公开(公告)号：KR101019471B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020057001756

申请日：2003-07-30

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 팔론존피. ,  룰존에이. ,  자끄로버트엔. ,  립콘자콥피. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  파르틀로윌리암엔. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  이시하라도시히코 ,  마이스너존 ,  네스리차드엠. ,  멜처폴씨.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/2333 ,  H01S3/036 ,  H01S3/134 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2366

Abstract: 본 발명은 모듈러 고 반복율 2 방전 챔버 자외선을 위한 제어 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예에서, 레이저는 제2 방전 챔버에서 증폭되는(12) 초 협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터(10)를 갖춘 제조 라인 머신이다. 2 챔버 가스 방전 레이저 시스템에 특별히 응용된 신규의 제어 특징은 (1) 나노초 타이밍 정밀도를 갖춘, 펄스 에너지 제어 (2) 고속 및 초고속 파장 튜닝을 갖춘 정밀한 펄스 투 펄스 파장 제어 (3) 고속 응답 가스 온도 제어 및 (4) 신규 인식 알고리즘을 갖춘 F
2 주입 제어를 포함한다.
방전, 챔버, 레이저, 가스, 파장, 빔

公开(公告)号：KR1020050062519A

公开(公告)日：2005-06-23

申请号：KR1020057001756

申请日：2003-07-30

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 팔론존피. ,  룰존에이. ,  자끄로버트엔. ,  립콘자콥피. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  파르틀로윌리암엔. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  이시하라도시히코 ,  마이스너존 ,  네스리차드엠. ,  멜처폴씨.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/2333 ,  H01S3/036 ,  H01S3/134 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2366

Abstract: The present invention provides a control system for a modular high repetition rate two discharge chamber ultraviolet. In preferred embodiments, the laser is a production line machine with a master oscillator (10) producing a very narrow band seed beam which is amplified (12) in the second discharge chamber. Novel control features specially adapted for a two-chamber gas discharge laser system include (1) pulse energy controls, with nanosecond timing precision (2) precision pulse to pulse wavelength controls with high speed and extreme speed wavelength tuning (3) fast response gas temperature control and (4) F2 injection controls with novel learning algorithm.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于模块化高重复率两放电室紫外线的控制系统。 在优选实施例中，激光器是具有主振荡器（10）的生产线机器，其产生非常窄的带子种子束，其在第二放电室中被放大（12）。 特别适用于双室气体放电激光系统的新型控制特征包括（1）脉冲能量控制，具有纳秒定时精度（2）精确脉冲到脉冲波长控制，具有高速和极速波长调谐（3）快速响应气体温度 控制和（4）F2注射控制与新的学习算法。