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公开(公告)号：KR102233577B1
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：KR1020140021687A
申请日：2014-02-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , G03F7/26 , G03F7/38 , H01L21/0337 , H01L21/31058 , H01L21/02164 , H01L21/02277
Abstract: 반도체 소자의 패턴 형성 방법으로, 기판 상에 하드 마스크막을 형성한다. 상기 하드 마스크막 상에 포토레지스트막을 코팅한다. 상기 포토레지스트막에 대해 노광 및 현상하여 제1 포토레지스트 패턴을 형성한다. 상기 제1 포토레지스트 패턴의 표면에 유기 용매를 접촉시키는 스무징 공정을 수행하여 제2 포토레지스트 패턴을 형성한다. 상기 제2 포토레지스트 패턴의 표면 프로파일을 따라 원자층 증착막을 형성한다. 상기 원자층 증착막이 형성된 제2 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 이용하여, 상기 원자층 증착막 및 하드 마스크막을 식각하여 하드 마스크 패턴을 형성한다. 상기 공정에 의하면, 거칠기 특성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2019039669A1
公开(公告)日：2019-02-28
申请号：PCT/KR2017/014786
申请日：2017-12-15
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 개시는 LTE(Long Term Evolution)와 같은 4G(4 th generation) 통신 시스템 이후 보다 높은 데이터 전송률을 지원하기 위한 5G(5 th generation) 또는 pre-5G 통신 시스템에 관련된 것이다. 본 개시는 무선 통신 시스템에서 빔 운용(beam management)에 관한 것으로, 기지국의 동작 방법은, 제1 종(type) 기준 신호들을 송신하는 과정과, 상기 제1 종 기준 신호들에 대한 피드백 정보를 수신하는 과정과, 상기 피드백 정보에 기반하여 할당된 제2 종 기준 신호들을 위한 자원에 대한 정보를 적어도 하나의 단말에게 송신하는 과정과, 상기 자원을 통해 상기 제2 종 기준 신호들을 송신하는 과정을 포함하며, 상기 제2 종 기준 신호들은, 상기 기지국에서 고정된 송신 빔을 이용하여 송신될 수 있다. 본 연구는 2017년도 정부(과학기술정보통신부)의 재원으로 '범부처 Giga KOREA 사업'의 지원을 받아 수행된 연구이다(No.GK17N0100, 밀리미터파 5G 이동통신 시스템 개발).
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公开(公告)号：WO2021029487A1
公开(公告)日：2021-02-18
申请号：PCT/KR2019/015114
申请日：2019-11-08
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 디스플레이 장치는 디스플레이 패널의 후방을 커버하며, 케이블이 고정되는 케이블 고정홀을 포함하는 리어 케이스, 상기 케이블과 연결되며, 상기 리어 케이스에 체결되어 상기 케이블이 상기 리어 케이스에 연결되도록 하는 커넥터, 상기 케이블의 일부를 감싸도록 마련되며, 상기 케이블 고정홀에 고정되어 상기 케이블이 상기 리어 케이스에 고정되도록 하는 케이블 홀더 및 상기 케이블 홀더를 상기 케이블 고정홀에 고정시키는 클램프를 포함하고. 상기 클램프는, 상기 케이블 고정홀에 고정되는 제1후크, 상기 제1후크와 비대칭 형상을 갖도록 마련되며, 상기 제1후크보다 큰 고정력을 갖도록 상기 케이블 고정홀에 고정되는 제2후크를 포함한다.
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公开(公告)号：KR102233577B1
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：KR1020140021687
申请日：2014-02-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 반도체소자의패턴형성방법으로, 기판상에하드마스크막을형성한다. 상기하드마스크막상에포토레지스트막을코팅한다. 상기포토레지스트막에대해노광및 현상하여제1 포토레지스트패턴을형성한다. 상기제1 포토레지스트패턴의표면에유기용매를접촉시키는스무징공정을수행하여제2 포토레지스트패턴을형성한다. 상기제2 포토레지스트패턴의표면프로파일을따라원자층증착막을형성한다. 상기원자층증착막이형성된제2 포토레지스트패턴을식각마스크로이용하여, 상기원자층증착막및 하드마스크막을식각하여하드마스크패턴을형성한다. 상기공정에의하면, 거칠기특성이우수한패턴을형성할수 있다.
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公开(公告)号：KR101901720B1
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：KR1020120033867
申请日：2012-04-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본발명은전자장치및 더미장치의연동에관한것으로서, 상기전자장치의동작은, 물리적결합을통해상기더미장치와연동하는과정, 호(call)가착신되면, 상기더미장치와무선연결을설정하는과정, 상기무선연결을통해상기더미장치와연동하는과정을포함한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101915064B1
公开(公告)日：2018-11-05
申请号：KR1020120092609
申请日：2012-08-23
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H01L41/0825 , G02F1/133305 , G06F1/1652 , G06F3/016 , G06F3/0412 , H01L41/042 , H01L41/0926
Abstract: 플렉서블장치가개시된다. 본장치는, 벤딩가능한특성을가지는바디(body)부, 바디부에서서로이격되어매트릭스형태로배치된복수의압전체를포함한다. 여기서, 복수의압전체각각은순차적으로적층된상부압전층, 중간층및 하부압전층을포함한다. 이에따라, 상황에따라적절하게플렉서블장치의형상을변형시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR101873787B1
公开(公告)日：2018-07-03
申请号：KR1020110011772
申请日：2011-02-10
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06F3/0412 , G06F3/0485 , G06F3/04883 , G06F2203/04104
Abstract: 본발명은종속되는하위창을구성할수 있는응용프로그램들이멀티태스킹된터치스크린단말기에서멀티터치입력처리방법을제공하고, 상기방법은터치플리킹발생을감지하고상기터치플리킹이함께발생한개수를확인하는단계및 상기개수에따라서해당응용프로그램에서개시된하위창들간을전환시키거나, 응용프로그램들간을전환시키는단계를포함하는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR101782649B1
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：KR1020110040015
申请日：2011-04-28
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04M1/72563 , G06F1/1632 , G06F3/0481 , G06F3/04817 , G06F9/44505 , H04M1/72525 , H04M1/72527 , H04M1/7253 , H04M1/72583
Abstract: 본발명은휴대단말기에서외부악세사리에대한어플리케이션제공장치및 방법에관한것으로, 특히휴대단말기에연결되는외부악세사리의종류에따라관련된어플리케이션들을표시할수 있는휴대단말기에서외부악세사리에대한어플리케이션제공장치및 방법에관한것이다.이를달성하기위해휴대단말기에서, 복수의홈 스크린들중 상기휴대단말기에연결된외부액세서리의종류에대응되는홈 스크린을표시하는표시부; 및상기복수의홈 스크린들각각을외부액세서리의종류에대응된홈 스크린으로매칭하고, 상기휴대단말기와연결된상기외부악세사리의종류를감지하며, 상기복수의홈 스크린들중 상기휴대단말기와연결된외부액세서리의종류에대응되는홈 스크린을표시하는제어부를포함하는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR1020170075438A
公开(公告)日：2017-07-03
申请号：KR1020150185090
申请日：2015-12-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/42 , H01L21/311 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0337 , C11D1/00 , C11D11/0047 , G03F7/42 , H01L21/0274 , H01L21/0332
Abstract: 포토리소그래피용린스액은소수성기를포함하는주쇄와, 주쇄로부터분기되고적어도하나의친수성기 함유작용기를가지는복수의측쇄를포함하는분기형구조의화합물로이루어지는계면활성제를포함한다. 집적회로소자를제조하기위하여, 포토레지스트패턴을형성한후, 소수성기를포함하는주쇄와, 적어도하나의친수성기 함유작용기를가지는복수의측쇄를포함하는분기형구조의화합물로이루어지는계면활성제를포함하는린스액을포토레지스트패턴에인가한다.
Abstract translation: 用于光刻冲洗溶液包括包含支链结构的化合物，包括主链和含有疏水基团的表面活性剂，和从主链分支的多个具有至少一个亲水基的官能团的侧链的。 集成，以产生电路元件，形成一个光致抗蚀剂图案之后，漂洗包括含有支链结构的化合物，包括含有疏水基团，具有至少一个亲水性基团的官能团的多个侧链的主链的表面活性剂 该溶液被施加到光致抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：KR1020160068499A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：KR1020140174331
申请日：2014-12-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: C08F214/14 , C08F214/16 , C08F214/18 , C08G75/26 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/34 , G03F7/004 , H01L21/027 , Y10S430/106
Abstract: 포토레지스트용고분자는에스테르그룹을포함하는제1 이탈기, 및상기제1 이탈기와함께제거반응가능한제2 이탈기를포함하는반복단위가중합되어제조될수 있다. 광화학반응에의해유도되는제거반응에의해고해상도의노광공정또는포토공정을구현할수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种光致抗蚀剂用聚合物，形成图案的方法以及半导体装置的制造方法。 用于光致抗蚀剂的聚合物由重复单元合成，包括：包含酯基的第一离去基团; 和能够与第一离去基团进行消除反应的第二离去基团。 可以通过光化学反应诱导的消除反应来实现高分辨率的曝光过程或照相过程。
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