)号：KR101841593B1

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：KR1020120017769

申请日：2012-02-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼타케코우이치 ,  니와타카후미 ,  쿄우다히데하루 ,  요시하라코우스케

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/325

Abstract: 유기용제를함유하는현상액을이용한현상처리에서처리시간의단축화를가능하게하여처리능력을향상시킬수 있는현상처리방법및 현상처리장치를제공하는것이다. 표면에레지스트가도포되고, 노광된후의기판으로유기용제를함유하는현상액을공급하여현상을행하는현상처리방법에서, 기판을회전시키면서(단계(S1)), 현상액공급노즐로부터기판의중심부로현상액을공급하여액막을형성하는액막형성공정(단계(A))과, 현상액공급노즐로부터기판으로의현상액의공급을정지시키고, 또한현상액의액막을건조시키지않은상태에서기판을회전시키면서, 기판상의레지스트막을현상하는현상공정(단계(B))을구비한다.

公开(公告)号：KR1020090095501A

公开(公告)日：2009-09-09

申请号：KR1020090018428

申请日：2009-03-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 츠츠미켄지 ,  쿄우다히데하루 ,  야마우치타카시 ,  키타노쥰이치

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67742 ,  B08B3/022 ,  B25J11/0095 ,  B25J19/0058 ,  H01L21/68707

Abstract: A transfer arm cleaning device, a transfer arm cleaning method, a program and a computer-readable recording medium are provided to allow a user to clean a maintenance unit of the transfer arm efficiently by preventing a foreign material and a washing solution from being leaked. In a transfer arm cleaning device, a transfer arm cleaning method, a program and a computer-readable recording medium, a cleaning device(1) washes a maintenance unit of a transfer arm(10) having a plurality of the substrate maintenance units. An opening part is formed at one side of a treatment basin(20) so that it allows the access of the transfer arm, and a cleaning gas or the washing solution is discharged to the cleaning nozzle(40). A gas jet part(30) is installed at the opening of the treatment basin and discharges the gas.

Abstract translation: 提供了传送臂清洁装置，传送臂清洁方法，程序和计算机可读记录介质，以允许用户通过防止异物和洗涤液泄漏而有效地清洁传送臂的维护单元。 在传送臂清洁装置，传送臂清洁方法，程序和计算机可读记录介质中，清洁装置（1）洗涤具有多个基板维护单元的传送臂（10）的维护单元。 开口部形成在处理槽（20）的一侧，使得其能够进入传送臂，并且清洁气体或清洗液被排出到清洁喷嘴（40）。 气体喷射部分（30）安装在处理池的开口处并排出气体。

公开(公告)号：KR100839886B1

公开(公告)日：2008-06-19

申请号：KR1020067020543

申请日：2004-12-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  쿄우다히데하루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051

Abstract: 본 발명은 도포· 현상장치 및 도포 · 현상방법에 관한 것으로서 도포 유니트에서 기판의 표면에 레지스트를 도포해 그 다음에 제1의 세정 수단 예를 들면 세정 노즐에 의해 기판을 세정하고 그 후 노광하는 구성으로 한다. 이 경우, 노광시에 기판의 표면에 빛을 투과시키는 액층을 기판의 표면에 형성해도 레지스트로부터 용출하는 성분의 양이 적기 때문에 선폭 정밀도가 높은 노광 처리를 할 수가 있어 결과적으로 현상후의 기판에 고정밀도 또한 면내 균일성이 높은 레지스트 패턴을 형성할 수가 있다. 액침노광이 적용되는 기판을 처리할 때에 레지스트로부터 용출 하는 성분의 영향을 억제해 고정밀도 또한 면내 균일성이 높은 도포, 현상을 하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 通过抑制在通过浸渍曝光处理涂布有抗蚀剂的基材时，可以抑制可能被洗脱的抗蚀剂的成分的影响来实现具有高表面内均匀性的精确涂布和显影。 涂覆单元用抗蚀剂涂覆基材的表面。 然后，包括清洁喷嘴的第一清洁装置清洁基板，然后对基板进行曝光处理。 由于只有少量的抗蚀剂成分溶解在形成在用于曝光的基板上的透明液体层中，曝光处理可以形成精确线宽的线。 因此，通过显影曝光的抗蚀剂，可以在衬底上形成具有高表面内均匀性的精确线宽的线的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：KR101401760B1

公开(公告)日：2014-05-30

申请号：KR1020090018428

申请日：2009-03-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 츠츠미켄지 ,  쿄우다히데하루 ,  야마우치타카시 ,  키타노쥰이치

IPC: H01L21/677

Abstract: 본 발명은 반송 아암 세정 장치, 반송 아암 세정 방법, 프로그램 및 컴퓨터 기억 매체에 관한 것으로서 반송 아암 세정 장치(1)는 반송 아암(102)측의 측면이 개구한 처리 용기(20)를 가지고 있다. 처리 용기(20)의 개구부(21)의 상부와 하부에는, 기체를 분사하는 기체 분사부(30, 31)가 설치되고 있다. 기체 분사부(30)로부터의 기체의 분사에 의해 개구부(21)에는 에어 커튼이 형성된다. 처리 용기(20)내의 상부에는 세정 가스 및 세정액을 토출하는 세정 노즐(40)이 설치되고, 세정 노즐(40)은 수평 방향 및 수직 방향으로 이동 가능하게 되어 있다. 세정 노즐(40)으로부터 토출되는 세정 가스 및 세정액은 가열되고 세정액은 미스트형상이 되어 있다. 처리 용기(20)의 바닥면에는 세정 노즐(40)로부터 토출되고 처리 용기(20)의 바닥면에 낙하한 세정액을 회수하는 배액구(50)가 형성되고 있는 반송 아암의 보유 지지부를 효율적으로 세정하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020120097331A

公开(公告)日：2012-09-03

申请号：KR1020120017769

申请日：2012-02-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼타케코우이치 ,  니와타카후미 ,  쿄우다히데하루 ,  요시하라코우스케

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0273 ,  G03F7/30

Abstract: PURPOSE: A development processing method and apparatus using a developing solution containing an organic solvent are provided to improve melting and removal rates of a resist film by maintaining a liquid film of the developing solution to be thin. CONSTITUTION: A wafer is rotated by a rotary drive mechanism(S1). A developing nozzle is carried from a peripheral portion of the wafer to an upper portion of a central portion(S2). A developing solution is provided from the developing nozzle to the central portion of the wafer(S3). The developing nozzle is carried from the central portion of the wafer to the peripheral portion(S4). A rinse solution including an organic solvent is provided to the surface of the wafer(S5). Spin dry processing for eliminating the rinse solution from the surface of the wafer is performed(S6). [Reference numerals] (A) Supplying a development solution; (AA) Start; (B) Stopping supplying the development solution; (BB) End; (C) Supplying the developing solution; (S1) Rotating a wafer; (S2) Moving a developing nozzle to the center portion; (S4) Moving the developing nozzle to the peripheral portion; (S5) Rinsing; (S6) Drying

Abstract translation: 目的：提供使用含有有机溶剂的显影液的显影处理方法和装置，以通过将显影液的液膜保持薄而提高抗蚀剂膜的熔融和除去速度。 构成：通过旋转驱动机构旋转晶片（S1）。 显影喷嘴从晶片的周边部分运送到中心部分的上部（S2）。 从显影喷嘴提供到晶片的中心部分的显影液（S3）。 显影喷嘴从晶片的中心部分运送到周边部分（S4）。 将包含有机溶剂的冲洗溶液提供到晶片的表面（S5）。 进行用于从晶片表面去除冲洗溶液的旋转干燥处理（S6）。 （附图标记）（A）提供开发解决方案; （AA）开始; （二）停止供应开发解决方案; （BB）结束; （C）提供开发解决方案; （S1）旋转晶圆; （S2）将显影喷嘴移动到中心部分; （S4）将显影喷嘴移动到周边部分; （S5）冲洗; （S6）干燥

公开(公告)号：KR101032225B1

公开(公告)日：2011-05-02

申请号：KR1020060081611

申请日：2006-08-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  쿄우다히데하루 ,  카와사키테츠 ,  시무라사토루

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 본 발명은 기판세정장치 및 기판세정방법에 관한 것으로서 세정액노즐로부터의 세정액의 공급 위치를 기판의 중앙부로부터 주변으로 향해 이동시킴과 동시에 공급 위치에서 기판의 회전 방향에 있어서의 하류측 영역에 대해서 기판의 외측으로 향해 가스를 불어낸다. 이것에 의해 세정액이 기판의 표면을 조금 흘러 액막을이룬 상태로 기류에 의한 외측으로 향한 힘이 작용하므로 주방향으로 흐르는 액흐름이 외측으로 이동한다. 또 세정액노즐로부터 토출된 세정액을 토출구와 같은 높이나 그것보다 낮은 위치에 형성된 액누름면부에 의해 구속함으로써 액의 응집이 생기므로 저회전에서도 원심력이 커져 그 액의 응집이 밖으로 향하는 작용이 커진다. 기판의 표면을 스핀 세정하는 것에 있어 기판상에 잔존하는 물방울을 저감하고 예를 들면 노광 후의 가열 처리시에 있어서의 물방울 혹은 워터마크에 의한 가열 얼룩을 억제하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020130006297A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：KR1020120068504

申请日：2012-06-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼타케코우이치 ,  쿄우다히데하루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322

Abstract: PURPOSE: A developing processing apparatus, a developing processing method, and a computer readable storage medium are provided to properly form a resist pattern on a resist film by developing the resist film on a substrate with high precision. CONSTITUTION: A processing container(110) receives a substrate(W). A processing gas supply unit(122) supplies gas to the processing container. A density measuring unit(130) measures the density of acetic acid butyl gas in the processing container. A spin chuck(140) holds the substrate in the processing container. A developer nozzle supplies a developer with an organic solvent to the substrate held on the spin chuck.

Abstract translation: 目的：提供显影处理装置，显影处理方法和计算机可读存储介质，以通过在基板上高精度地显影抗蚀剂膜，在抗蚀剂膜上适当地形成抗蚀剂图案。 构成：处理容器（110）容纳衬底（W）。 处理气体供给单元（122）向处理容器供给气体。 密度测量单元（130）测量处理容器中乙酸丁基气体的密度。 旋转卡盘（140）将基板保持在处理容器中。 显影剂喷嘴将显影剂供给到保持在旋转卡盘上的基板上的有机溶剂。