公开(公告)号：KR100682216B1

公开(公告)日：2007-02-12

申请号：KR1020017015360

申请日：2000-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로세준 ,  오자와준 ,  오쿠보도모야 ,  후지다츠야

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 피처리 기판(17)을 탑재하는 스테이지(16)를 갖는 진공 처리실(14)과, 이 진공 처리실(14)을 형성하는 처리 챔버(11)의 주벽에 설치되어 상기 스테이지(16)에 대하여 피처리 기판(17)을 반입 및 반출하는 반송구(18)로 구성되며, 상기 진공 처리실(14)내에 플라즈마를 발생시켜 상기 스테이지(16)상의 피처리 기판(17)을 플라즈마 처리하는 진공 처리 장치에 있어서, 상기 진공 처리실내에서 플라즈마를 발생할 때에 상기 반송구(18)를 폐색하여 플라즈마의 혼란을 방지하는 셔터(20)가 설치된 진공 처리 장치이다.

Abstract translation: 本发明的特征在于包括：真空处理室14，其具有载置被处理基板17的载物台16和设置在构成真空处理室14的处理室11的周壁上的处理室11， 以及传送装置18，用于将基板17传送到平台16以及从平台16传送基板17.通过在真空处理室14中产生等离子体，对基板16进行真空处理以等离子体处理台架16上的基板17， 该设备是一种真空处理设备，其设置有用于关闭输送口（18）的闸门（20），以防止在真空处理室中产生等离子体时等离子体混淆。

公开(公告)号：KR1020020010681A

公开(公告)日：2002-02-04

申请号：KR1020017015360

申请日：2000-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로세준 ,  오자와준 ,  오쿠보도모야 ,  후지다츠야

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 피처리 기판(17)을 탑재하는 스테이지(16)를 갖는 진공 처리실(14)과, 이 진공 처리실(14)을 형성하는 처리 챔버(11)의 주벽에 설치되어 상기 스테이지(16)에 대하여 피처리 기판(17)을 반입 및 반출하는 반송구(18)로 구성되며, 상기 진공 처리실(14)내에 플라즈마를 발생시켜 상기 스테이지(16)상의 피처리 기판(17)을 플라즈마 처리하는 진공 처리 장치에 있어서, 상기 진공 처리실내에서 플라즈마를 발생할 때에 상기 반송구(18)를 폐색하여 플라즈마의 혼란을 방지하는 셔터(20)가 설치된 진공 처리 장치이다.