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公开(公告)号：WO2020032624A1
公开(公告)日：2020-02-13
申请号：PCT/KR2019/009980
申请日：2019-08-08
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 오디오 장치 및 그 제어방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 스테레오 오디오 장치에서 음향 재생 품질을 개선하기 위한 센터 채널 생성 방법에 대한 기술에 관한 것이다. 일 실시예에 따른 오디오 장치는, 스테레오 오디오 신호의 좌측 채널 신호 및 우측 채널 신호를 수신하는 신호 수신부, 상기 수신된 좌측 채널 신호 및 우측 채널 신호 각각의 주파수 대역에 기초하여 미리 정해진 주파수를 초과하는 대역의 신호를 차단하는 적어도 하나의 필터 및 상기 필터를 통과한 좌측 채널 신호 및 우측 채널 신호에 기초하여 상기 스테레오 오디오 신호의 센터 채널 신호를 생성하고, 상기 필터를 통과한 좌측 채널 신호 및 우측 채널 신호간의 신호 레벨 감도를 산출하고, 상기 산출된 신호 레벨 감도에 기초하여 상기 좌측 채널 신호와 상기 우측 채널 신호의 유사도를 결정하고, 상기 결정된 유사도에 대응하여 상기 생성된 센터 채널 신호가 출력되도록 제어하는 제어부를 포함한다.
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公开(公告)号：WO2020036294A1
公开(公告)日：2020-02-20
申请号：PCT/KR2019/006545
申请日：2019-05-31
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04S3/00
Abstract: 스피커 장치가 개시된다. 본 스피커 장치는 제1 사운드 출력면이 구비된 제1 스피커, 제1 사운드 출력면과 기설정된 각도를 형성하는 제2 사운드 출력면이 구비된 제2 스피커 및 사운드 신호를 하이-패스 필터링하여 제1 사운드 성분을 획득하고, 제1 사운드 성분을 진폭 변조하여 변조된 제1 사운드 성분을 획득하며, 사운드 신호를 로우-패스 필터링하여 제2 사운드 성분을 획득하고, 변조된 제1 사운드 성분을 제1 스피커를 통해 출력하며, 제2 사운드 성분을 제2 스피커를 통해 출력하는 프로세서를 포함한다.
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公开(公告)号：KR1020170005859A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：KR1020167035322
申请日：2015-05-19
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 강현진 , 김민 , 알라가빤,무뚜비라판 , 홍영기
IPC: G06F3/0481 , G06F15/02 , H04L12/26 , G06F3/0488
CPC classification number: G06F3/04817 , G06F15/0225 , H04L43/04
Abstract: 본발명은, 이동통신단말에설치된어플리케이션패키지들을관리하는방법에있어서, 상기어플리케이션패키지들중 비활성화상태로의변경을위한조건을만족하는어플리케이션패키지를검출하는과정과, 상기검출된어플리케이션패키지가활성화상태이면, 상기검출된어플리케이션패키지에대응하는사용자인터페이스가, 상기어플리케이션패키지가비활성화상태임을나타내도록변경하고, 변경된사용자인터페이스를상기사용자화면에디스플레이하는과정을포함한다.
Abstract translation: 提供一种管理安装在移动通信终端中的应用程序包的方法。 该方法包括检测满足用于将应用程序包中的状态改变为非活动状态的条件的应用程序包，并且如果检测到的应用程序包处于活动状态，则更改与检测到的应用程序包相对应的用户界面以指示非活动状态 应用程序包的状态，并在用户屏幕上显示已更改的用户界面。
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公开(公告)号：KR1020160148943A
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：KR1020150085770
申请日：2015-06-17
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04R9/06 , H04R1/403 , H04R3/00 , H04R7/12 , H04R7/16 , H04R7/18 , H04R9/025 , H04R9/047 , H04R2209/022 , H04R2400/11 , H04R2499/11
Abstract: 본발명의실시예에따른스피커유닛은, 제1방향을따라휘어진곡면을가지는저면부및 제1방향을따라저면부의양측에마련된한 쌍의측면부를구비하는프레임과; 저면부의곡면을따라휘어져연장되며, 상호소정간격을두고배치되는복수의자석과; 한쌍의측면부에의해지지되며, 저면부의곡면과평행한면을따라휘어지며복수의자석의상면으로부터소정거리이격되도록마련되는진동판과; 진동판상에제1방향을따라복수의자석사이의간격에대응하는위치에마련되며, 음성신호의통전에따라복수의자석의자기장에의해진동판이프레임의바닥부의곡면에대하여수직한방향으로진동하도록구동시키는코일을포함하는것을특징으로한다.
Abstract translation: 扬声器装置包括具有沿着第一方向具有弯曲表面的底部和在第一方向上设置在底部的横向侧的一对侧部的框架; 沿着所述底部的弯曲表面弯曲并延伸的多个磁体，并被布置为彼此间隔开; 由所述一对侧部支撑的隔膜，与所述底部的弯曲表面平行弯曲，并且与所述多个磁体的顶表面间隔开预定距离; 以及线圈，其设置在所述隔膜上的与所述第一方向上的所述多个磁体之间的空间相对应的位置处，所述线圈被配置为驱动所述隔膜在垂直于所述框架的所述底部的弯曲表面的方向上振动， 由多个磁体形成的作为音频信号的场被电施加。
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公开(公告)号：KR1020160064524A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：KR1020140168230
申请日：2014-11-28
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: B65G47/5122 , B65G17/20 , B65G47/28 , Y10S209/937
Abstract: 컨베이어장치가개시된다. 개시된컨베이어장치는폐곡선을이루는레일; 상기레일을따라이동하는체인컨베이어; 상기체인컨베이어를구동하는구동부; 및상기체인컨베이어의적어도 2 부분의길이를상대적으로가변하여, 상기체인컨베이어가이동하는중에상기체인컨베이어의일부구간이미리설정된시간만큼제자리를유지하는제1 및제2 가변컨베이어부;를포함한다.
Abstract translation: 公开了一种传送装置。 所公开的输送装置包括：形成为闭合曲线的轨道; 沿着轨道移动的链条输送机; 驱动链式输送机的驱动部件; 以及第一和第二可变输送机部件，其通过相对改变链式输送机的两个或更多个部分的长度来维持链式输送机的一部分的原始位置预定时间，同时链式输送机被移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140123753A
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：KR1020130040982
申请日：2013-04-15
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N21/462 , H04N21/44
CPC classification number: H04N21/6131 , H04N21/23805 , H04N21/26216 , H04N21/26241 , H04W4/00
Abstract: 본 발명은 무선 통신 시스템에서 적어도 하나의 비디오 트래픽에 포함된 RTP(Real-Time Applications Protocol) 헤더의 페이로드 타입(Payload Type) 필드를 기반으로 코덱(Codec) 정보를 검출하고, 상기 검출된 코덱 정보를 기반으로 프레임 레이트(Frame Rate)를 판단하고, 상기 적어도 하나의 비디오 트래픽에 포함된 비디오 프레임의 개수를 카운트하고, 상기 프레임 레이트와 상기 비디오 프레임의 개수를 사용하여 상기 적어도 하나의 비디오 트래픽의 재생 시간을 예측하고, 상기 예측된 재생 시간을 기반으로 상기 적어도 하나의 비디오 트래픽에 대한 스케줄링을 수행한다.
Abstract translation: 一种用于在无线通信系统中调度视频业务的方法包括以下步骤：基于包括在至少一个视频业务中的实时应用协议（RTP）头部的有效载荷类型字段来检测编解码器信息; 基于检测到的编解码信息确定帧速率; 计算包括在所述至少一个视频业务中的视频帧的数量; 使用所述帧速率和所述视频帧的数量预测所述至少一个视频业务的再现时间; 以及基于所预测的再现时间执行所述至少一个视频业务的调度。
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公开(公告)号：KR1020100106812A
公开(公告)日：2010-10-04
申请号：KR1020090025023
申请日：2009-03-24
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: PURPOSE: An inline coating system is provided to obtain a work target object on which depositing and coating are completely made within short time. CONSTITUTION: An inline coating system includes the following units. A depositing device(4) deposits metal on a work target object. A coating device(5,7) coats paint on the work target object. The coating device and the depositing device are arranged in series. A pre-processing device(1) removes foreign materials from the surface of the work target object. A primer coating device(2) forms primer coating.
Abstract translation: 目的：提供在线涂层系统，以获得在短时间内完全沉积和涂层的工作目标物体。 构成：在线涂装系统包括以下单元。 沉积设备（4）将金属沉积在工件目标物体上。 涂覆装置（5,7）在工件目标物体上涂漆。 涂布装置和沉积装置串联布置。 预处理装置（1）从工作目标物体的表面去除异物。 底漆涂布装置（2）形成底漆涂层。
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公开(公告)号：KR1020100106116A
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：KR1020090024579
申请日：2009-03-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/203
Abstract: PURPOSE: An in-line sputtering system is provided to load/unload workpiece in a loading/unloading process chamber by forming a plurality chambers in circle. CONSTITUTION: An in-line sputtering system comprises a plurality of chambers which successively advances a process for coating a workpiece(W) through sputtering. A transfer rail(12) is extended to the circumference direction of the in-line sputtering system. A transfer bracket(13) is installed in the transfer rail and is movable. The workpiece is temporarily fixed to the transfer bracket. A plurality of holders(14) is installed on the transfer bracket. The workpiece is temporarily fixed to the holder. A plurality of transfer pulleys(13a) are pivotally installed in the lower unit of the transfer bracket.
Abstract translation: 目的：提供在线溅射系统，通过以圆形形成多个室，在装载/卸载处理室中装载/卸载工件。 构成：在线溅射系统包括多个腔室，其连续地前进通过溅射涂覆工件（W）的工艺。 传送轨道（12）延伸到直列式溅射系统的圆周方向。 传送支架（13）安装在传送轨道中并可移动。 工件暂时固定到转移支架上。 多个保持器（14）安装在转移支架上。 工件暂时固定在支架上。 多个传送滑轮（13a）枢转地安装在转移支架的下部单元中。
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公开(公告)号：KR100705400B1
公开(公告)日：2007-04-10
申请号：KR1020010050718
申请日：2001-08-22
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/28
Abstract: 도전 물질이 확산되어 저지막과 반응함으로서 발생되는 공정 불량을 방지하는 반도체 장치의 배선 형성 방법이 개시되어 있다. 도전성 물질이 매립되어 있는 홀 또는 트랜치로 이루어지는 제1 도전체 패턴을 구비하는 제1 절연막을 형성한다. 상기 제1 절연막의 상부에 산소와 실리콘이 1: 1.7 이하로 조성되는 실리콘 산 질화막으로 이루어지는 저지막을 형성한다. 상기 저지막 상에 제2 절연막을 형성한다. 상기 제1 절연막 및 저지막의 소정 부위를 연속적으로 식각하여 상기 제1 도전체 패턴의 상부면의 일부를 노출시키는 콘택홀을 형성한다. 상기 콘택홀의 내부 및 상기 제2 절연막의 상부면에 연속적으로 금속 베리어막을 형성한다. 그리고 상기 금속 베리어 막이 형성된 콘택홀을 매몰하면서 도전성 물질을 증착시킨다. 이 때 상기 조성을 갖는 저지막은 도전성 물질과의 반응이 억제되기 때문에 상기 저지막이 도전체로 변성하는 것을 방지할 수 있고, 이에 따라 배선 형성 시의 공정 불량을 최소화 할 수 있다.
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公开(公告)号：KR100624083B1
公开(公告)日：2006-09-19
申请号：KR1020000026317
申请日：2000-05-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판 표면상에 존재하는 파티클을 포함하는 오염 물질을 제거하기 위한 반도체 제조에 사용하는 세정 장치가 개시된다. 척에 놓여지는 기판을 회전시킨다. 그리고 브러시를 사용하여 상기 기판 표면을 브러싱할 때 상기 기판 표면에 물을 분사한다. 이때 흡입부는 상기 표면으로부터 제거되는 오염 물질을 흡입한다. 상기 기판내에서 이동하는 오염 물질을 제거한다.
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