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公开(公告)号：KR1020130131905A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：KR1020120055851
申请日：2012-05-25
Applicant: 동명대학교산학협력단
IPC: H01L41/02
CPC classification number: G01L1/16 , H01L41/083 , H01L41/0973 , H01L41/1876
Abstract: The present invention relates to a see saw type piezoelectric thin film structure maximizing the bending of a piezoelectric thin film for efficiently measuring the residual stress of a bending element of the piezoelectric thin film. The see saw type piezoelectric thin film structure for measuring the residual stress according to the present invention comprises a first piezoelectric thin film part; a second thin film part connected to one end part of the first thin film part; and a third piezoelectric part having one end connected to the first and second thin film parts and formed in the shape of a stick in a vertical direction to the first and second piezoelectric thin film parts.
Abstract translation: 本发明涉及一种使锯齿型压电薄膜结构最大化压电薄膜的弯曲，以有效地测量压电薄膜的弯曲元件的残余应力。 根据本发明的用于测量残余应力的锯形压电薄膜结构包括第一压电薄膜部分; 连接到第一薄膜部分的一个端部的第二薄膜部分; 以及第三压电部件，其一端连接到第一和第二薄膜部分并且在垂直于第一和第二压电薄膜部件的方向上形成为棒状。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101262110B1
公开(公告)日：2013-05-14
申请号：KR1020110093220
申请日：2011-09-16
Applicant: 동명대학교산학협력단
Abstract: 압전막의잔류응력을효과적으로측정할수 있게하는잔류응력측정용적층압전박막구조가개시되어있다. 적층압전박막구조는잔류응력측정을위한적층압전박막구조에있어서, 기판상의중심부에형성되는미러반사면; 및상기미러반사면의측면으로부터상기기판의외곽으로형성되며, 소정의폭 및소정의길이를갖는하나이상의빔을포함한다.
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公开(公告)号：KR101393430B1
公开(公告)日：2014-05-12
申请号：KR1020120058422
申请日：2012-05-31
Applicant: 동명대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 압전 박막 시편의 인장 강도 및 피로 물성을 인시츄 방식으로 측정하기 위해 SEM에 시편의 손상 없이 안전하게 장착할 수 있도록 하는 구조를 갖는 압전 박막 시편 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르는 인장 강도 및 피로 물성 측정용 압전 박막 시편은, 한 쌍의 아일랜드 형태의 패턴을 중심부에 갖는 하부 마스크에 의해 식각되어 중심부에 아일랜드를 갖도록 구성되는 기판; 상기 기판의 아일랜드에 대응하는 위치가 투공된 하부 PT 마스크에 의해 상기 기판상에 형성되는 하부 PT층; 상기 기판의 아일랜드에 대응하는 위치가 투공된 PZT 및 상부 PT 마스크에 의해 상기 PT층 상에 순차적으로 형성되는 PZT층 및 상부 PT층; 상기 기판의 아일랜드에 대응하는 형태의 열선 마스크에 의해 상기 상부 PT 층상에 구성되는 열선을 포함하는 것을 구성적 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR1020130134710A
公开(公告)日：2013-12-10
申请号：KR1020120058422
申请日：2012-05-31
Applicant: 동명대학교산학협력단
Abstract: The present invention relates to a piezoelectric thin specimen having a structure for safely inserting the specimen to SEM without damage to measure the tensile strength and fatigue property with an in-situ method, and a method for manufacturing the specimen. According to the invention, the piezoelectric thin specimen for measuring the tensile strength and fatigue property comprises a substrate, a lower PT layer, an upper PZT layer & PT layer, and a thermal wire. The substrate includes a pair of patterns formed into an island shape as being etched by a lower mask at the center. The lower PT layer is formed on the substrate by a lower PT mask having a hole corresponding to the location of the island. The upper PZT & PT layers are formed on the PT layer in order by the PT penetrated mask and PZT corresponding to the location of the island of the substrate. The thermal wire is formed on the upper PT layer by a thermal wire mask formed into a corresponding shape to the island of the substrate.
Abstract translation: 本发明涉及一种压电薄试件，其具有用于将试样安全地插入SEM而不损坏的结构，以通过原位方法测量拉伸强度和疲劳性能，以及制造试样的方法。 根据本发明，用于测量拉伸强度和疲劳特性的压电薄试样包括基底，下PT层，上PZT层和PT层以及热丝。 衬底包括形成为岛状的一对图案，其被中心处的下掩模蚀刻。 下PT层通过具有对应于岛的位置的孔的下PT掩模形成在衬底上。 上层PZT和PT层通过PT穿透掩模和对应于衬底岛位置的PZT依次形成在PT层上。 热丝通过与衬底的岛形成为相应形状的热丝掩模形成在上PT层上。
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公开(公告)号：KR1020130029861A
公开(公告)日：2013-03-26
申请号：KR1020110093220
申请日：2011-09-16
Applicant: 동명대학교산학협력단
Abstract: PURPOSE: A stacked piezoelectric thin film structure for measuring residual stress is provided to efficiently measure residual strain according to the residual stress of the stacked piezoelectric thin film. CONSTITUTION: A stacked piezoelectric thin film structure for measuring residual stress comprises a mirror reflecting face(402) and one or more beams(403). The mirror reflecting face is formed at the center of a substrate. The beams are formed from the lateral sides of the mirror reflecting face to the edge of the substrate and have predetermined width and length.
Abstract translation: 目的：提供一种用于测量残余应力的堆叠式压电薄膜结构，以根据层叠的压电薄膜的残余应力有效地测量残余应变。 构成：用于测量残余应力的叠层压电薄膜结构包括反射镜反射面（402）和一个或多个光束（403）。 镜面反射面形成在基板的中心。 光束从反射镜反射面的侧面到基板的边缘形成并且具有预定的宽度和长度。
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公开(公告)号：KR101345580B1
公开(公告)日：2013-12-30
申请号：KR1020120055851
申请日：2012-05-25
Applicant: 동명대학교산학협력단
IPC: H01L41/02
Abstract: 본 발명은 압전 박막의 굽힘 성분의 잔류 응력을 효과적으로 측정할 수 있도록 압전 박막의 굽힘 정도를 최대화하는 시소 타입 압전 박막 구조에 관한 것이다.
본 발명에 따르는 잔류 응력 측정용 시소타입 압전 박막 구조는,
제 1 압전 박막부;
제 1 박막부의 일단부에 연결되게 형성되는 제 2 압전 박막부; 및
상기 제 1 압전 박막부와 제 2 압전 박막부에 일단이 연결되고 상기 제 1 압전 박막부 및 제 2 압전 박막부에 대해 종방향으로 막대형태로 형성되는 제 3 압전 박막부를 포함하는 것을 구성적 특징으로 한다.
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