公开(公告)号：KR100262902B1

公开(公告)日：2000-09-01

申请号：KR1019950028201

申请日：1995-08-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히데야 ,  모리오카노리미쓰 ,  기무라요시오 ,  요시하라고스케

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  B05C11/08

Abstract: 현상처리장치는, 기판보다 작은 크기의 얹어놓는면을 가지며, 이 얹어놓는면에 레지스트 도포면이 위를 향하도록 얹어놓인 기판을 스핀회전시키는 스핀척과, 이 스핀척을 둘러싸는 척과, 스핀척상의 기판의 레지스트 도포면에 현상액을 가하는 현상액 노즐과, 스핀척상의 기판의 레지스트 도포면에 세정액을 가하는 제1의 세정액노즐과, 스핀척상의 기판의 뒷면에 세정액을 가하는 제2의 세정액 노즐과, 스핀척과 실질적으로 같은 축에 설치되고, 그 직경이 스핀척의 얹어놓는면보다 크고, 또한 기판보다는 작은 책체밀폐 링과, 이 액체밀폐 링의 윗끝단에 설치되고, 스핀척상의 기판 뒷면의 둘레부에 근접대면하여 기판뒷면의 둘레부와의 사이에 간극을 형성하는 액막형성부를 구비하고, 막형성부는, 기판뒷면에 대하여 실질적으로 직교하고, 또한, 바� ��쪽을 향하는 제1의 벽부와, 기판뒷면에 대하여 완만하게 경사하고, 또한, 안쪽을 향하는 제2의 벽부를 가진다.

公开(公告)号：KR1019960008999A

公开(公告)日：1996-03-22

申请号：KR1019950028201

申请日：1995-08-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히데야 ,  모리오카노리미쓰 ,  기무라요시오 ,  요시하라고스케

IPC: H01L21/027

Abstract: 현상처리장치는, 기판보다 작은 크기의 얹어놓는면을 가지며, 이 얹어 놓는면에 레지스트 도포면이 위를 향하도록 얹어놓인 기판을 스판회전시키는 스핀척과, 이 스핀척을 둘러싸는 척과, 스핀척상의 기판의 레지스트 도포면에 현상액을 가하는 현상액 노즐과, 스핀척상의 기판의 레지스트 도포면에 세정액을 가하는 제l의 세정액노즐과, 스핀척상의 기판의 뒷면에 세정액을 가하는 제2의 세정액 노즐과, 스핀척과 실질적으로 같은 축에 설치되고, 그 직경이 스핀척의 얹어놓는면보다 크고, 또한 기판보다는 작은 액체밀폐 링과, 이 액체밀페 링의 윗끝단에 설치되고, 스핀척상의 기판 뒷면의 둘레부에 근접대면하여 기판뒷면의 둘레부와의 사이에 간극을 형성하는 액막형성부를 구비하고, 막평성부는, 기판뒷면에 대하여 실질적으로 직교하고, 또한, 바 깥쪽을 향하는 제1의 벽부와, 기판뒷면에 대하여 완만하게 경사하고, 또한, 안쪽을 향하는 제2의 벽부를 가진다.