플라즈마 표면처리 장치
    1.
    发明授权
    플라즈마 표면처리 장치 有权
    使用等离子体进行表面处理的设备

    公开(公告)号:KR101016810B1

    公开(公告)日:2011-02-21

    申请号:KR1020030094241

    申请日:2003-12-20

    Abstract: 공정 챔버 내로 플라즈마 형성용 가스를 공급하는 라인과 연결된 기체 주입공이 다수 형성된 전극과, 전극에 대향되도록 장착된 기판을 음극으로 대전시킬 수 있는 척을 구비하여 이루어지는 플라즈마 표면처리 장치에 있어서, 전극과 기판 사이에 중간 전극이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치가 개시된다.
    따라서, 공급된 가스량 대비 플라즈마에 의한 표면처리 효과를 극대화할 수 있고, 비반응 가스가 전극부에 퇴적되어 전극부 절연 현상이 발생하는 것을 방지하여 공정 챔버 내의 방전의 안정성 및 기판 처리를 위한 이온 집속의 효과를 높일 수 있다.

    표시장치 기판의 증착막 형성장치
    2.
    发明公开
    표시장치 기판의 증착막 형성장치 有权
    形成用于显示基板的热蒸发沉积层的方法和方法

    公开(公告)号:KR1020050050821A

    公开(公告)日:2005-06-01

    申请号:KR1020030084467

    申请日:2003-11-26

    Abstract: 표시장치 기판의 증착막 형성 방법 및 장치가 개시된다.
    본 발명의 증착막 형성 방법은, 증착 공간에 기판면이 수평을 향하도록 기판을 수직으로 거치하고, 증착막 소오스 물질의 증기를 기판면에 수직하게 수평 방향으로 공급하는 것을 특징으로 한다. 바람직하게는 기판을 기준으로 증착원을 수직 방향으로 이동시키며 증기의 공급을 실시할 수 있고, 증기를 수평으로 공급하기 위해 증착원에서 발생된 증기를 수평으로 유도하는 작업이 이루어질 수 있다.
    따라서, 대형 기판에 증착막을 형성할 때에도 기판 처짐의 문제가 없어 균일한 증착막 형성이 용이해지고, 증착원과 기판면 사이의 거리를 줄일 수 있으므로 증착 공간 설비 비용을 줄일 수 있다.

    저온 화학기상증착 장치
    3.
    发明公开
    저온 화학기상증착 장치 无效
    低温化学气相沉积装置

    公开(公告)号:KR1020050071801A

    公开(公告)日:2005-07-08

    申请号:KR1020040000122

    申请日:2004-01-02

    CPC classification number: C23C16/505

    Abstract: 적어도 벽체 일부가 유전체벽으로 구성되며, 증착막이 형성될 기판을 수용하는 공정챔버; 공정챔버 외부에 상기 유전체벽의 적어도 일부와 근접하도록 배치되며, 고주파 전압이 인가되는 코일형 도체로 이루어진 고주파 안테나; 공정챔버 내부에서 고주파 안테나가 감겨지는 평면과 실질적으로 평행하게 기판을 장착하는 하부전극; 고주파 안테나에 고주파 전력을 인가하는 전력인가부; 공정챔버에 진공을 인가하기 위해 연결되는 진공라인; 및 증착막의 소오스 가스를 공급하는 가스 공급라인을 구비하여 이루어지는 저온 화학기상증착 장치에 있어서, 고주파 안테나에 근접한 유전체벽 부분과 공정챔버 내의 플라즈마 형성 공간 사이에 위치되는 도전체로서 고주파 안테나의 코일형 도체가 위치하는 부분에 대응되고 코일형 도체와 절연되도록 패러데이 실드가 더 구비되는 저온 화학기상증착 장치가 개시된다.
    본 발명에 따르면, 고주파 안테나의 코일선으로부터 발생되는 수직 전기장을 효과적으로 차단하여 플라즈마 내의 하전 입자들이 진동하면서 기판에 충돌되어 기판 온도를 상승시키는 것을 방지할 수 있다.

    증발원
    4.
    发明公开
    증발원 有权
    沉积源

    公开(公告)号:KR1020090047630A

    公开(公告)日:2009-05-13

    申请号:KR1020070113559

    申请日:2007-11-08

    Abstract: 본 발명은 도가니 내부에 설치된 인너플레이트에 의해 유기 물질의 분사 압력을 조절할 수 있는 증발원에 관한 것이다. 본 발명에 따른 증발원은 바닥면으로부터 일정 높이까지 연장된 베리어에 의해 내부에 유기박막 재료인 유기물이 수납되는 도가니; 상기 도가니와 연통되도록 형성되어 상기 유기물을 기판에 분사시키는 적어도 하나의 분사노즐; 및 상기 도가니의 외주면에 설치되는 가열부;를 포함하되, 일단이 상기 베리어에 접하고, 타단이 상기 도가니에 내접하며, 적어도 하나의 개구부가 형성된 인너플레이트가 상기 도가니에 삽입된다. 이러한 구성에 의하여, 유기 물질을 대면적 기판 전체에 균일하게 성막할 수 있다.
    증발원, 도가니, 인너플레이트

    플라즈마 표면처리 장치
    5.
    发明公开
    플라즈마 표면처리 장치 有权
    使用等离子体进行表面处理的装置

    公开(公告)号:KR1020050062230A

    公开(公告)日:2005-06-23

    申请号:KR1020030094241

    申请日:2003-12-20

    Abstract: 공정 챔버 내로 플라즈마 형성용 가스를 공급하는 라인과 연결된 기체 주입공이 다수 형성된 전극과, 전극에 대향되도록 장착된 기판을 음극으로 대전시킬 수 있는 척을 구비하여 이루어지는 플라즈마 표면처리 장치에 있어서, 전극과 기판 사이에 중간 전극이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리 장치가 개시된다.
    따라서, 공급된 가스량 대비 플라즈마에 의한 표면처리 효과를 극대화할 수 있고, 비반응 가스가 전극부에 퇴적되어 전극부 절연 현상이 발생하는 것을 방지하여 공정 챔버 내의 방전의 안정성 및 기판 처리를 위한 이온 집속의 효과를 높일 수 있다.

    증발원
    6.
    发明授权
    증발원 有权
    存款来源

    公开(公告)号:KR100962967B1

    公开(公告)日:2010-06-10

    申请号:KR1020070113559

    申请日:2007-11-08

    Abstract: 본 발명은 도가니 내부에 설치된 인너플레이트에 의해 유기 물질의 분사 압력을 조절할 수 있는 증발원에 관한 것이다. 본 발명에 따른 증발원은 바닥면으로부터 일정 높이까지 연장된 베리어에 의해 내부에 유기박막 재료인 유기물이 수납되는 도가니; 상기 도가니와 연통되도록 형성되어 상기 유기물을 기판에 분사시키는 적어도 하나의 분사노즐; 및 상기 도가니의 외주면에 설치되는 가열부;를 포함하되, 일단이 상기 베리어에 접하고, 타단이 상기 도가니에 내접하며, 적어도 하나의 개구부가 형성된 인너플레이트가 상기 도가니에 삽입된다. 이러한 구성에 의하여, 유기 물질을 대면적 기판 전체에 균일하게 성막할 수 있다.
    증발원, 도가니, 인너플레이트

    표시장치 기판의 증착막 형성장치
    7.
    发明授权
    표시장치 기판의 증착막 형성장치 有权
    一种在显示装置基板上形成蒸镀膜的装置

    公开(公告)号:KR100908971B1

    公开(公告)日:2009-07-22

    申请号:KR1020030084467

    申请日:2003-11-26

    Abstract: 표시장치 기판의 증착막 형성 방법 및 장치가 개시된다.
    본 발명의 증착막 형성 방법은, 증착 공간에 기판면이 수평을 향하도록 기판을 수직으로 거치하고, 증착막 소오스 물질의 증기를 기판면에 수직하게 수평 방향으로 공급하는 것을 특징으로 한다. 바람직하게는 기판을 기준으로 증착원을 수직 방향으로 이동시키며 증기의 공급을 실시할 수 있고, 증기를 수평으로 공급하기 위해 증착원에서 발생된 증기를 수평으로 유도하는 작업이 이루어질 수 있다.
    따라서, 대형 기판에 증착막을 형성할 때에도 기판 처짐의 문제가 없어 균일한 증착막 형성이 용이해지고, 증착원과 기판면 사이의 거리를 줄일 수 있으므로 증착 공간 설비 비용을 줄일 수 있다.

    Abstract translation: 公开了在显示装置基板上形成蒸镀膜的方法和装置。

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