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公开(公告)号:KR100260120B1
公开(公告)日:2000-07-01
申请号:KR1019940025028
申请日:1994-09-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론도오호쿠가부시끼가이샤
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01L21/67109 , C23C16/455 , C23C16/54 , H01L21/67778
Abstract: 본 발명의 열처리 장치는, 그 가장자리부의 일부에 오리엔테이션 플레이트부를 가지는 원반형의 다수개의 피처리체를, 그 오리엔테이션 플레이트부를 정렬시킨 상태에서 축 방향으로 소정의 간격으로 적층 수용하는 유지체와, 다수개의 가스 유통구를 가지며, 유지체에 유지된 다수개의 피처리체의 층 전체 둘레를 피처리체의층과 소정의 간격을 두고 덮은 통 모양의 커버체와, 커버체의 내벽면에 설치되고, 유지체에 유지된 피처리체에 대하여 처리 가스에 의해 소정의 처리를 실시한 처리실을 구비하고 있다.
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公开(公告)号:KR1019950009912A
公开(公告)日:1995-04-26
申请号:KR1019940025028
申请日:1994-09-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론도오호쿠가부시끼가이샤
IPC: H01L21/205
Abstract: 본 발명의 열처리 장치는, 그 가장자리부의 일부에 오리엔테이션 플라이트 부를 가지는 원반형의 다수개의 피처리체를, 그 오레인테이션 플라이트부를 정렬시킨 상태에서 축 방향으로 소정의 간격으로 적층 수용하는 유지체와, 다수개의 가스 유통구를 가지며, 유지체에 유지된 다수개의 피처리체의 층 전체 둘레를 피처리체의 층과 소정의 간격을 두고 덮은 통 모양의 커버체와, 커버체의 내벽면에 설치되고, 유지체의 유지된 피처리체에 대하여 처리 가스에 의해 소정의 처리를 실시하는 처리실을 구비하고 있다.
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