公开(公告)号：KR102011527B1

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：KR1020140083636

申请日：2014-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  교오다히데하루 ,  무타고시 ,  야마모토타로 ,  다키구치야스시

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

公开(公告)号：KR102201953B1

公开(公告)日：2021-01-11

申请号：KR1020190051365

申请日：2019-05-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  교오다히데하루 ,  무타고시 ,  야마모토다로 ,  다키구치야스시 ,  후쿠다마사히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

Abstract: 노광후의기판을기판보유지지부에수평하게보유지지하는공정과, 상기기판의표면중심부에근접하도록당해기판에대향하는원형의제1 대향면의배치와, 상기기판의표면주연부에근접하도록당해기판에대향하는원형의제2 대향면의배치를각각행하는공정과, 상기제1 대향면에개구하는제1 토출구로부터근접하는상기기판의중심부로의현상액의토출과, 상기제2 대향면에개구하는제2 토출구로부터근접하는상기기판의주연부로의현상액의토출을각각행하는공정과, 상기현상액을토출하는제1 대향면을회전하는상기기판에근접한상태에서당해기판의주연부를향하여이동시킴과함께, 상기현상액을토출하는제2 대향면을당해회전하는기판에근접한상태에서당해기판의중심부를향하여이동시키고, 제1 대향면에서토출된현상액에의해형성되는액막의계면과, 제2 대향면에서토출된현상액에의해형성되는액막의계면을접합시켜서, 기판의표면전체를현상액으로피복하는피복공정과, 상기기판의표면전체가현상액으로피복된후에, 상기기판의회전및 당해기판으로의현상액의토출을정지하는공정을구비하도록현상을행한다.

公开(公告)号：KR101979967B1

公开(公告)日：2019-05-17

申请号：KR1020140097311

申请日：2014-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  교오다히데하루 ,  무타고시 ,  야마모토다로 ,  다키구치야스시 ,  후쿠다마사히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

公开(公告)号：KR1020070080833A

公开(公告)日：2007-08-13

申请号：KR1020070012599

申请日：2007-02-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  교오다히데하루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67017 ,  G03F7/11 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/3127

Abstract: A coating and developing apparatus, a coating and developing method and a storage medium with a computer-readable program are provided to restrain a protective layer from being peeled off a substrate by improving the adhesiveness of the protective layer using an adhesiveness improving unit capable of supplying an adhesiveness improving fluid. A coating and developing apparatus includes a first peripheral corner cleaning unit, a coating unit and an adhesiveness improving unit. The first peripheral corner cleaning unit is used for removing a peripheral corner portion of resist layer by using a predetermined solvent. The coating unit is used for forming a protective layer on the resist layer by using a coating solution containing a water repellent material. The adhesiveness improving unit(8) is used for supplying an adhesiveness improving fluid onto an exposed surface of a substrate in order to improve the adhesiveness of the protective layer.

Abstract translation: 提供一种涂布显影装置，涂布和显影方法以及具有计算机可读程序的存储介质，以通过使用能够供应的粘合性改进单元来提高保护层的粘附性来限制保护层从基板剥离 粘合性改善液。 涂料和显影装置包括第一周边角部清洁单元，涂布单元和粘合性改进单元。 第一周边角部清洁单元用于通过使用预定的溶剂去除抗蚀剂层的周边角部。 涂布单元用于通过使用含有防水材料的涂布溶液在抗蚀剂层上形成保护层。 粘合性提高单元（8）用于将粘合性改善流体供应到基板的露出表面上，以提高保护层的粘附性。

公开(公告)号：KR102115041B1

公开(公告)日：2020-05-25

申请号：KR1020140106991

申请日：2014-08-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무타고시 ,  교오다히데하루

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

公开(公告)号：KR1020150016888A

公开(公告)日：2015-02-13

申请号：KR1020140083636

申请日：2014-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  교오다히데하루 ,  무타고시 ,  야마모토타로 ,  다키구치야스시

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/30 ,  B05C5/02 ,  B05C5/0287 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B05D1/26 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/0274

Abstract: 본 발명의 과제는 노광 후의 기판에 현상 처리를 행하는 데 있어서, 기판의 면 내에 있어서의 레지스트 패턴의 선 폭의 균일성을 높게 할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
기판을 수평으로 보유 지지하는 기판 보유 지지부와, 기판에 현상액을 공급하여 액 저류부를 형성하기 위한 현상액 노즐과, 상기 액 저류부에 접촉한 상태에서 기판과 직교하는 축의 주위로 회전하는 회전 부재를 포함하고, 상기 기판에 형성된 현상액의 액 저류부에 선회류를 발생시키는 선회류 발생 기구와, 상기 선회류 발생 기구를 기판의 표면을 따라서 이동시키는 이동 기구를 구비하도록 구성한다. 이에 의해, 기판의 원하는 영역에 선회류를 형성하여, 현상액을 교반할 수 있으므로, 패턴의 선 폭의 균일성의 향상을 도모할 수 있다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够在曝光处理之后对基板进行显影处理时能够提高基板表面中的配准图形的线宽的均匀性的技术。 本发明包括：水平支撑基板的基板保持支撑部分，通过将显影液供给到基板而形成液体存储部分的显影液喷嘴，与液体存储部分接触的涡流产生单元，包括旋转部件 其围绕垂直于基板的轴旋转，并且在形成在基板上的显影液的液体存储部分中产生涡流，并且允许涡流产生单元沿着基板的表面移动的移动单元。 因此，本发明在基板的所需区域中形成涡流，以搅拌显影液体，从而提高图案的线宽度的均匀性。

公开(公告)号：KR1020110093611A

公开(公告)日：2011-08-18

申请号：KR1020110002503

申请日：2011-01-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니와다까후미 ,  나까무라히로시 ,  교오다히데하루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  G03F7/0035 ,  H01L21/67178 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20 ,  H01L2924/0002 ,  G03F1/60 ,  H01L21/0274 ,  H01L2924/00

Abstract: PURPOSE: A method for processing a substrate is provided to reduce the deviation of the line width of a resist pattern by performing double patterning by LLE(Lithography Lithography Etching). CONSTITUTION: The line width of a second resist pattern, which is formed on one substrate, is measured. The first processing requirement of a first processing is corrected based on the measured value of the line width in the second resist pattern(S24). The line width of the first resist pattern, which is formed in the one substrate, is measured. The second processing requirement of a second processing is corrected based on the measured value of the line width in a first resist pattern(S28).

Abstract translation: 目的：提供一种处理基板的方法，通过LLE（平版印刷光刻蚀刻）进行双重图案化来减少抗蚀剂图案的线宽的偏差。 构成：测量形成在一个基板上的第二抗蚀剂图案的线宽。 基于第二抗蚀剂图案中的线宽度的测量值来校正第一处理的第一处理要求（S24）。 测量在一个衬底中形成的第一抗蚀剂图案的线宽度。 基于第一抗蚀剂图案中的线宽度的测量值来校正第二处理的第二处理要求（S28）。

公开(公告)号：KR102201956B1

公开(公告)日：2021-01-11

申请号：KR1020190051360

申请日：2019-05-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  교오다히데하루 ,  무타고시 ,  야마모토다로 ,  다키구치야스시 ,  후쿠다마사히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

Abstract: 노광후의기판을기판보유지지부에수평하게보유지지하는공정과, 상기기판의표면에대향하는원형의제1 대향면을, 상기기판의중심부에근접시키는공정과, 상기기판의표면에대향하는원형의제2 대향면을, 상기기판의중심부로부터어긋남과함께당해기판의주연부보다도당해중심부근방의위치에근접시키는공정과, 상기제1 대향면에개구하는제1 토출구로부터근접하는상기기판의중심부에현상액을토출하고, 액고임을형성하는공정과, 상기기판의회전중에, 상기제1 토출구로부터상기현상액을토출하는상기제1 대향면을상기기판에근접한상태에서당해기판의일단측의주연부를향하도록이동시켜, 당해기판상에상기현상액을확장하는제1 이동공정과, 상기제2 대향면과상기회전하는기판사이에현상액이공급되어있음과함께당해제2 대향면을상기기판에근접한상태에서, 당해기판의타단측의주연부를향하도록이동시키는제2 이동공정과, 상기제1 대향면및 상기제2 대향면이상기기판의주연부에도달한후에, 당해기판으로의현상액의토출및 상기기판의회전을정지하는공정을구비하도록현상을행한다.

公开(公告)号：KR1020150021893A

公开(公告)日：2015-03-03

申请号：KR1020140106991

申请日：2014-08-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무타고시 ,  교오다히데하루

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/02057

Abstract: 본 발명의 과제는, 현상 결함의 발생을 한층 더 억제하는 것이 가능한 기판 세정 장치를 제공하는 것이다.
현상 처리 유닛(U1)은, 웨이퍼(W)를 회전시키는 회전 보유 지지부(20)와, 웨이퍼(W)의 표면(Wa)에 세정액을 토출하는 액 노즐 h2∼h5를 구비한다. 액 노즐 h2∼h5로부터 토출된 세정액이 웨이퍼(W)의 표면(Wa)에 도달한 도달 지점에 있어서, 당해 세정액의 흐름 방향은, 웨이퍼(W)의 선속도 방향을 따르는 방향으로 되도록 설정되어 있다. 웨이퍼(W)의 회전 중이며, 또한 액 노즐 h2∼h5가 웨이퍼(W)의 중앙측으로부터 주연측을 향해 이동 중, 도달 지점에 있어서의 세정액의 유속과 도달 지점에 있어서의 웨이퍼(W)의 선속도의 차가 소정의 범위 내로 되도록, 액 노즐 h2∼h5로부터 토출되는 세정액의 토출 속도가 제어된다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种用于清洁可防止显影检测的基板的装置。 显影处理单元（U1）包括：旋转晶片（W）的旋转保持部（20）。 以及用于将清洗流体发射到晶片（W）的表面（Wa）的流体喷嘴h2至h5。 洗涤液被设定为在从喷嘴h2〜h5排出的清洗液到达的到达点处，在晶片（W）的线速度方向上流动。 当晶片（W）旋转并且流体喷嘴h2至h5从晶片（W）的中心移动到圆周时，控制从流体喷嘴h2至h5发射的清洁流体的发射速度，以保持 到达点处的清洁流体的流量和在到达点处的晶片（W）的线速度在预定范围内。

公开(公告)号：KR101278414B1

公开(公告)日：2013-06-24

申请号：KR1020070012599

申请日：2007-02-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  교오다히데하루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67017 ,  G03F7/11 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: 본 발명의 과제는 액층을 이용한 노광 시에 레지스트막을 보호하는 발수성 재료로 이루어지는 도포막의 기판의 주위 모서리부로의 밀착성을 향상시키는 도포, 현상 장치를 제공하는 것이다.
기판의 표면에 박막을 형성한 피처리 기판 상에 레지스트액을 도포하는 레지스트막 형성용의 도포 유닛과, 레지스트막의 표면에 광을 투과하는 액층을 형성한 상태로 노광한 후의 레지스트막을 현상하는 현상 유닛을 구비한 도포, 현상 장치에 있어서, 레지스트막의 주위 모서리부를 용제에 의해 제거하기 위한 제1 주위 모서리부 세정 수단과, 레지스트막을 보호하기 위해 발수성 재료를 포함하는 도포액을 기판의 표면 전체에 도포하는 보호막 형성용의 도포 유닛과, 레지스트막의 주위 모서리부의 제거에 의해 노출된 기판의 노출면을 포함하는 영역에, 상기 보호막의 밀착성을 향상시키기 위한 밀착성 향상용의 유체를 공급하는 밀착성 향상 처리부를 구비하도록 도포, 현상 장치를 구성한다.
반도체 웨이퍼, 반사 방지막 형성 유닛, 레지스트 도포 유닛, 현상 유닛, 보호막 형성 유닛

Abstract translation: 公开了一种防止在浸渍曝光期间形成在抗蚀剂膜上的防水保护膜被剥离的技术。 在基板的前表面上形成抗蚀剂膜，然后除去抗蚀剂膜的周边部分。 在抗蚀剂膜上形成防水保护膜之前，为了提高防水性保护膜的粘附性，提供了粘附改善液，优选六甲基二硅氮烷气体，其中除去抗蚀膜。