公开(公告)号：KR1020150068312A

公开(公告)日：2015-06-19

申请号：KR1020140176014

申请日：2014-12-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키시히로키 ,  미야가와마사아키 ,  키타바타토시노리 ,  이와타마나부

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/32642 ,  H01J37/32715

Abstract: 포커스링의소모에수반하는틸팅변동의진행을억제하는것이다. 플라즈마처리장치는, 피처리체를플라즈마처리하기위한챔버와, 챔버의내부에설치되고, 피처리체가재치되는재치면을가지는재치대와, 재치면에재치된피처리체를둘러싸도록재치대에설치된포커스링으로서, 재치면보다낮은제 1 평탄부와, 제 1 평탄부보다높고, 또한피처리체의피처리면보다높지않은제 2 평탄부와, 제 2 평탄부및 피처리체의피처리면보다높은제 3 평탄부가내주측으로부터외주측을향해차례로형성된포커스링을구비했다.

Abstract translation: 本发明抑制由聚焦环的消耗引起的倾斜变化的进展。 等离子体处理装置包括用于处理具有等离子体的物体的室，安装在所述室中并具有安装所述物体的安装表面的安装台和安装在所述安装台上以围绕所述物体的所述聚焦环 安装在安装表面上。 聚焦环包括比安装表面低的第一平坦部分，比第一平坦部分高的第二平坦部分，并且不高于物体的处理表面，并且第三环高于 第二平面部分和物体的处理表面，其从内周侧到外周侧依次形成。