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公开(公告)号：KR1020160025550A
公开(公告)日：2016-03-08
申请号：KR1020160021175
申请日：2016-02-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/02057 , H01L21/67028 , H01L21/67051
Abstract: 본발명은린스액을건조할때, 피처리기판의볼록형부가도괴되는것을방지하는것이가능한액처리방법, 액처리장치및 기억매체를제공하는것을목적으로한다. 기판본체부(W)와, 기판본체부(W)에돌출된복수의볼록형부(W)를가지며, 기판본체부(W) 위에있어서볼록형부(W)의사이에하지면(W)이형성된피처리기판(W)에대하여표면처리를행함으로써, 피처리기판(W)의하지면(W)이친수화되고, 볼록형부(W)의표면이발수화된상태가되도록한다. 다음에, 표면처리된피처리기판(W)에대하여린스액을공급한다. 그후, 피처리기판(W)으로부터린스액을제거한다.
Abstract translation: 本发明的目的是提供一种液体处理方法，液体处理装置和记录介质，其可以防止冲洗液体干燥时处理过的基材的块状部分被折叠。 液体处理装置具有从基板主体部（W_i）突出的基板主体部（W_i）和多个块状部（W_m），并且使处理基板（W_f）的下平面（W_f）亲水化 ）和通过对块型部分（W_m）之间形成下平面（W_f）的处理基板进行表面处理，来获得块型部分（W_m）的表面的防水状态。 接下来，将冲洗液供给到表面被处理的处理基板（W）。 然后，从经处理的基材（W）中除去漂洗液。
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公开(公告)号：KR101668212B1
公开(公告)日：2016-10-20
申请号：KR1020160021175
申请日：2016-02-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/02057 , H01L21/67028 , H01L21/67051
Abstract: 본발명은린스액을건조할때, 피처리기판의볼록형부가도괴되는것을방지하는것이가능한액처리방법, 액처리장치및 기억매체를제공하는것을목적으로한다. 기판본체부(W)와, 기판본체부(W)에돌출된복수의볼록형부(W)를가지며, 기판본체부(W) 위에있어서볼록형부(W)의사이에하지면(W)이형성된피처리기판(W)에대하여표면처리를행함으로써, 피처리기판(W)의하지면(W)이친수화되고, 볼록형부(W)의표면이발수화된상태가되도록한다. 다음에, 표면처리된피처리기판(W)에대하여린스액을공급한다. 그후, 피처리기판(W)으로부터린스액을제거한다.
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公开(公告)号：KR1020140020348A
公开(公告)日：2014-02-18
申请号：KR1020140012961
申请日：2014-02-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/68792
Abstract: The present invention can prevent the collapse of a convex form unit when an object to be treated, on which an inorganic layer and a metal layer are laminated, is treated. A liquid processing device comprising a body unit (Wi) and a plurality of convex form units (Wm) formed on the body unit (Wi) treats an object (W) to be treated, on which inorganic layer and metal layer are laminated. The liquid processing device comprises: a support unit (50) supporting the body unit (Wi) of an object (W) to be treated; a hydrophobized liquid proving device (30) providing hydrophobized liquid for the object (W) to be treated supported by the supporter (50); and a rinse liquid proving unit (22) providing rinse liquid for the object (W) to be treated in which hydrophobized liquid is provided by the hydrophobized liquid proving device (30). The the hydrophobized liquid proving device (30) comprises: a first hydrophobized liquid proving unit (32) providing a first hydrophobized liquid for the object (W) to be treated to hydrophobize the inorganic layer and a second hydrophobized liquid providing unit (37) providing a second hydrophobized liquid for the object (W) to be treated to hydrophobize the metal layer.
Abstract translation: 本发明能够防止在层叠有无机层和金属层的待处理物体时，凸形单元的塌陷。 包括主体单元（Wi）和形成在主体单元（Wi）上的多个凸形单元（Wm））的液体处理装置处理层叠了无机层和金属层的被处理物体（W）。 液体处理装置包括：支撑单元（50），其支撑待处理物体（W）的主体单元（Wi）; 疏水化液体检测装置（30），用于为由待支撑物（50）支撑的待处理物体（W）提供疏水化液体; 以及冲洗液体检测单元（22），用于为被处理物体（W）提供漂洗液体，其中疏水化液体检测装置（30）提供疏水化液体。 疏水化液体检测装置（30）包括：第一疏水化液体检测单元（32），为待处理物体（W）提供第一疏水化液体以使无机层疏水化;以及第二疏水化液体提供单元（37），提供 用于待处理物体（W）的第二疏水化液体使金属层疏水化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020120071310A
公开(公告)日：2012-07-02
申请号：KR1020110104043
申请日：2011-10-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/02057 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/02052 , H01L21/02046
Abstract: PURPOSE: A liquid processing method, a liquid processing apparatus, and a recording medium are provided to prevent a convex part from being collapsed by preventing a part on which a rinse liquid is dried and a part on which rinse liquid is wet from being mixed on a surface of a processed substrate. CONSTITUTION: A processed substrate(W) is supported by a supporting part of a substrate supporting device(50). A chemical solution supply device(20) supplies a chemical solution to the processed substrate supported by the substrate supporting device. The chemical solution supply device includes a chemical solution supply part(21), a chemical solution supply tube(22), and a chemical solution nozzle(23). The chemical solution nozzle discharges the chemical solution from the chemical solution supply tube to the processed substrate. A rinse liquid supply device(25) supplies a rinse liquid to the processed substrate. A substitution accelerating liquid supply device(30) supplies a substitution accelerating liquid to the processed substrate.
Abstract translation: 目的：提供液体处理方法，液体处理装置和记录介质，以防止将冲洗液干燥的部分和漂洗液体的湿部分混合在一起而使其折叠 处理基板的表面。 构成：经处理的基板（W）由基板支撑装置（50）的支撑部支撑。 化学溶液供给装置（20）向由所述基板支撑装置支撑的被处理基板供给化学溶液。 化学溶液供给装置包括化学溶液供给部（21），化学溶液供给管（22）和化学溶液喷嘴（23）。 化学溶液喷嘴将化学溶液从化学溶液供应管排出到处理过的基板。 冲洗液体供应装置（25）将冲洗液体提供给经处理的基板。 置换加速液体供给装置（30）向加工后的基板供给替代加速液。
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公开(公告)号：KR101464614B1
公开(公告)日：2014-11-24
申请号：KR1020140012961
申请日：2014-02-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/68792
Abstract: 무기막과 금속막이 적층된 피처리체를 처리하는 경우에 볼록 형상부가 도괴되는 것을 방지한다. 액처리 장치는, 본체부(W
i )와, 본체부(W
i )에 형성된 복수의 볼록 형상부(W
m )를 가지고, 무기막과 금속막이 적층된 피처리체(W)를 처리한다. 액처리 장치는, 피처리체(W)의 본체부(W
i )를 지지하는 지지부(50)와, 지지부(50)에 의해 지지된 피처리체(W)로 소수화액을 공급하는 소수화액 공급 기구(30)와, 소수화액 공급 기구(30)에 의해 소수화액이 공급된 후의 피처리체(W)로 린스액을 공급하는 린스액 공급부(22)를 구비하고 있다. 소수화액 공급 기구(30)는, 무기막을 소수화시키기 위한 제 1 소수화액을 피처리체(W)로 공급하는 제 1 소수화액 공급부(32)와, 금속막을 소수화시키기 위한 제 2 소수화액을 피처리체(W)로 공급하는 제 2 소수화액 공급부(37)를 가지고 있다.Abstract translation: 为了防止在处理金属层叠膜和无机膜处理对象的情况下，凸部坍塌。 液体处理装置包括主体W
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公开(公告)号：KR101421494B1
公开(公告)日：2014-07-22
申请号：KR1020100059039
申请日：2010-06-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304 , C23F4/00 , H01L21/306 , H01L21/308
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/68792
Abstract: 무기막과 당해 무기막과 성질이 다른 이질막(금속막 또는 유기막 등)이 적층된 피처리체를 처리하는 경우에 볼록 형상부가 도괴되는 것을 방지한다. 액처리 장치는, 본체부(W
i )와, 본체부(W
i )에 형성된 복수의 볼록 형상부(W
m )를 가지고, 무기막과 당해 무기막과 성질이 다른 이질막이 적층된 피처리체(W)를 처리한다. 액처리 장치는, 피처리체(W)의 본체부(W
i )를 지지하는 지지부(50)와, 지지부(50)에 의해 지지된 피처리체(W)로 소수화액을 공급하는 소수화액 공급 기구(30)와, 소수화액 공급 기구(30)에 의해 소수화액이 공급된 후의 피처리체(W)로 린스액을 공급하는 린스액 공급부(22)를 구비하고 있다. 소수화액 공급 기구(30)는, 무기막을 소수화시키기 위한 제 1 소수화액을 피처리체(W)로 공급하는 제 1 소수화액 공급부(32)와, 이질막을 소수화시키기 위한 제 2 소수화액을 피처리체(W)로 공급하는 제 2 소수화액 공급부(37)를 가지고 있다.-
公开(公告)号：KR1020170113174A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020170035965
申请日：2017-03-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/02052 , B08B3/02 , B08B3/041 , B08B3/08 , C23F1/02 , C23F1/08 , C23F1/16 , C23F1/32 , H01L21/02087 , H01L21/67051 , H01L21/67253 , H01L21/68764 , H01L22/12 , H01L22/20
Abstract: 본발명은막의특성의차이에따르는제거폭의변동을저감하는것이가능한기판처리장치등을제공하는것을목적으로한다. 기판(W)의둘레가장자리부에처리액을공급하여막을제거하는기판처리장치(16)에있어서, 기판(W)의직경방향으로이동가능한토출부(411)는, 기판유지부(31)에유지되어회전하는기판(W)의둘레가장자리부에처리액을토출한다. 토출위치설정부(18)는, 레시피에포함되는막의제거폭에대응시켜토출부(411)로부터의처리액의토출위치를설정하고, 특성정보취득부(7)는, 제거되어야할 막의특성정보를취득한다. 보정량취득부(18)는, 막의특성정보에따라, 처리액의토출위치를보정하는보정량을취득하고, 토출위치보정부(18)는, 보정량취득부(18)에의해취득된보정량에기초하여, 토출부(411)에의한처리액의토출위치를보정한다.
Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种能够减小取决于膜特性差异的去除宽度的变化的基板处理装置等。 在基板保持部31上设置有在基板处理装置16的基板W的半径方向上移动并通过向基板W的周缘供给处理液来除去膜的喷出部411 并且将处理液排出到被保持并旋转的基板W的周围。 排出位置设定部18根据包含在配方中的膜的去除宽度来设定来自排出部411的处理液的排出位置，特性信息取得部7取得要去除的膜的特性信息 它得到。 校正量获取单元18，根据膜特性，从而获得一校正量用于校正处理液和喷射位置校正部18的放电位置时，基于由所述校正量获取单元18获得的校正量 并通过排出部411修正处理液的排出位置。
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公开(公告)号：KR1020110000504A
公开(公告)日：2011-01-03
申请号：KR1020100059039
申请日：2010-06-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304 , C23F4/00 , H01L21/306 , H01L21/308
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/68792
Abstract: PURPOSE: A liquid processing device, a liquid processing method thereof, and a storage media thereof are provided to prevent the collapse of a convex part by controlling the surface tension between heterogeneous membranes and between a heterogeneous membrane and an inorganic film. CONSTITUTION: A support part supports the main body part of an object(W). A liquid supply device(10) supplies a liquid solution to the object. A hydrophobic liquid supply device(30) supplies a hydrophobic liquid to the object. A rinse fluid supply part(22) supplies a rinse liquid to the object. A substitution liquid supply part(27) supplies a substitution liquid to the object.
Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置及其液体处理方法及其存储介质，以通过控制非均相膜之间和非均相膜与无机膜之间的表面张力来防止凸部的塌陷。 构成：支撑部件支撑物体（W）的主体部分。 液体供给装置（10）将液体溶液供给到物体。 疏水性液体供给装置（30）向物体供给疏水性液体。 冲洗液供给部件（22）向冲洗液供给冲洗液。 替代液体供应部件（27）向物体供应置换液体。
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