公开(公告)号：KR1020010088400A

公开(公告)日：2001-09-26

申请号：KR1020010011383

申请日：2001-03-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 쿠가야스히로 ,  타노우에미츠히로 ,  타나카코우이치로우

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/68728 ,  H01L21/67098

Abstract: PURPOSE: To suppress the deformation of a heat plate due to heat contraction of a supporting member. CONSTITUTION: A heat plate 65 in a post exposure baking device is supported by an annular supporting member 70 having a circular step 70a along the inner circumference thereof. The supporting member 70 is fixed on a support 74 with a plurality of bolts 71. The bolts 71 are provided on the inner circumferential surface of the step 70a facing the outer circumferential surface of the heat plate 65, in a manner that the circumferential surface on the side of the heat plate 65 of the bolts 71 may be exposed toward the side of the heat plate 65. In addition, a collar 76 is provided around the outer circumference of the bolt 71, and the heat plate 65 is fixed at a given position by the collar 76.

Abstract translation: 目的：抑制由于支撑构件的热收缩导致的加热板的变形。 构成：后曝光烘烤装置中的加热板65由具有圆形台阶70a的环形支撑构件70沿其内周支撑。 支撑构件70用多个螺栓71固定在支撑件74上。螺栓71设置在台阶70a的与加热板65的外周面对置的内周面上， 螺栓71的加热板65的一侧可以朝向加热板65的侧面露出。另外，在螺栓71的外周周围设置有轴环76，并且加热板65固定在给定的 衣领76的位置。

公开(公告)号：KR1020120002958A

公开(公告)日：2012-01-09

申请号：KR1020110129465

申请日：2011-12-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  타노우에미츠히로 ,  오카다신지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A coating developing device and method are provided to reduce the load of a returning member by installing a thermostat unit in around the hydrophobic unit and to improve returning efficiency by a returning means. CONSTITUTION: A processing block(S2) forms a coating film which includes a resist film. The processing block comprises a unit block for coating film formation and a unit block for a developing process. The unit block for the coating film formation and the unit block for the developing process comprise a liquid processing unit, a heating unit, and a returning member for a unit block. The returning member for the unit block returns a substrate to the liquid processing unit and the heating unit. A sending and receiving part group(G) is composed of a hydrophobic unit which executes a hydrophobic process about a sending and receiving part and a wafer.

Abstract translation: 目的：提供一种涂料显影装置和方法，通过将恒温器单元安装在疏水单元周围并通过返回装置提高返回效率来减少返回构件的负载。 构成：处理块（S2）形成包含抗蚀剂膜的涂膜。 处理块包括用于涂膜形成的单元块和用于显影过程的单元块。 用于涂膜形成的单元块和用于显影处理的单元块包括液体处理单元，加热单元和用于单位块的返回构件。 单元块的返回构件将基板返回到液体处理单元和加热单元。 发送和接收部分组（G）由执行关于发送和接收部分和晶片的疏水处理的疏水单元组成。

公开(公告)号：KR101200217B1

公开(公告)日：2012-11-09

申请号：KR1020110129465

申请日：2011-12-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  타노우에미츠히로 ,  오카다신지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67745

Abstract: 본 발명은 도포, 현상장치 및 도포, 현상방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)는 도포막 형성용의 단위 블럭인 BCT층 (B3), COT층 (B4), TCT층 (B5)와 이들의 단위 블럭 (B3, B4, B5)에 적층된 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1, B2)를 구비하고 있다. 단위 블럭 (B1~B5)에 각 단위 블럭 (B1~B5)의 메인 아암 (A1~A5)의 사이에 웨이퍼(W)의 수수를 행하는 수수부와 웨이퍼(W)에 대해서 소수화 처리를 행하는 소수화 유니트로 이루어지는 수수부군 (G)가 설치되고 있다. 이 수수부와 소수화 유니트의 사이로 수수 아암 (D)에 의해 웨이퍼(W)가 수수된다. 이 경우, 소수화 유니트로의 웨이퍼(W)의 반송을 예를 들면 COT층 (B4)의 메인 아암 (A4)에 의해 행하지 않아도 좋기 때문에 상기 아암 (A4)의 부담이 경감해 반송의 수율이 향상하는 기술을 제공한다.