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公开(公告)号：WO2022154291A1
公开(公告)日：2022-07-21
申请号：PCT/KR2021/019481
申请日：2021-12-21
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G06F16/332 , G06F16/33 , G06F40/30 , G06F40/284 , G06F16/2453 , G06F3/16 , G06N3/04 , G06N3/08
Abstract: 전자 장치가 제공된다. 본 개시에 따른 전자 장치는, 통신 인터페이스, 적어도 하나의 인스트럭션을 저장하는 메모리, 및 프로세서를 포함하고, 프로세서는, 사용자로부터 사용자 명령을 획득하여 복수의 외부 장치로 전송하고, 복수의 외부 장치로부터 제1 질문에 대한 정보 및 제1 응답에 대한 정보를 수신하고, 제1 응답에 대한 정보를 분석하여 제1 응답 간의 충돌이 발생하는 지 여부를 판단하고, 충돌이 발생된 것으로 판단되면 재질문 대상에 대한 정보를 획득하고, 적어도 하나의 외부 장치로 충돌에 대한 정보를 전송하고, 적어도 하나의 외부 장치로부터, 충돌에 대한 정보를 바탕으로 생성된 제2 질문에 대한 제2 응답에 대한 정보를 수신하고, 제1 응답에 대한 정보 및 제2 응답에 대한 정보를 바탕으로 최종 응답을 획득하고, 최종 응답을 출력할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2017069544A1
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：PCT/KR2016/011861
申请日：2016-10-21
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 개시는 LTE와 같은 4G 통신 시스템 이후 보다 높은 데이터 전송률을 지원하기 제공될 5G 또는 pre-5G 통신 시스템에 관련된 것이다. 본 발명은 무선통신 시스템에서 채널 추정 방법 및 장치에 관한 것으로서, 송신 장치의 동작 방법은, 제1 안테나를 통해 제1 기준 신호를 전송하는 동작; 및 제2 안테나를 통해 제2 기준 신호를 전송하는 동작을 포함하며, 제 1 기준 신호는 제1 골레이 시퀀스를 포함하며, 제 2 기준 신호는 제2 골레이 시퀀스를 포함한다.
Abstract translation: 本公开涉及将被提供以支持比诸如LTE的4G通信系统更高的数据速率的5G或5G前通信系统。 本发明涉及无线通信系统中的信道估计方法和设备，该方法包括：通过第一天线发送第一参考信号; 并且经由第二天线发射第二参考信号，其中第一参考信号包括第一格雷序列并且第二参考信号包括第二格雷序列。
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公开(公告)号：WO2022119179A1
公开(公告)日：2022-06-09
申请号：PCT/KR2021/016776
申请日：2021-11-16
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 전자 장치 및 이의 제어 방법이 제공된다. 본 전자 장치의 제어 방법은 인물 및 오브젝트를 포함하는 이미지를 획득하고, 오브젝트에 포함된 복수의 영역 각각에 대응되는 어포던스에 대한 특징값을 획득하도록 학습된 제1 뉴럴 네트워크에 획득된 이미지를 입력하여 이미지에 포함된 오브젝트의 복수의 영역에 대응되는 어포던스에 대한 제1 특징값을 획득하며, 획득된 제1 특징값을 바탕으로 오브젝트를 이용하는 인물의 행동을 인식한다.
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公开(公告)号：KR102255273B1
公开(公告)日：2021-05-24
申请号：KR1020190001302
申请日：2019-01-04
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본개시는딥러닝등의기계학습알고리즘을활용하는인공지능(AI) 시스템및 그응용에관련된것이다. 지도데이터를생성하는로봇청소장치는, 하나이상의인터페이스를저장하는메모리; 및상기하나이상의인터페이스를실행함으로써상기로봇청소장치를제어하는프로세서;를포함하며, 상기프로세서는, 상기하나이상의인터페이스를실행함으로써, 청소공간에관련된기본지도데이터를생성하고, 상기청소공간내의적어도하나의객체에대한객체정보를생성하며, 상기객체정보는, 상기로봇청소장치가상기청소공간내의서로다른복수의위치에서상기객체에대하여획득한정보에기초하여생성되며, 상기객체의종류및 위치에관한정보를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020170046489A
公开(公告)日：2017-05-02
申请号：KR1020150146893
申请日：2015-10-21
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본개시는 LTE와같은 4G 통신시스템이후보다높은데이터전송률을지원하기제공될 5G 또는 pre-5G 통신시스템에관련된것이다. 본발명은무선통신시스템에서채널추정방법및 장치에관한것으로서, 송신장치의동작방법은, 제1 안테나를통해제1 기준신호를전송하는동작; 및제2 안테나를통해제2 기준신호를전송하는동작을포함하며, 제 1 기준신호는제1 골레이시퀀스를포함하며, 제 2 기준신호는제2 골레이시퀀스를포함한다.
Abstract translation: 本公开涉及将被提供以支持诸如LTE之类的4G通信系统之后的更高数据速率的5G或5G之前的通信系统。 本发明涉及无线通信系统中的信道估计方法和设备，该方法包括：通过第一天线发送第一参考信号; 并且经由第二天线发送第二参考信号，其中，第一参考信号包括第一格雷序列，并且第二参考信号包括第二格雷序列。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020000004840A
公开(公告)日：2000-01-25
申请号：KR1019980031544
申请日：1998-08-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/7684 , C09K13/04 , H01L21/3212
Abstract: PURPOSE: A method of manufacturing semiconductor device, an etching solution components therefor, and a semiconductor device thereof are provided to simplify the manufacturing process, to improve reliability of the semiconductor device, and to reduce manufacturing cost. CONSTITUTION: According to the method, a tungsten film(122) and a poly-silicon film(262) re formed in an implanted contact hole(226). And then, a spin etching is performed to the tungsten film(122) and a poly-silicon film(262), so that a tungsten plug or a poly-silicon plug are manufactured. Here, the components of etching solution are an oxidation solution, a builder, and a buffer. The oxidation solution is at least one of H2O2, O2, IO-4, BrO3, CIO3, S2O-8, KIO3, H5IO6, KOH and HNO3. The builder is at least one of HF, NH4OH, H3PO4, H2SO4 and HCL.
Abstract translation: 目的：提供一种制造半导体器件的方法，其蚀刻溶液组分及其半导体器件，以简化制造工艺，提高半导体器件的可靠性并降低制造成本。 构成：根据该方法，在植入的接触孔（226）中形成钨膜（122）和多晶硅膜（262）。 然后，对钨膜（122）和多晶硅膜（262）进行旋转蚀刻，从而制造钨插塞或多硅插头。 这里，蚀刻溶液的成分是氧化溶液，助洗剂和缓冲剂。 氧化溶液是H 2 O 2，O 2，IO-4，BrO 3，CIO 3，S 2 -8，KIO 3，H 5 O 6，KOH和HNO 3中的至少一种。 助洗剂是HF，NH 4 OH，H 3 PO 4，H 2 SO 4和HCL中的至少一种。
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公开(公告)号：KR1020040000230A
公开(公告)日：2004-01-03
申请号：KR1020020035422
申请日：2002-06-24
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B08B7/0071 , B08B3/12 , C11D7/10 , C11D7/265 , C11D7/5013 , C11D11/0047 , C11D11/007
Abstract: PURPOSE: A cleaning solution and a method for cleaning ceramic components by using the same are provided to clean effectively the ceramic components including byproducts generated from a plasma process by changing ingredients of the cleaning solution. CONSTITUTION: A cleaning solution includes fluoride salt of 5 to 10 weight percent, organic acid of 10 to 20 weight percent, organic solvent of 30 to 50 weight percent, and water of 20 to 50 weight percent. The fluoride salt includes ammonium fluoride. The organic acid includes acetic acid. The organic solvent includes dimethyl acetamide. The cleaning solution further includes (NH3OH)2SO4 of 0 to 10 weight percent on the basis of the cleaning solution of 100 weight percent. A method for cleaning ceramic components by using the cleaning solution includes a soaking process(S12) for soaking the ceramic components into the cleaning solution, a rinsing process(S14) for rinsing the ceramic components, and a heat treatment process(S16) for heating the ceramic components.
Abstract translation: 目的：提供清洁溶液和通过使用其来清洁陶瓷组分的方法，以通过改变清洁溶液的成分来有效地清洁包括由等离子体工艺产生的副产物的陶瓷组分。 构成：清洗液含有5〜10重量％的氟化物盐，10〜20重量％的有机酸，30〜50重量％的有机溶剂，20〜50重量％的水。 氟化物盐包括氟化铵。 有机酸包括乙酸。 有机溶剂包括二甲基乙酰胺。 基于100重量％的清洁溶液，清洗溶液还包含0-10重量％的（NH 3 OH）2 SO 4。 通过使用清洗液清洗陶瓷部件的方法包括将陶瓷成分浸渍到清洗液中的均热处理（S12），对陶瓷成分进行漂洗的漂洗工序（S14）和加热用热处理工序（S16） 陶瓷组件。
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公开(公告)号：KR100271769B1
公开(公告)日：2001-02-01
申请号：KR1019980031544
申请日：1998-08-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/306
Abstract: 본 발명은 소정의 콘택홀 상에 상기 콘택홀을 매몰시키며, 소정 두께로 텅스텐막 또는 폴리실리콘막을 형성한 후, 상기 콘택홀내에 상기 텅스텐막 또는 폴리실리콘막이 존재하도록 특정의 식각액 조성물을 이용하여 스핀식각방법을 수행하여 상기 콘택홀 상부의 텅스텐막 또는 폴리실리콘막을 식각함으로서 텅스텐 플러그 또는 폴리실리콘 플러그를 제조하며, 층간절연막의 단차를 최소화할 수 있는 반도체소자의 제조방법, 이를 위한 반도체소자 제조용 식각액 조성물 및 반도체소자에 관한 것이다.
상기 식각액 조성물은 H
2 O
2 , O
2 , IO
4
- , BrO
3 , ClO
3 , S
2 O
8
- , KIO
3 , H
5 IO
6 , KOH 및 HNO
3 로 이루어진 그룹 중에서 선택되어진 적어도 하나 이상의 산화제 및 HF, NH
4 OH, H
3 PO
4 , H
2 SO
4 , HCl로 이루어진 그룹중에서 선택되어진 적어도 하나 이상의 증강제, 완충액을 소정의 비율로 혼합되어 이루어진다. 상기 완충액은 상기 식각액 조성물의 농도, 온도 및 콘택앵글을 제어하는 것으로 탈이온수가 바람직하다.
따라서, 반도체소자 제조시 제조공정의 단순화, 소자의 신뢰성 향상 및 제조공정의 원가를 절감시킬 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019980038789A
公开(公告)日：1998-08-17
申请号：KR1019960057717
申请日：1996-11-26
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김대훈
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은 측정하고자 하는 과산화수소수의 샘플내에 기포가 발생하지 않도록 함으로써 재현성이 높은 파티클측정이 가능한 반도체용 과산화수소수내 파티클 측정방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체용 과산화수소수내 파티클 측정방법은, 과산화수소수내의 파티클수를 측정함에 있어서, 과산화수소수로부터 샘플을 취하여 샘플병에 투입하는 단계, 투입단계 후 즉시로 30 내지 60초간에 걸쳐 측정기에 주입하는 단계 및 측정기에서 10 내지 30초간 진공배기시켜 샘플병에의 투입시 및 주입시에 발생한 기포를 제거하는 단계로 이루어진다.
따라서, 본 발명에 의하면 샘플링시간을 연장하여 기포를 충분히 제거할 수 있도록 함으로써 반도체용 과산화수소수내의 파티클수를 보다 정확하게 측정하는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1020170093508A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：KR1020160014997
申请日：2016-02-05
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04N21/43635 , H04N21/4307 , H04N21/4432 , H04N21/8106
Abstract: 오디오표시장치및 오디오표시방법이개시된다. 개시된실시예에따른오디오표시장치는, 오디오처리장치의초기화과정을수행하는제1 제어부, 및제1 제어부에서초기화과정이수행되는동안, 오디오처리장치와오디오출력장치의연결동작을수행하고, 오디오처리장치와오디오출력장치의연결완료를나타내는메시지를제1 제어부로전송하는제2 제어부를포함하고, 제1 제어부는제2 제어부로부터의연결완료를나타내는메시지에응답하여오디오출력장치로오디오출력동작을시작할수 있다.
Abstract translation: 公开了一种音频显示设备和音频显示方法。 根据该实施例的音频显示所公开的，而初始化过程在所述第一控制单元中执行，mitje第一控制单元，用于执行音频处理装置的初始化，执行音频处理单元的连接操作和音频输出装置和音频处理 设备和用于发送一条消息，表明一个连接已完成的音频输出装置与所述第一控制器和第一控制器，所述第二控制器通过robuteoui响应消息，指示一个连接已完成到开始音频输出操作的音频输出装置的第二控制单元 你可以。
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