公开(公告)号：KR1020080056655A

公开(公告)日：2008-06-23

申请号：KR1020070132019

申请日：2007-12-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노히사시 ,  기따노쥰이찌 ,  고스기히또시 ,  혼따께고오이찌 ,  에노모또마사시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/304 ,  G06F19/00

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/11 ,  G03F7/70341

Abstract: A coating-developing apparatus, a method for forming a pattern, and a computer readable storage medium are provided to prevent a residual liquid-drop or a trace of the residual liquid-drop by evaporating a liquid attached to a substrate. A process unit has plural process units for performing a series of processes for a resist application and development. An interface unit is installed between the process unit and an immersion exposure apparatus. A dry process unit(DRY1) is installed on the interface unit and dries a substrate after an immersion exposure process. The dry process unit includes a process container(40), a substrate mounting member(41), a temperature controlled gas supply device(42), and an exhaust device(43). The process container accommodates the substrate. The substrate mounting member mounts the substrate in the process container. The temperature controlled gas supply device supplies temperature controlled gas into the process container. The exhaust device exhausts the process container. When the substrate is mounted on the substrate mounting member in the process container, the substrate is dried by exhausting gas through the exhaust device and by supplying gas through the temperature controlled gas supply device.

Abstract translation: 提供涂布显影装置，形成图案的方法和计算机可读存储介质，以通过蒸发附着在基板上的液体来防止残留的液滴或痕迹的残留液滴。 处理单元具有用于执行用于抗蚀剂应用和开发的一系列处理的多个处理单元。 接口单元安装在处理单元和浸没曝光设备之间。 干式处理单元（DRY1）安装在接口单元上，并在浸渍曝光过程后干燥基板。 干燥处理单元包括处理容器（40），基板安装构件（41），温度控制气体供给装置（42）和排气装置（43）。 处理容器容纳衬底。 基板安装部件将基板安装在处理容器中。 温度控制气体供应装置将温度控制的气体供应到处理容器中。 排气装置排出处理容器。 当基板安装在处理容器中的基板安装构件上时，通过排气装置排出气体并通过供应气体通过温度控制气体供应装置来干燥基板。

公开(公告)号：KR101339567B1

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：KR1020070132019

申请日：2007-12-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노히사시 ,  기따노쥰이찌 ,  고스기히또시 ,  혼따께고오이찌 ,  에노모또마사시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/304 ,  G06F19/00

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3021

Abstract: 본 발명의 과제는 잔류 액적 또는 잔류 액적의 흔적의 발생을 방지하는 것이 가능한 도포ㆍ현상 장치를 제공하는 것이다.
도포ㆍ현상 장치(2)는, 레지스트 도포 및 현상을 위한 일련의 처리를 행하는 처리부와, 처리부와 액침 노광 장치와의 사이에 설치된 인터페이스부와, 인터페이스부에 설치되고 액침 노광 처리 직후의 웨이퍼(W)를 건조시키는 제1 건조 유닛(DRY1)을 구비하고, 제1 건조 유닛(DRY1)은, 웨이퍼(W)를 수용하는 챔버(40)와, 챔버(40) 내에서 웨이퍼(W)를 적재하는 적재부(41)와, 챔버(40) 내에 온조 에어를 공급하는 온조 에어 공급 기구(42)와, 챔버(40)를 배기하는 배기 기구(43)를 구비하고, 챔버(40) 내의 적재부(41)에 웨이퍼(W)를 적재한 상태에서, 배기 기구(43)에 의해 챔버(40) 내를 배기하면서, 온조 에어 공급 기구(42)에 의해 온조 에어를 공급하여 웨이퍼(W)를 건조시킨다.
도포ㆍ현상 장치, 건조 유닛, 챔버, 웨이퍼, 배기 기구

公开(公告)号：KR101337840B1

公开(公告)日：2013-12-06

申请号：KR1020070124236

申请日：2007-12-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼따께고오이찌 ,  에노모또마사시 ,  교오다히데하루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67225

Abstract: 본 발명의 과제는 액침 노광 처리의 전 및/또는 후에 효율적이고 또한 적절한 조건에서 기판을 세정할 수 있는 액침 노광용 세정 장치를 제공하는 것이다.
기판의 표면에 형성된 레지스트막에 액체를 통해 노광 처리를 실시하는 액침 노광 전 및/또는 후에, 기판을 세정하는 액침 노광용 세정 장치이며, 기판에 대해 세정 처리를 행하기 위한 기구를 구비한 세정 장치 본체와, 세정 장치 본체의 각 구성부를 제어하는 제어부를 구비하고, 제어부는 기판에 형성된 막의 표면 상태에 관한 파라미터의 값과, 그 파라미터의 값에 대응하여 적절한 세정을 행할 수 있는 하드 조건 및/또는 처리 조건과의 관계가 기억되고, 기판 상에 형성되어 있는 막의 표면 상태가 입력되었을 때에, 상술한 관계를 기초로 하여 그 표면 상태에 따른 하드 조건 및/또는 처리 조건을 갖는 새로운 처리 레시피를 작성하고, 그 새로운 처리 레시피를 기초로 하여 세정 처리를 행하게 한다.
액침 노광용 세정 장치, 기판, 레지스트막, 처리 레시피, 패턴 형성 장치

公开(公告)号：KR1020080051079A

公开(公告)日：2008-06-10

申请号：KR1020070124236

申请日：2007-12-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼따께고오이찌 ,  에노모또마사시 ,  교오다히데하루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67225 ,  B08B3/02 ,  G03F7/70341

Abstract: A cleaning apparatus and a cleaning method for an immersion exposure, a computer program, and a storage medium are provided to improve a substrate cleaning efficiency before and/or after an exposure process by using a new process recipe that is made based on a parameter and a processing condition. A main body(71) of a cleaning apparatus is provided with instruments for performing a cleaning process on a substrate. A controller(72) controls the instruments in the main body. The controller stores a relationship between a parameter with respect to a surface status of a layer formed on the substrate and a hard condition and/or a process condition capable of performing a cleaning process corresponding to the parameter. The controller prepares a new process recipe based on the relationship when a surface status of a layer formed on the substrate is inputted, and direct the instruments to perform a cleaning process based on the new process recipe.

Abstract translation: 提供一种用于浸渍曝光的清洁设备和清洁方法，计算机程序和存储介质，以通过使用基于参数的新的处理配方来提高在曝光处理之前和/或之后的基板清洁效率，以及 处理条件。 清洁装置的主体（71）设置有用于在基板上执行清洁处理的工具。 控制器（72）控制主体中的仪器。 控制器存储关于在基板上形成的层的表面状态的参数与能够执行与参数相对应的清洁处理的硬条件和/或处理条件之间的关系。 当输入基板上形成的层的表面状态时，控制器基于关系准备新的工艺配方，并且基于新的工艺配方引导仪器执行清洁处理。