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公开(公告)号：WO2018124633A1
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：PCT/KR2017/015232
申请日：2017-12-21
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 이임성 , 김기원 , 오세기 , 구자민 , 권기영 , 김은영 , 김지민 , 김철귀 , 김형우 , 남궁주 , 박지현 , 유승훈 , 유용주 , 이동규 , 이찬원 , 장시학
Abstract: 본 발명의 다양한 실시예들은 전자 장치 및 그의 메시지 전달 방법에 관한 것으로, 상기 전자 장치는 카메라; 상기 카메라와 기능적으로 연결되는 적어도 하나의 프로세서; 및 상기 적어도 하나의 프로세서에 의하여 실행 가능하도록 구성되는 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 포함하되, 상기 프로그램은 발신자로부터의 메시지의 입력 감지에 대응하여 상기 카메라를 활성화하여 상기 발신자를 촬영하고, 상기 촬영된 발신자의 이미지 및 상기 입력된 메시지를 분석하고, 상기 분석 결과를 기반으로, 수신자 및 출력 패턴을 결정하고, 상기 수신자가 인식되는지 확인하며, 상기 수신자가 인식되는 경우 상기 결정된 출력 패턴을 기반으로 상기 인식된 수신자에게 상기 메시지를 전달하도록 설정된 명령어를 포함할 수 있다. 그 밖의 다양한 실시예가 가능하다.
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公开(公告)号：KR1020010080815A
公开(公告)日：2001-08-25
申请号：KR1020000001995
申请日：2000-01-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0758
Abstract: PURPOSE: A photo-sensitive polymer is provided to accomplish favorable UV ray absorption ability against ArF eximer laser and good dry etching-resistance, wettability and adhesion effect by comprising specific polymer and photo-diffusing agent. CONSTITUTION: The photo-sensitive polymer having the following formula (wherein R1 represents the following radicals wherein R3 is hydrogen or C1-C4 alkyl group; R4 is linear chain or branched chain having C1-C10, or cyclic alkyl group having C1-C3; and R2 is alkyl group having C7-C10 and 2-3 rings; R5 is hydrogen or methyl group; 1/(1+m+n+o)=0.1 to 0.5, m/(1+m+n+o)=0.2 to 0.5, n/(1+m+n+o)=0 to 0.5 and o/(1+m+n+o)=0 to 0.5) has a weight mean molecular weight of 2,000 to 100,000. The polymer contains vinyl phosphate monomer having t-butoxy carbonyl or alkoxyalkyl group as a protecting group and (meta)crylate monomer substituted by alicyclic hydrocarbons having C7-C10.
Abstract translation: 目的：提供光敏聚合物以通过包含特定的聚合物和光扩散剂来实现对ArF准分子激光器的有利的紫外线吸收能力以及良好的耐干蚀刻性，润湿性和粘合效果。 构成：具有下式的光敏性聚合物（其中R 1表示以下基团，其中R 3为氢或C 1 -C 4烷基; R 4为具有C 1 -C 10的直链或支链或具有C 1 -C 3的环状烷基; R2为具有C7-C10和2-3环的烷基; R5为氢或甲基; 1 /（1 + m + n + o）= 0.1至0.5，m /（1 + m + n + o）= 0.2〜0.5，n /（1 + m + n + o）= 0〜0.5，o /（1 + m + n + o）= 0〜0.5）的重均分子量为2,000〜100,000。 聚合物含有具有叔丁氧基羰基或烷氧基烷基作为保护基的乙烯基磷酸酯单体和被具有C7-C10的脂环族烃取代的（甲基）丙烯酸酯单体。
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公开(公告)号：KR1019990070523A
公开(公告)日：1999-09-15
申请号：KR1019980005430
申请日：1998-02-20
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 권기영
IPC: H03K3/02
Abstract: 서로 다른 주파수를 가지는 메인 클락 신호에 관계없이 일정 주파수를 가지는 내부 클락 신호를 발생하는 클락 발생 회로가 여기에 개시된다. 이 클락 발생 회로는 메인 클락 신호 및 샘플링 신호를 받아들여서 상기 신호들이 동기될 때 동기 신호를 발생하는 동기 신호 발생기와; 상기 메인 클락 신호의 주파수에 따라 상기 메인 클락의 분주량을 결정하여서 상기 분주량에 대응하는 코드 신호를 출력하는 상태 머신과; 상기 코드 신호에 응답해서 상기 메인 클락 신호를 분주하여서 일정한 주파수를 가지는 내부 클락 신호를 출력하는 분주 회로를 포함한다.
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公开(公告)号：KR100084396B1
公开(公告)日：1995-04-28
申请号：KR1019910016326
申请日：1991-09-19
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 권기영
IPC: G11B7/1353
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR1020170042158A
公开(公告)日：2017-04-18
申请号：KR1020150141764
申请日：2015-10-08
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04N5/2254 , G02B7/02 , G02B7/1822 , H04N5/2257 , H04N5/23293
Abstract: 다방향촬영이가능한전자장치는디스플레이, 이미지센서및 프로세서를포함하는케이스; 및상기케이스일부측면에배치되어회전가능한용두를포함하며, 상기용두는일부에카메라윈도우가배치되고, 상기용두의회전시에상기카메라윈도우를회전시키고상기카메라윈도우를투과한광자를상기이미지센서에전달할수 있다.
Abstract translation: 能够进行多方向拍摄的电子设备包括：包括显示器，图像传感器和处理器的壳体; 并且冠部可旋转地设置在壳体的侧表面上，其中冠部在其一部分处设置有相机窗口，并且旋转冠部会议显示器中的相机窗口并且可以将透过相机窗口的光透射到图像传感器 有。
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公开(公告)号：KR1020170034076A
公开(公告)日：2017-03-28
申请号：KR1020150132288
申请日：2015-09-18
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G06F3/01 , G06F3/0488 , G06F3/16 , H05K5/06
CPC classification number: G06F3/01 , G06F3/0488 , G06F3/16 , H05K5/06
Abstract: 본개시의다양한실시예는로터리스위치를구비한전자장치및 그기능제어방법으로서, 전자장치가방수기능과마이크로폰기능을선택할수 있는로터리스위치를구비하고, 상기로터리스위치의작동에따른방수모드또는마이크로폰모드여부를아이콘및/또는음향을통해사용자에게알려줌으로써, 사용자가방수모드또는마이크로폰모드를쉽게선택할수 있도록할 수있다.
Abstract translation: 本公开的各种实施例针对具有旋转开关和控制其功能的方法的电子设备，该电子设备具有防水功能以及用于选择麦克风功能的旋转开关， 通过图标和/或声音通知用户是否选择了模式，用户可以容易地选择防水模式或麦克风模式。
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公开(公告)号：KR1020010109766A
公开(公告)日：2001-12-12
申请号：KR1020000030385
申请日：2000-06-02
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/004 , G03F7/0046 , G03F7/039
Abstract: 본 발명은 광감응성 중합체 및 이를 사용한 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 본 발명의 광감응성 중합체는 무게 평균 분자량이 2,000 내지 100,000이고, 알킬기 또는 알리시클로기와, 메틸 또는 이소보르닐기를 포함한다. 따라서, 193㎚광에 대해 감응하고 건식에칭에 대한 저항성이 강화된다.
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公开(公告)号：KR1020010046928A
公开(公告)日：2001-06-15
申请号：KR1019990050901
申请日：1999-11-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0758
Abstract: PURPOSE: A photosensitive polymer for chemically amplified photoresist is provided which forms a fine pattern having an excellent contrast property, has high resistance to dry-etching and is patterned by a conventional developing solution. CONSTITUTION: The photosensitive polymer for chemically amplified photoresist is a copolymer of one methacrylate monomer and the other methacrylate monomer being represented by the formula (1) and has an average molecular weight of 3,000-100,000. In the formula (1), R1 is a hydrogen atom or a methyl group, and X is described as in the description, wherein R2 is a C1-2 alkyl group.
Abstract translation: 目的：提供用于化学放大光致抗蚀剂的光敏聚合物，其形成具有优异对比度特性的精细图案，具有高抗干蚀刻性，并且通过常规显影液进行图案化。 构成：用于化学放大光致抗蚀剂的光敏聚合物是由式（1）表示的一种甲基丙烯酸酯单体和另一种甲基丙烯酸酯单体的共聚物，其平均分子量为3,000-100,000。 在式（1）中，R 1是氢原子或甲基，X如描述中所述，其中R 2是C 1-2烷基。
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