公开(公告)号：KR1020150114476A

公开(公告)日：2015-10-12

申请号：KR1020157019983

申请日：2014-01-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  키타노타카히로 ,  도미타타다토시 ,  타노우치케이지 ,  오카다소이치로

IPC: H01L21/033 ,  H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/0337

Abstract: 본발명의기판처리방법은, 알칼리용액에가용인도포막을기판상에형성하는도포막형성공정과, 도포막상에레지스트패턴을형성하는레지스트패턴형성공정과, 레지스트패턴을마스크로서기판상에정해진패턴을형성하는패턴처리공정과, 이후, 알칼리용액에의해도포막을제거함으로써레지스트패턴을제거하는도포막제거공정과, 블록공중합체를, 도포막및 레지스트패턴제거후의기판상에도포하는블록공중합체도포공정과, 블록공중합체를, 제 1 폴리머와제 2 폴리머로상분리시키는폴리머분리공정을가진다.

公开(公告)号：KR1020120118436A

公开(公告)日：2012-10-26

申请号：KR1020120040110

申请日：2012-04-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  키타노타카히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  F26B9/06 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/162 ,  H01L21/324

Abstract: PURPOSE: A substrate heating device, a coating and developing device including the same and a substrate heating method are provided to uniformly heat a substrate during using a thin heating plate for rapid change of a temperature. CONSTITUTION: A cover member(57) is located on the bottom of a casing(52). Three lift pins(53) penetrate the cover member and are fixed to the cover member. A branch pipe(58) is branched from a pipe(56b) of a gas supply system(56). The branch pipe joins by forming a switch valve(58a) on an exhaust pipe(60L). The exhaust pipe connects a vacuum exhauster(60) and an exhaust pipe(52V) at the bottom of the casing.

Abstract translation: 目的：提供一种基板加热装置，包括该基板加热装置的涂覆和显影装置和基板加热方法，以在使用用于快速变化温度的薄加热板期间均匀加热基板。 构成：盖构件（57）位于壳体（52）的底部。 三个提升销（53）穿过盖构件并固定到盖构件上。 支管（58）从气体供给系统（56）的管（56b）分支。 分支管通过在排气管（60L）上形成切换阀（58a）而连接。 排气管连接真空排气器（60）和壳体底部的排气管（52V）。

公开(公告)号：KR101088541B1

公开(公告)日：2011-12-05

申请号：KR1020060083557

申请日：2006-08-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  아키모토마사미 ,  키타노타카히로 ,  키무라요시오 ,  하야시신이치 ,  이토우히카루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/324

CPC classification number: C30B33/02 ,  C30B35/00 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67748

Abstract: 본 발명은 가열장치 및 도포, 현상장치에 관한 것으로서 가열 장치 (2)는 프레임체 (20)과 프레임체 (20)내에 설치되어 기판인 웨이퍼 (W)를 가열 처리함과 동시에 한쪽측이 웨이퍼 (W)를 반입출 하기 위해서 개구하는 편평한 가열실 (4)와 상기 웨이퍼 (W)를 윗쪽측 및 아래쪽측으로부터 가열하도록 상기 가열실 (4)에 설치된 열판 (44,45)를 구비하고 있다. 상기 프레임체 (20)내에 상기 가열실 (4)의 개구 측에 인접하도록 열판 (44,45)로 가열된 웨이퍼 (W)를 냉각하기 위한 냉각 플레이트 (3)이 설치되고 있다. 상기 프레임체 (20)내에 상기 웨이퍼 (W)를 냉각 플레이트 (3)의 윗쪽측의 위치와 가열실 (4)의 내부의 사이에 반송하고 상기 가열실 (4)내에서 웨이퍼 (W)를 보지한 상태로 기판의 가열 처리를 행하기 위한 반송 수단이 설치되고 있는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020110020731A

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：KR1020100077208

申请日：2010-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 심무라사토시 ,  후쿠오카테츠오 ,  키타노타카히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: C23C16/24 ,  C23C16/4485 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A hydrophobicizing apparatus, a hydrophobicizing method, and a storage medium are provided to supply high concentration hydrophobic gases to a substrate by increasing the efficiency of evaporating a liquid medicine. CONSTITUTION: In a hydrophobicizing apparatus, a hydrophobicizing method, and a storage medium, an evaporation surface heating portion(62) heats an evaporation surface shaping region(65). A medicine liquid supply port(58) supplies a hydrophobic medicine liquid to the surface of the substrate of the evaporation surface shaping region. A gas inlet port introduces carrier gases within a vaporization chamber. An outlet port(68) extracts hydrophobic gases from the vaporization chamber. A processing container performs hydrophobolic process by using extracted hydrophobic gases.

Abstract translation: 目的：提供疏水化装置，疏水化方法和储存介质，以通过提高蒸发液体药物的效率将高浓度疏水性气体提供给基底。 构成：在疏水化装置中，疏水化方法和储存介质，蒸发表面加热部分（62）加热蒸发表面成形区域（65）。 药液供给口（58）向蒸发面成形区域的基板的表面供给疏水性药液。 气体入口在气化室内引入载气。 出口端口（68）从蒸发室提取疏水性气体。 处理容器通过使用提取的疏水性气体进行疏水过程。

公开(公告)号：KR100798659B1

公开(公告)日：2008-01-29

申请号：KR1020020020704

申请日：2002-04-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노타카히로 ,  스기모토신이치 ,  코바야시신지 ,  히라카와나오야 ,  후쿠토미아키라 ,  이시자카노부카즈

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67069

Abstract: 본 발명은 기판을 처리하는 처리장치에 관한 것으로서, 기판을 수용하고 기체가 통하지 않도록 폐쇄가능한 처리실을 형성하는 챔버와, 처리실의 분위기를 상기 챔버의 상부로부터 배기하여 처리실을 감압시키기 위한 배기부를 갖고 있다. 본 발명은 감압할 때에 처리실 내에 형성되는 기류를 제어하는 정류판을 갖고 챔버는 기판을 재치하는 재치대와, 재치대상의 기판을 상방에서 덮고 상기 재치대와 일체가 되게 처리실을 형성하는 하면이 개구된 대략 원통형상의 개체와, 정류판을 재치대에 대해 평행하게 되도록 지지하는 지지부재를 갖는다. 본 발명에 따르면 정류판과 기판간에 흐르는 기류의 속도가 기판면내에서 균일해지므로 기판상의 도포막을 건조시킬 때에 막두께가 균일하게 평탄해지는 기술이제시된다.

Abstract translation: 本发明具有涉及一种处理设备，用于处理衬底，其包括：容纳所述衬底和所述腔室，并从形成的可封闭的处理室中，使得所述气体通过所述腔室的部分排气进行减压处理室的上部排出处理室的气氛 。 开口时，本发明是当减压具有用于控制在工艺腔室所形成的腔室，以覆盖上述载置台的气流的整流板，和用于在上述的形成所述安装台与积分的安装衬底的安装目标基板是成为处理室 以及用于支撑整流板以与安装台平行的支撑构件。 在根据本发明通过当前板呈现，因此在基片平面均匀的涂膜厚度在基片之间流动的流量变得均匀时在衬底上的平面状的干燥技术膜。

公开(公告)号：KR100698352B1

公开(公告)日：2007-03-23

申请号：KR1020060068647

申请日：2006-07-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노준이치 ,  마츠야마유지 ,  키타노타카히로 ,  카타노타카유키 ,  마츠이히데후미 ,  스즈키요 ,  야마시타마사미 ,  아오야마토루 ,  이와키히로유키 ,  시무라사토루 ,  데구치마사토시 ,  요시하라코우스케 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67778 ,  Y10T29/41

Abstract: 도포현상 처리시스템에 있어서 경계판에 의해 나누어진 각 영역, 즉 카세트 스테이션, 처리 스테이션 및 인터페이스부의 상부에 각 영역 내로 불활성 기체를 공급하는 기체 공급부를 각각 설치한다. 상기 각 영역의 하부에는 각 영역 내의 분위기를 배기하기 위한 배기관을 설치한다. 각 기체 공급장치로 산소 등의 불순물이나 미립자를 포함하지 않는 불활성 기체를 각 영역 내로 공급하고 각 영역 내의 분위기를 배기관으로 배기함으로써 각 영역 내의 분위기를 청정한 상태로 유지한다.

Abstract translation: 提供一种气体供应单元，用于将惰性气体供应到由涂布和显影系统中的边界板划分的每个区域中，即在盒台，处理台和接口单元的上方。 在每个区域下方设置用于排出每个区域中的气氛的排气管。 将不含氧等杂质的惰性气体和不含颗粒的惰性气体供应到每个气体供应单元中，并且将每个区域中的气氛排出到排气管以保持每个区域中的气氛清洁。

公开(公告)号：KR100628584B1

公开(公告)日：2006-09-26

申请号：KR1020010014130

申请日：2001-03-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노타카히로 ,  마츠야마유지 ,  키타노준이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67248

Abstract: 제어부는 예를 들면, 가열 처리시에는 웨이퍼(W)에 도포된 레지스트에 함유된 시너가 휘발하고, 또한, 산발생제, 켄처 및 폴리머 사슬 보호기가 레지스트내에 실질적으로 잔존할 정도의 압력 및 온도가 되도록, 열판의 온도 및 밀폐 공간내의 진공도를 제어한다. 구체적으로는 예를 들면, 열판의 온도가 40℃정도, 밀폐 공간내의 진공도가 5Torr 정도가 되도록 열판의 온도 및 밀폐 공간내의 진공도를 제어한다. 이에 따라, 폴리머 사슬 보호기가 파괴되지 않고 산발생제가 레지스트내에 균일하게 분산되거나, 또는, 켄처가 레지스트의 표면에 균일하게 형성되도록 기판을 열처리할 수 있다.

Abstract translation: 所述控制单元是，例如，在被越薄，包含在晶片（W），和挥发性的，但在抗蚀剂涂层还，产酸剂，kencheo和聚合物链保护基的压力和温度基本上保持在抗蚀剂热处理的时间 以控制热板的温度和封闭空间内的真空度。 具体而言，例如，它控制的真空中在热板的密封封闭空间中的温度和真空度的程度是关于热板40℃的温度，空间，使得度5托。 由此，基板可以被热处理，使得聚合物链保护基团不被破坏，并且酸产生剂均匀地分散在抗蚀剂中，或者香炉均匀地形成在抗蚀剂的表面上。

公开(公告)号：KR1020010067414A

公开(公告)日：2001-07-12

申请号：KR1020000078204

申请日：2000-12-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노타카히로 ,  모리카와마사테루 ,  에사키유키히코 ,  이시자카노부카즈 ,  코가노리히사 ,  타케시타카즈히로 ,  오오쿠마히로후미 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C5/0208 ,  B05C5/0216 ,  B05C5/0291 ,  H01L21/0271

Abstract: PURPOSE: A coating film forming device and coating film forming method are provided to enhance the in-plane uniformity of a film thickness of a resist film in a resist liquid applying device, for example. CONSTITUTION: The coated region of a wafer is divided into three regions and the coating film of a resist liquid is formed per the divided region of the wafer surface by moving the wafer and/or driving a supply nozzle in a specified application order and/or an application direction so that the application initiating positions of the adjacent divided regions do not adjoin to each other and/or the resist liquid is not continuously applied to the application ending position of one of the adjacent divided regions and the application initiating position of the other adjacent divided region in this order, when the application ending position and the application initiating position adjoin to each other. Consequently, such a phenomenon that the resist liquid is drawn to the application initiating position side, resulting in the increased film thickness of the part on this part, occurs only in the region where the application initiating position is present.

Abstract translation: 目的：提供涂膜形成装置和涂膜形成方法，以提高例如抗蚀剂涂布装置中的抗蚀剂膜的膜厚的面内均匀性。 构成：将晶片的被覆区域分割为三个区域，通过以规定的施加顺序移动晶片和/或驱动供给喷嘴，并且/或者以特定的施加顺序驱动供给喷嘴，并且每个晶片表面的分割区域形成抗蚀剂液体的涂膜，和/或 使得相邻分割区域的应用开始位置彼此不相邻和/或抗蚀剂液体不连续地施加到相邻分割区域中的一个的应用结束位置和另一个的应用开始位置的应用方向 当应用程序结束位置和应用程序启动位置彼此相邻时，该顺序相邻的分区。 因此，抗蚀剂液体被吸引到施加开始位置侧，导致在该部件上的部件的膜厚度增加的现象仅发生在存在施加开始位置的区域中。

公开(公告)号：KR1020130129851A

公开(公告)日：2013-11-29

申请号：KR1020130056697

申请日：2013-05-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  키타노타카히로 ,  도미타타다토시 ,  타노우치케이지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  B05C5/02 ,  B05C11/1007 ,  B05D1/40 ,  G03F7/16

Abstract: The present invention is to prevent a disordered pattern from being generated in a region where a pattern is not formed when the pattern is formed by a block copolymer on a substrate. Problems are solved by a coating device including a substrate holding part holding a substrate; a coating nozzle that is arranged in the upper region of the substrate holding part, supplies a coating solution including a block copolymer to the substrate supported by the substrate holding part, and has a coating solution path like a capillary tube and an injection hole; a transfer unit that reaches the injection hole of the coating nozzle to the substrate supported by the substrate holding part and relatively move the coating nozzle with regard to the substrate; a coating solution tank that stores the coating solution and connects the coating nozzle; a coating solution tank operation part controlling the level of the coating solution in the coating solution tank with regard to the height of the injection hole. [Reference numerals] (7) Control unit

Abstract translation: 本发明是为了防止在通过基板上的嵌段共聚物形成图案的情况下在不形成图案的区域中产生无序图案。 通过包括保持基板的基板保持部的涂布装置来解决问题; 布置在基板保持部的上部区域的涂布喷嘴，将由嵌段共聚物构成的涂布溶液供给到由基板保持部支撑的基板，并具有如毛细管和喷射孔的涂布液路径; 传送单元，其到达所述涂布喷嘴的喷射孔到由所述基板保持部支撑的所述基板，并相对于所述基板相对移动所述涂布喷嘴; 一个储存涂层溶液并连接涂层喷嘴的涂层溶液罐; 一个涂料溶液罐操作部分，用于控制涂料溶液罐中涂料溶液相对于喷射孔高度的水平。 （附图标记）（7）控制单元

公开(公告)号：KR101059309B1

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：KR1020060026833

申请日：2006-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  키타노타카히로 ,  마츠오카노부아키

IPC: H01L21/324

CPC classification number: F27B5/04 ,  F27D3/0084 ,  H01L21/67109

Abstract: 본 발명은 가열장치, 도포, 현상장치 및 가열방법에 관한 것으로서 기판을 재치하는 열판과 이 기판과 대향하는 천정판이 상기 열판과 천정판의 사이에 가스를 토출하는 가스 토출부와, 상기 열판을 끼워서 가스 토출부와 대향하여 설치된 배기부와, 기판의 제 1의 영역 제 2의 영역을 구비하도록 가열 장치를 구성한다. 한방향 흐름이 형성되고 제 1의 영역과 제 2의 영역을 다른 온도로 가열하는 것으로 면내 균일성이 높은 가열처리가 행해진다. 이 가열장치에 있어서 상기 가스가 일정 온도로 가열되고 또한 상기 열판상에 일정한 높이의 돌기부가 구비됨으로써 기판의 휘어짐에 의한 위치 차이를 방지하고 또한 기판의 냉각을 방지할 수 있기 때문에 면내 균일성이 높은 가열 처리를 실시할 수 있는 파티클이 기판으로의 부착이 억제되고 기판의 휘어짐에 의한 열판으로의 접촉을 억제할 수 있고 또한 면내 균일성이 높은 가열처리의 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明被夹在气体排出部之间，以板面对所述散热器和用于安装基片涉及一种加热装置，涂布，显影装置和用于排出热板和顶板，所述底板之间的气体的加热方法在衬底的天花板 与气体排出部相对设置的排气部和基板的第一区域。 形成单向流动，并且第一区域和第二区域被加热到不同温度，由此执行具有高面内均匀性的热处理。 在该加热装置中，由于气体被加热到预定温度并且具有预定高度的突起被设置在热板上，所以可以防止由于基板的翘曲而导致的位置差异并且防止基板的冷却， 抑制微粒与基材的密合性进行热处理，能够抑制热板的接触，由于基板的翘曲，并且还提供在面内的高热处理的技术的均匀性。