公开(公告)号：KR100469047B1

公开(公告)日：2005-01-31

申请号：KR1019997009083

申请日：1998-04-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오카야마노부유키 ,  사에구사히데히토 ,  오자와준 ,  하야시다이스케 ,  다카야마나오키 ,  가자마고이치

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/455 ,  C23C16/5096 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32477 ,  Y10T29/49002 ,  Y10T29/49117 ,  Y10T29/532 ,  Y10T29/53204

Abstract: 본 발명은, 가스토출구멍에 착탈 및 위치결정이 용이하고 내플라즈마성이 우수한 절연부재를 끼워 장착한 처리장치를 제공한다.
본 발명에 있어서, 에칭장치(100)의 상부전극(128)에 배치된 가스토출구멍(128a)은 절연부재(144)의 외형형상에 대응한 형상으로 형성된다. 절연부재(144)는 폴리에테르에테르케톤이나 폴리이미드나 폴리에테르이미드로 이루어지고, 그 외부 표면에 단부(144a)가 형성된다. 절연부재(144)의 긴 쪽 방향의 길이는 가스토출구멍(128a)의 긴 쪽 방향의 길이보다 짧게 형성된다. 절연부재(144) 내에는 그 긴 쪽 방향을 따라 관통구멍(144d)이 설치됨과 더불어, 관통구멍(144d)의 처리실(102) 측 개구부 부근이 처리실(102) 측으로 향하여 직경이 확대되는 거의 테이퍼모양으로 형성된다. 절연부재(144)를 가스토출구멍(128a) 내에 가스토출구멍(128a)의 취출구 측으로부터 삽입하고, 단부(144a)와 가스토출구멍(128a) 내벽에 형성된 견부(128b)가 맞추어지도록 절연부재(144)를 밀어 넣고 끼워 장착시킨다. 이 때, 절연부재(144)는 상부전극의 서셉터(110) 측의 면보다도 돌출하여 배치된다.

Abstract translation: 处理系统设置有能够容易地装配在气体排放孔中，并且能够容易地定位在气体排放孔中的绝缘构件。 蚀刻系统（100）设置有设置有与绝缘构件（144）的外部形状对应的形状的气体排出孔（128a）的上电极（128）。 绝缘部件（144）由聚醚醚酮树脂，聚酰亚胺树脂，聚醚酰亚胺树脂等形成。 每个绝缘构件144在其外表面上设有台阶（144a）。 绝缘部件（144）的长度比气体排出孔（128a）的长度短。 在各绝缘部件144上设有纵长的贯通孔144d，处理室102侧的贯通孔144d的端部形成为向处理室102侧扩大的锥状， ）。 绝缘部件144从气体排出孔128a的出口端侧被压入气体排出孔128a中，以使台阶144a与形成在其中的肩部128b接触。 排气孔（128a）的侧壁。 装配在气体排出孔128a中的每个绝缘构件144的一部分从上电极128的面对基座110的表面突出。 ＆lt;图像＆GT;

公开(公告)号：KR101321612B1

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：KR1020100073561

申请日：2010-07-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오자와준 ,  구마사카하지메

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/68 ,  H01L21/6734 ,  H01L21/682 ,  H01L21/683

Abstract: 본 발명은 기판의 위치맞춤을 실행하는 용기내에 있어서의 기판 위치맞춤을 위한 스페이스를 극력 작게 할 수 있는 기판 위치맞춤 기구를 제공한다. 기판(G)을 수용하는 용기(81)내에서 기판 지지부(96, 97, 98)에 지지된 기판(G)의 위치맞춤을 실행하는 기판 위치맞춤 기구(86)는 회전운동해서 용기(81)내의 기판(G)의 변에 접촉하는 위치맞춤 부재(132)를 갖는다.

公开(公告)号：KR100809126B1

公开(公告)日：2008-03-03

申请号：KR1020060112076

申请日：2006-11-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오자와준 ,  다카하시가쿠

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67207 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67063 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67201

Abstract: 본 발명은 복수의 프로세스를 효율적으로 실행할 수 있는 피처리체 처리 장치에 관한 것이다. 복수의 처리 시스템은 종렬로 함께 연통가능하게 연결되고, 이 시스템에서 피처리체가 처리된다. 로드 로크 시스템은 처리 시스템에 연통가능하게 연결되고 피처리체를 각각의 처리 시스템 사이에서 반입 반출하는 반송 기구를 갖는다. 적어도 하나의 처리 시스템은 진공 처리 시스템이고, 로드 로크 시스템은 처리 시스템과 종렬을 이루는 위치에 배치된다.

公开(公告)号：KR1020060125661A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：KR1020060112076

申请日：2006-11-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오자와준 ,  다카하시가쿠

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67207 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67063 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67201

Abstract: An apparatus for processing a processed object is provided to reduce complexity of a processed object conveying operation and to improve efficiency of a processing operation by communicating with processing rooms having at least one vacuum processing room. A processed object processing apparatus processes a processed object. A first processing room(10) and a second processing room(30) are arranged to be adjacent thereto and capable of being communicated therewith. The second processing room is a vacuum processing room. The first and second processing rooms process the processed object. A load lock room(50) is capable of being communicated with the second processing room and adjacent thereto. The load lock room includes a conveying are for loading and unloading the processed object to/from the first and second processing rooms, and a processed object maintaining unit. The load lock room is arranged in a tandem type together with the first and second processing rooms.

Abstract translation: 提供了一种用于处理被处理物体的装置，以减少加工对象传送操作的复杂性，并且通过与具有至少一个真空处理室的处理室通信来提高处理操作的效率。 处理对象处理装置处理被处理对象。 第一处理室（10）和第二处理室（30）被布置成与其相邻并能够与之连通。 第二处理室是真空处理室。 第一和第二处理室处理被处理物体。 负载锁定室（50）能够与第二处理室连通并与其相邻。 负载锁定室包括用于将经处理的物体装载到第一和第二处理室的处理物体的处理物体保持单元的输送装置。 负载锁定室与第一和第二处理室一起排列成串联式。

公开(公告)号：KR1020050001299A

公开(公告)日：2005-01-06

申请号：KR1020040032933

申请日：2004-05-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오자와준 ,  다카하시가쿠

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67207 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67063 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67201

Abstract: PURPOSE: An apparatus for processing an object to be processed is provided to simplify an operation of carrying an object to be processed between process systems and efficiently perform a plurality of treatments including at least one vacuum treatment by interconnecting a plurality of process systems for processing the object to be processed wherein at least one of the process systems is a vacuum process system. CONSTITUTION: A plurality of process systems process an object to be processed, connected in columns and communicating with each other. A loadlock system includes a carrier unit for carrying in/out the object to be processed between the respective process systems, connected to the process system. At least one of the process systems is a vacuum process system. The loadlock system is disposed in a position in column with the process system.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理被处理物体的装置，以简化在处理系统之间携带待处理对象的操作，并通过互连多个处理系统来有效地执行多个包括至少一个真空处理的处理 其中至少一个处理系统是真空处理系统。 构成：多个处理系统处理要处理的对象，以列连接并彼此通信。 负载锁系统包括用于在连接到处理系统的各个处理系统之间输入/输出待处理对象的载体单元。 至少一个过程系统是真空处理系统。 负载锁系统与处理系统一起设置在列中。

公开(公告)号：KR1020010081006A

公开(公告)日：2001-08-25

申请号：KR1020017006069

申请日：1999-11-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오자와준 ,  히로세준 ,  나루시마마사키

IPC: H01L21/00

Abstract: 본 발명의 진공 처리 유닛은 피처리체가 세트되는 로드 포트와, 로드 포트에 인접하여 설치됨과 동시에, 대기압으로 설정된 내부 공간을 구비하고, 로드 포트에 대하여 피처리체를 반출입하는 이동 가능한 제 1 반송 장치를 상기 내부 공간에 갖는 공통 반송실과, 피처리체에 대하여 소정의 처리를 실시하기 위한 하나의 처리실과, 처리실에 접속되고 또한 진공압으로 설정되는 내부 공간을 갖고 또한 처리실에 대하여 피처리체를 반출입하는 제 2 반송 장치를 상기 내부 공간내에 갖는 진공 반송실을 구비한 처리 유닛을 포함하고, 공통 반송실에는 복수의 처리 유닛이 개별로 또한 서로 대략 평행하게 접속되고, 각 처리 유닛은 그 진공 반송실이 공통 반송실에 접속됨과 동시에, 공통 반송실에 대하여 대략 직교하는 방향으로 직선적으로 연장하고, 제 1 � ��송 장치를 거쳐서 진공 반송실에 대하여 피처리체가 반출입되는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1020010041677A

公开(公告)日：2001-05-25

申请号：KR1020007009890

申请日：1999-03-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스기야마노리카즈 ,  오카야마노부유키 ,  사에구사히데히토 ,  오자와준

IPC: H01L21/3063

Abstract: 본 발명은 기밀한 처리 용기(102)와, 처리 용기(102)내의 가스를 배기하는 배기계(128)와, 대상물에 대하여 소정의 처리가 실시되는 처리 공간(122)과 배기계(128)에 연통하는 배기 경로(124)에 처리 용기(102)내를 구획하는 배플판(120)을 구비한 처리 장치(100)에 있어서, 배플판(120)에는 처리 공간(122)과 배기 경로(124)를 연통시키는 복수의 슬릿(120a)이 형성되고, 각 슬릿(120a)의 처리 공간측의 내면 부위에는 슬릿의 깊이의 1/4 이상에 걸쳐서 테이퍼 면(132)이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR100736959B1

公开(公告)日：2007-07-09

申请号：KR1020040032933

申请日：2004-05-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오자와준 ,  다카하시가쿠

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67207 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67063 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67201

Abstract: A processed object processing apparatus which enables a plurality of processes to be carried out efficiently. A plurality of treatment systems are communicably connected together in a line and in which the objects to be processed are processed. A load lock system is communicably connected to the treatment systems and has a transfer mechanism that transfers the objects to be processed into and out of each of the treatment systems. At least one of the treatment systems is a vacuum treatment system, and the load lock system is disposed in a position such as to form a line with the treatment systems.

公开(公告)号：KR1020060088909A

公开(公告)日：2006-08-07

申请号：KR1020067014534

申请日：1999-11-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오자와준 ,  히로세준 ,  나루시마마사키

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67161 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67745 ,  Y10S414/139 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/68707

Abstract: A vacuum processing system characterized by comprising a load port in which an object to be processed is set; a common conveyance chamber disposed adjacent the load port and having an internal space set to atmospheric pressure, and a first movable conveyor disposed in the internal space and capable of carrying the object into and out of the load port; a processing unit having one processing chamber for applying a predetermined treatment to the object, and a vacuum conveyance chamber having an internal space connected to the processing chamber and set to atmospheric pressure, and having a second movable conveyor disposed in the internal space for carrying the object into and out of the processing chamber, the common conveyance chamber having a plurality of processing units connected individually and mutually substantially parallelly, the processing units having their vacuum conveyance chambers connected to the common conveyance chamber and linearly extending substantially orthogonally to the common conveyance chamber, the object to be processed being carried into and out of the vacuum conveyance chamber through the first conveyor.

Abstract translation: 一种真空处理系统，其特征在于包括设置有待加工物体的装载口; 设置在所述负载端口附近并具有设定为大气压的内部空间的公共运送室，以及设置在所述内部空间中并且能够将所述物体搬入和卸出所述负载口的第一可移动输送器; 处理单元，其具有用于对物体施加预定处理的一个处理室;以及真空输送室，具有连接到处理室并设定为大气压的内部空间，并且具有设置在内部空间中的第二可移动输送器，用于承载 物体进出处理室，公共输送室具有单独并相互大致平行连接的多个处理单元，处理单元具有连接到公共输送室的真空输送室，并且与公共输送室基本正交地直线地延伸 被处理物体通过第一输送机被输送到真空输送室内。

公开(公告)号：KR100536313B1

公开(公告)日：2005-12-12

申请号：KR1020007009890

申请日：1999-03-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스기야마노리카즈 ,  오카야마노부유키 ,  사에구사히데히토 ,  오자와준

IPC: H01L21/3063

Abstract: 본 발명은 기밀한 처리 용기(102)와, 처리 용기(102)내의 가스를 배기하는 배기계(128)와, 대상물에 대하여 소정의 처리가 실시되는 처리 공간(122)과 배기계(128)에 연통하는 배기 경로(124)에 처리 용기(102)내를 구획하는 배플판(120)을 구비한 처리 장치(100)에 있어서, 배플판(120)에는 처리 공간(122)과 배기 경로(124)를 연통시키는 복수의 슬릿(120a)이 형성되고, 각 슬릿(120a)의 처리 공간측의 내면 부위에는 슬릿의 깊이의 1/4 이상에 걸쳐서 테이퍼 면(132)이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.