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公开(公告)号:KR1019940006202A
公开(公告)日:1994-03-23
申请号:KR1019930006453
申请日:1993-04-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명의 스핀 드라이어는 복수의 웨이퍼를 둘러쌓인 케이싱체와, 케이싱체 중에서 복수의 웨이퍼를 유지하여 모우터에 의하여 회전되는 로터와, 로터의 회전축에 대하여 웨이퍼면이 실질적으로 직교하도록 또한 면 대 면의 자세로 되도록 웨이퍼의 각각을 유지하는 상하클램프바를 가진다. 하클램프바는 회전축부재의 각각에 연결고정 되어있고, 기판세트시에 기판하부를 유지하는 것이며, 상크램프는 한편의 회전축부재에 대하여 기도가능하게 축고정된 그 기초부와, 전도상태인때에 다른쪽의 회전축 부재에 계합로크 되도록한 선단부를 가진다. 상크램프바를 미끄럼운퐁 시키는 미끄럼 운동기구와, 상 크램프바의 선단부를 다른쪽의 회전축 부재에 계합하는 로크기구와, 상클램프바의 선단부를 다른쪽의 회전축 부재로부터 해제하는 언로크기구를 가진다.
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公开(公告)号:KR1019930020597A
公开(公告)日:1993-10-20
申请号:KR1019930003345
申请日:1993-03-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 세정장치는, 반도체 웨이퍼를 약액으로 세정하고, 물로 씻고, 건조하는 웨이퍼 세정처리부와, 웨이퍼 수납용의 카세트를 물로 씻고, 건조하는 카세트 세정처리부와, 카세트로부터 웨이퍼를 꺼내고, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부에 로드하는 로더부와, 카세트 웨이퍼를 수용하고, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부로부터 언로드하는 언로드부와, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부내에서 반송하는 웨이퍼 반송기구와, 카세트를 로더부로부터 카세트 세정처리부에 반송하는 카세트 리프트와, 카세트 카세트 세정 처리부내에서 반송하는 와이어 구동기구를 가진다.
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公开(公告)号:KR100306087B1
公开(公告)日:2001-11-30
申请号:KR1019930030041
申请日:1993-12-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판 세정 장치는, 여러 개의 기판을 세정하기 위한 세정액이 수용된 세정탱크와, 이 세정탱크내에 여러 개의 기판을 서로 평행하게 유지하는 보호유지부와, 세정탱크의 바닥부에 형성한 액공급구와, 이 액공급구에 연결되어 액공급구를 통하여 세정탱크내에 세정액을 공급하는 액공급 시스템과, 보호유지부에 유지된 여러 개의 기판과 상기 액공급구와의 사이에 설치되고, 세정액을 유통시키기 위한 여러 개의 정류구멍을 가지는 정류판을 가진다. 이들 여러 개의 정류구멍은 기판의 배열을 따라서 직렬로 나란한 여러 개의 열(列)을 형성하고, 각 열의 구멍은 기판에 대하여 하나씩 걸러서 위치하며, 또, 그 인접한 구멍과는 위치가 어긋나도록 배열되어 있다.
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公开(公告)号:KR100248564B1
公开(公告)日:2000-03-15
申请号:KR1019930005826
申请日:1993-04-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67034 , F26B5/08
Abstract: 본 발명인 스핀 드라이어는 여러 개의 웨이퍼를 둘러싸는 광체와, 광체 가운데 여러 개의 웨이퍼를 회전시키는 모터와, 회전수단인 회전축에 대하여 웨이퍼의 면이 실질적으로 직교하여 서로 마주보는 자세가 되도록 웨이퍼 각각을 유지하는 상하 클램프바와, 광체 내에 청정공기 기류를 발생시키는 가스 도입기구 및 가스 배기기구를 갖는다. 광체는 가스도입 기구 및 가스 배기기구가스에 의해 발생되는 가스기류의 흐름방향에 직교하는 광체의 단면적이 가스 기류의 하류측에 가도록 점점 작아지게 형성되어 있다.
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公开(公告)号:KR100170421B1
公开(公告)日:1999-03-30
申请号:KR1019930006453
申请日:1993-04-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명의 스핀 드라이어는 복수의 웨이퍼를 둘러 쌓인 케이싱체와, 케이싱체 중에서 복수의 웨이퍼를 유지하여 모우터에 의하여 회전되는 로터와, 로터의 회전축에 대하여 웨이퍼면이 실질적으로 직교하도록 또한 면 대 면의 자세로 되도록 웨이퍼의 각각을 유지하는 상하클램프바를 가진다. 하클램프바는 회전축부재의 각각에 연결고정 되어 있고, 기판세트시에 기판하부를 유지하는 것이며, 상클램프는 한편의 회전축부재에 대하여 기도가능하게 축고정된 그 기초부와, 전도상태인 때에 다른 쪽의 회전축 부재에 계합로크 되도록 한 선단부를 가진다. 상클램프바를 미끄럼운동 시키는 미끄럼 운동기구와, 상 클램프바의 선단부를 다른쪽의 회전축부재에 계합하는 로크기구와, 상클램프바의 선단부를 다른쪽의 회전축 부재로부터 해제하는 언로크기구를 가진다.
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公开(公告)号:KR1019990066686A
公开(公告)日:1999-08-16
申请号:KR1019980017968
申请日:1998-05-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 세정처리장치는, 하부에 세정액의 액공급구를 가지는 세정탱크와, 이 세정탱크내에 수용되어 세정액중에 침적되는 피처리체와 상기 액공급구 사이에 배치되는 정류수단을 구비하며, 상기 정류수단은, 상기 세정탱크를 상하로 구획하기 위해 수평으로 배치됨과 동시에 복수의 세정액의 정류구멍을 형성한 정류판과, 상기 액공급구의 상부에 위치하는 분산판으로 구성하고, 상기 정류판으로부터 아래로 향하여 늘어뜨린 세정액의 저류벽을 형성하며, 상기 분산판의 가장자리부로부터 아래로 향하여 늘어뜨린 세정액의 저류벽을 형성함과 동시에 분산판에 세정액의 분산구멍을 형성하여 이루어진다.
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公开(公告)号:KR1019990066687A
公开(公告)日:1999-08-16
申请号:KR1019980017969
申请日:1998-05-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판 세정 장치는, 바닥부에 세정액을 도입하는 액공급구를 가지고 세정할 피처리체를 수용하는 세정탱크와, 상기 세정탱크의 바닥부로부터 이격시켜 설치함과 동시에 상기 세정액이 통과하는 다수의 정류구멍을 가지며, 상기 액공급구로부터 도입된 세정액을 정류하면서 상기 피처리체쪽으로 흐르게 하는 정류판을 구비하며, 상기 세정탱크의 바닥부의 양쪽은, 비스듬하게 경사진 바닥 경사부를 가지고, 상기 정류판은 상기 바닥부의 중심부에 대응하여 수평으로 이루어진 수평정류부와, 이 수평정류부의 양측에 형성되어 상기 바닥 경사부에 대응하여 비스듬하게 경사진 경사정류부를 가지고, 상기 액공급구의 상부에는, 상기 액공급구로부터 도입되는 상기 세정액을 상기 정류판 하부의 전면을 향하여 분산시키는 분산판이 설치되어 있다.
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公开(公告)号:KR100163361B1
公开(公告)日:1999-02-01
申请号:KR1019930003345
申请日:1993-03-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 세정장치는, 반도체 웨이퍼를 약액으로 세정하고, 물로 씻고, 건조하는 웨이퍼 세정처리부와, 웨이퍼 수납용의 카세트를 물로 씻고, 건조하는 카세트 세정처리부와, 카세트로부터 웨이퍼를 꺼내고, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부에 로드하는 로더부와, 카세트에 웨이퍼를 수용하고, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부로부터 언로드하는 언로더부와, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부내에서 반송하는 웨이퍼 반송기구와, 카세트를 로더부로부터 카세트 세정처리부에 반송하는 카세트 리프터와, 카세트를 카세트 세정처리부내에서 와이어 구동기구를 가진다.
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公开(公告)号:KR1019940016548A
公开(公告)日:1994-07-23
申请号:KR1019930030041
申请日:1993-12-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판 세정 장치는, 여러개의 기판을 세정하기 위한 세정액이 수용된 처리탱크와, 이 처리탱크내에 여러개의 기판을 서로 평행하게 유지하는 보트와, 처리탱크의 저부에 뚫린 액공급구와, 이 액공급구에 통하게 되어 액공급구를 통하여 처리탱크내에 세정액을 공급하는 액공급 시스템과, 보트에 유지된 여러개의 기판과 상기 액공급구와의 사이에 설치되고, 세정액을 통류시키기 위한 여러개의 구멍을 가지는 정류판을 가진다. 이들 여러개의 구멍은 기판의 배열을 따라서 직렬로 나란한 여러개의 열(列)을 형성하고, 각 열의 구멍은 기판에 대하여 1개 걸러서 위치하며, 또, 그 옆열의 구멍과 위치가 어긋나도록 배열되어 있다.
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公开(公告)号:KR100490508B1
公开(公告)日:2005-08-04
申请号:KR1019970019236
申请日:1997-05-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 원심분리에 의해 복수의 기판으로부터 부착액을 제거하는 스핀 드라이어는 주축을 하부에 구비하고 있는 회전체와, 이 회전체의 주축에 대향해서 기판의 면이 직교하도록 복수의 기판을 지지하고, 또한 상기 회전체의 주축에 대칭으로 설치된 회전체와 함께 회전하는 기판 지지 수단과, 회전체 및 기판 지지 수단을 둘러싸는 처리 용기와, 이 처리 용기내에 공기를 집어넣기 위해서 처리 용기의 상부에 형성된 공기 유입구와, 처리 용기의 측부에 형성되고, 처리 용기의 저부로부터 적어도 회전체의 높은 위치까지 개방되는 배기구를 구비한다.
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