Abstract:
반도체 웨이퍼의 세정시스템은, 처리배설을 가지는 약액세정부를 구비한다. 처리베셀내에는 50매의 웨이퍼를 한번에 유지하기 위한 홀더가 설치된다. 홀더에는 웨이퍼의 주연부를 수용하는 50개의 홈이 형성된다. 50개의 웨이퍼는 한쌍의 개폐아암을 구비하는 척에 의하여 일괄하여 홀더에 대하여 접수된다. 각 아암에는 웨이퍼의 가장자리부를 수용하는 50개의 홈이 형성된다. 웨이퍼를 접수하기 위한 상대위치 기준으로 부터 척과 홀더와의 상대위치의 어긋남을 수정하기 위하여 양 끝단부에 촬상부를 구비한다. 각 촬상부는 척의 홈과 이것에 대응하는 홈을 동시에 촬상한다. 촬상된 양홈은 모니터상의 동일좌표내에 중첩되어 표시된다. 촬상된 양홈의 상의 어긋남을 수정하도록 척과 홀더를 상대적으로 움직이고, 상대위치기준으로 부터 현상대위치의 어긋남을 수정한다.
Abstract:
반도체 웨이퍼의 세정시스템은, 처리베셀을 가지는 약액세정부를 구비한다. 처리베셀내에는 50매의 웨이퍼를 한번에 유지하기 위한 홀더가 설치된다. 홀더에는 웨이퍼의 주연부를 수용하는 50개의 홈이 형성된다. 50개의 웨이퍼는 한 쌍의 개폐아암을 구비하는 척에 의하여 일괄하여 홀더에 대하여 접수된다. 각 아암에는 웨이퍼의 가장자리부를 수용하는 50개의 홈이 형성된다. 웨이퍼를 접수하기 위한 상대위치 기준으로부터 척과 홀더와의 상대 위치의 어긋남을 수정하기 위하여 양 끝 단부에 촬상부를 구비한다. 각 촬상부는 척의 홈과 이것에 대응하는 홈을 동시에 촬상한다. 촬상된 양홈은 모니터상의 동일좌표내에 중첩되어 표시된다. 촬상된 양홈의 상의 어긋남을 수정하도록 척과 홀더를 상대적으로 움직이고, 상대 위치기준으로부터 현상대위치의 어긋남을 수정한다.