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公开(公告)号：KR1019940020507A
公开(公告)日：1994-09-16
申请号：KR1019940002162
申请日：1994-02-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
Inventor： 기무라요시오
IPC: H01L21/31
Abstract: 반도체 웨이퍼에 포토레지스트를 도포하는 시스템은, 로드/언로드 유니트와, 처리 유니트를 구비한다. 처리유니트에는 반송로가 배치되고, 반송로를 따라서, 애드히젼 처리부, 프리베이크부, 냉각부, 레지스트 도포부, 및 피복층 도포부가 배치된다. 애드히젼 처리부, 프리베이크부, 및 피복층 도포부는, 개개의 처리실내의 배치되는 한편, 냉각부 및 레지스트 도포부는 공통의 주처리실내로 배치된다.
반송로를 따라서 이동이 자유롭게 반송로보트이 배치되고, 그 로보트에 의하여 처리실 사이에서 기판이 반송된다. 주처리실내에는 전용의 반송부재가 배치되고, 그 반송부재에 의하여 냉각부로부터 레지스트 도포부로 기판이 반송된다.
선택도 : 제1도.-
公开(公告)号：KR100256081B1
公开(公告)日：2000-05-01
申请号：KR1019940002162
申请日：1994-02-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
Inventor： 기무라요시오
IPC: H01L21/31
CPC classification number: G03F7/16 , H01L21/6715 , Y10S134/902
Abstract: 반도체 웨이퍼에 포토레지스트를 도포하는 장치는, 로드/언로드 유니트와, 처리 유니트를 구비한다. 처리유니트에는 반송로가 배치되고, 반송로를 따라서, 애드히젼 처리부, 프리베이크부, 냉각부, 레지스트 도포부, 및 피복층 도포부가 배치된다. 애드히젼 처리부, 프리베이크부, 및 피복층 도포부는, 개개의 처리실내의 배치되는 한편, 냉각부 및 레지스트 도포부는 공통의 주처리실내로 배치된다.
반송로를 따라서 이동이 자유롭게 반송로보트이 배치되고, 그 로봇에 의하여 처리실 사이에서 기판이 반송된다. 주처리실내에는 전용의 반송부재가 배치되고, 그 반송부재에 의하여 냉각부로부터 레지스트 도포부로 기판이 방송된다.-
公开(公告)号：KR100262902B1
公开(公告)日：2000-09-01
申请号：KR1019950028201
申请日：1995-08-31
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/3021 , B05C11/08
Abstract: 현상처리장치는, 기판보다 작은 크기의 얹어놓는면을 가지며, 이 얹어놓는면에 레지스트 도포면이 위를 향하도록 얹어놓인 기판을 스핀회전시키는 스핀척과, 이 스핀척을 둘러싸는 척과, 스핀척상의 기판의 레지스트 도포면에 현상액을 가하는 현상액 노즐과, 스핀척상의 기판의 레지스트 도포면에 세정액을 가하는 제1의 세정액노즐과, 스핀척상의 기판의 뒷면에 세정액을 가하는 제2의 세정액 노즐과, 스핀척과 실질적으로 같은 축에 설치되고, 그 직경이 스핀척의 얹어놓는면보다 크고, 또한 기판보다는 작은 책체밀폐 링과, 이 액체밀폐 링의 윗끝단에 설치되고, 스핀척상의 기판 뒷면의 둘레부에 근접대면하여 기판뒷면의 둘레부와의 사이에 간극을 형성하는 액막형성부를 구비하고, 막형성부는, 기판뒷면에 대하여 실질적으로 직교하고, 또한, 바� ��쪽을 향하는 제1의 벽부와, 기판뒷면에 대하여 완만하게 경사하고, 또한, 안쪽을 향하는 제2의 벽부를 가진다.
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公开(公告)号：KR100264109B1
公开(公告)日：2000-09-01
申请号：KR1019950018716
申请日：1995-06-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67184
Abstract: 본 발명은, 복수매의 피처리체를 수용한 적어도 하나의 카세트를 얹어놓는 카세트 스테이션과, 피처리체에 처리를 하는 복수의 처리실 및 처리실에 피처리체를 반입하고, 처리실로 부터 피처리체를 반출하는 피처리체 반송수단을 포함하는 처리스테이션과, 카세트 스테이션과 처리스테이션과의 사이에서 피처리체를 주고 받는 제1의 피처리체 주고 받기 수단과, 피처리체를 대기시키는 피처리체 대기영역 및 처리스테이션과의 사이에서 피처리체의 주고 받기를 하는 제2의 피처리체 주고 받기 수단을 포함하는 인터페이스부를 가지며, 처리스테이션에 있어서의 처리실이 피처리체 반송수단의 둘레에 배치되어 있고, 피처리체 반송수단은 연직방향으로 거의 평행한 회전축을 가지며, 회전축을 따라서 연직방향으로 승강가능하며, 회전축에 대하여 회전 가능한 기판처리시스템을 제공한다.
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公开(公告)号：KR100164605B1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR1019920023980
申请日：1992-12-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
Inventor： 기무라요시오
IPC: H01L21/31
Abstract: 현상액 공급장치는, 현상액 공급노즐과, 웨이퍼를 지지하기 위한 회전척과, 공급노즐이 대기하기 위한 홀더를 구비한다. 공급노즐은, 반송부재에 의하여, 척상방의 공급위치와, 홀더상의 대기위치와의 사이를 반송한다. 공급노즐은, 현상액의 수납공간과 연결되어 통하는 여러 개의 구멍이 형성된 노즐팁을 가진다. 홀더는, 상기 구멍열을 따라서 연장되는 통을 가진다. 통은 노즐팁으로부터 떨어지는 현상액 방울과 접하여, 이것을 제거하도록 배치된다. 통의 저부에는 현상액을 배제하기 위한 여러 개의 구멍이 배열 형성된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019960002497A
公开(公告)日：1996-01-26
申请号：KR1019950018716
申请日：1995-06-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/02
Abstract: 본 발명은, 복수매의 피처리체를 수용한 적어도 하나의 카세트를 얹어 놓는 카세트 스테이션과, 피처리체에 처리를 복수의 처리실 및 처리실에 피처리체를 반입하고, 처리실로 부터 피처리체를 반출하는 피처리체 반송수단을 포함하는 처리 스테이션과, 카세트 스테이션과 처리 스테이션과의 사이에서 피처리체를 주고 받는 제1의 피처리체 주고 받기 수단과, 피처리체를 대기시키는 피처리체 대기영역 및 처리 스테이션과의 사이에서 피처리체의 주고 받기를 하는 제2의 피처리체 주고받기 수단을 포함하는 인텨페이스부를 가지며, 처리 스테이션에 있어서의 처리실이 피처리체 반송수단의 둘레에 배치되어 있고, 피처리체 반송수단은 연직방향으로 거의 평행한 회전축을 가지며, 회전축을 따라서 연직방향으로 승강가능하며, 회전축에 대하여 회전가 능한 기판처리 시스템을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1019930014836A
公开(公告)日：1993-07-23
申请号：KR1019920023980
申请日：1992-12-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
Inventor： 기무라요시오
IPC: H01L21/31
Abstract: 현상액 공급장치는 현상액 공급노즐과, 웨이퍼를 지지하기 위한 회전척과 공급노즐이 대기하기 위한 홀더를 구비한다. 공급노즐은, 반송부재에 의하여 척상방의 공급위치와 홀더상의 대기위치와의 사이를 반송한다. 공급노즐은 현사액의 수납공간과 연결되어 통하는 여러 개의 구멍이 형성된 노즐팁을 가진다. 홀더내는 상기 구멍열을 따라서 영장되는 통을 가진다. 통은 노즐팁으로부터 떨어지는 현상액 방울과 접하여 이것을 제거하도록 배치된다. 통의 저부에는 현상액을 배제하기 위한 여러개의 구멍이 배열 형성된다.
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公开(公告)号：KR1019960008999A
公开(公告)日：1996-03-22
申请号：KR1019950028201
申请日：1995-08-31
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 현상처리장치는, 기판보다 작은 크기의 얹어놓는면을 가지며, 이 얹어 놓는면에 레지스트 도포면이 위를 향하도록 얹어놓인 기판을 스판회전시키는 스핀척과, 이 스핀척을 둘러싸는 척과, 스핀척상의 기판의 레지스트 도포면에 현상액을 가하는 현상액 노즐과, 스핀척상의 기판의 레지스트 도포면에 세정액을 가하는 제l의 세정액노즐과, 스핀척상의 기판의 뒷면에 세정액을 가하는 제2의 세정액 노즐과, 스핀척과 실질적으로 같은 축에 설치되고, 그 직경이 스핀척의 얹어놓는면보다 크고, 또한 기판보다는 작은 액체밀폐 링과, 이 액체밀페 링의 윗끝단에 설치되고, 스핀척상의 기판 뒷면의 둘레부에 근접대면하여 기판뒷면의 둘레부와의 사이에 간극을 형성하는 액막형성부를 구비하고, 막평성부는, 기판뒷면에 대하여 실질적으로 직교하고, 또한, 바 깥쪽을 향하는 제1의 벽부와, 기판뒷면에 대하여 완만하게 경사하고, 또한, 안쪽을 향하는 제2의 벽부를 가진다.
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公开(公告)号：KR1020120030057A
公开(公告)日：2012-03-27
申请号：KR1020117028045
申请日：2010-06-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67173 , B29C33/58 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/67207 , H01L21/67745 , H01L21/6776 , H01L21/0274
Abstract: 본 발명은, 템플릿을 사용하여, 기판 상의 도포막에 전사 패턴을 전사하여, 당해 도포막에 소정의 패턴을 형성하는 임프린트 유닛을 구비한 시스템이며, 임프린트 유닛에 접속되고, 템플릿에 소정의 처리를 행하는 처리 스테이션과, 처리 스테이션에 접속되고, 템플릿을 보유 가능하고, 또한 처리 스테이션에 템플릿을 반입출하는 템플릿 반입출 스테이션과, 임프린트 유닛 내로 통해 설치되고, 템플릿을 임프린트 유닛과 처리 스테이션 사이에서 반송하는 반송 라인과, 임프린트 유닛에 접속되고, 기판을 보유 가능하고, 또한 임프린트 유닛에 기판을 반입출하는 기판 반입출 스테이션을 갖고 있다.
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公开(公告)号：KR100762522B1
公开(公告)日：2007-10-01
申请号：KR1020060021016
申请日：2006-03-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67742 , G03F7/162 , H01L21/6715 , H01L21/67173 , H01L21/67178
Abstract: 상하에 반사 방지막을 형성하는데 있어서, 반사 방지막을 형성하는 경우, 하지 않는 경우 중 어디에도 대응할 수 있고, 공간 절약화를 도모할 수 있는 도포, 현상 장치 및 방법을 제공한다.
본 발명의 도포, 현상 장치에 있어서, 처리 블록(S2)에, 3층의 도포막 형성용의 단위 블록(B3~B5)과, 2층의 현상 처리용의 단위 블록(B1, B2)을 서로 적층하여 마련한다. 상기 도포막 형성용의 단위 블록(B3~B5)의 각각에는, 레지스트막의 하방측 또는 상방측의 반사 방지막을 형성하는 제 1 또는 제 2 반사 방지막 유닛(31, 33)과, 도포 유닛(32)이 마련되어 있기 때문에, 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는데 있어서, 공간 절약화를 도모할 수 있고, 또한 반사 방지막을 형성하는 경우, 하지 않는 경우 중 어디에도 대응할 수 있다.
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