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公开(公告)号:KR102166224B1
公开(公告)日:2020-10-15
申请号:KR1020170091513
申请日:2017-07-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H01L21/324 , H01L21/3213 , H01L21/67 , H01L21/677
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公开(公告)号:KR1020150135287A
公开(公告)日:2015-12-02
申请号:KR1020157026106
申请日:2014-03-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: B81C1/00047 , B81C2201/0104 , B81C2201/0108 , B81C2201/0132 , B82Y40/00
Abstract: 오목형상을포함하는하부구조체(30)가준비되고, 증착중합법에의해, 상기하부구조체위에유기막으로이루어지는희생막(40)을퇴적시켜, 상기오목형상이상기희생막으로매립되고, 상기희생막의불필요부분이제거되고, 불필요부분이제거된상기희생막위에상부구조체(50)가형성되고, 상기희생막을제거하여, 상기하부구조체와상기상부구조체의사이에공극을형성함으로써, 중공구조체가제조된다.
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公开(公告)号:KR102232637B1
公开(公告)日:2021-03-25
申请号:KR1020180026846
申请日:2018-03-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명은, 종형의반응용기내에서선반형상으로유지된복수의기판에대하여성막처리를행하는데 있어서, 기판의중심부의막 두께와주연부의막 두께를각각제어할수 있는기술을제공하는것이다. 반응용기(11) 내에서의기판(W)의유지영역의후방에설치된, 상기성막가스를토출하는성막가스토출부(41)와, 기판(W)의유지영역의전방에설치된, 성막가스를배기하는배기구(15)와, 기판유지구(21)를종축의주위로회전시키기위한회전기구(34)와, 성막가스토출부(41)로부터토출되는성막가스의온도보다도반응용기(11) 내를낮은온도로가열하는가열부(24)를구비하는장치를구성한다. 성막가스토출부(41)에서, 제1 토출구(43)는토출된성막가스가반응용기(11) 내의가스강온용부재에충돌해서강온되도록, 제2 토출구(42)는토출된성막가스가가스강온용부재에충돌하지않도록, 각각상이한방향으로개구된다.
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